呼吸面罩系统技术方案

技术编号:20018299 阅读:38 留言:0更新日期:2019-01-06 00:40
一种呼吸面罩系统,其包括面罩接口,面罩接口包括用于头套组合件的框架。框架包括主体,主体包括第一表面和大致相对的第二表面。主体还包括气体入口和可选的出气口。气体入口可以为大致椭圆形的形状。框架可以包括凹入区域,凹入区域用于接收头套组合件的轭架以将头套附接到面罩接口。呼吸面罩系统还可以包括用于附接到框架的轭架。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】呼吸面罩系统通过引用并入任何优先权申请在本申请中提交的申请数据表中标识了外国或国内优先权要求的任何和所有申请通过引用并入本文中,并且构成本公开的一部分。背景
本公开总体涉及用于向患者输送呼吸治疗的呼吸面罩系统。更具体地,本公开涉及呼吸面罩系统的各种构件。
技术介绍
呼吸面罩用于为患有多种呼吸道疾病或病症的人的气道提供呼吸治疗。这种理疗可以包括但不限于持续气道正压通气(CPAP)治疗和无创通气(NIV)治疗。CPAP治疗可以用于治疗阻塞性睡眠呼吸暂停(OSA),这是一种患者的气道在睡眠过程中间歇性地塌陷的情况,阻止患者呼吸一段时间。呼吸停止或呼吸暂停导致患者醒来。重复和频繁的呼吸暂停可能导致患者很少得到充分和恢复性夜间睡眠。CPAP治疗涉及经由呼吸面罩输送持续的正气压供给患者的气道。持续的正气压充当患者气道内的夹板,其将气道固定在打开位置,使得患者的呼吸和睡眠不会中断。呼吸面罩通常包括患者接口和头套,其中患者接口配置成经由密封件或衬垫给患者的气道输送连续的正气压,该密封件或衬垫在患者的鼻子和/或嘴中或周围形成气密密封。呼吸面罩有多种款式可供选择,包含全面罩、鼻罩、直接口鼻罩,其可与鼻子和/或嘴形成气密密封。密封件或衬垫通过头带在患者面部上保持就位。为了保持气密密封,头带应该为患者接口提供支撑,使得其在使用过程中相对于患者的面部保持在稳定位置。这种呼吸面罩也可用于输送NIV和其他治疗。
技术实现思路
本文中描述的系统和设备具有创新方面,其中没有单独一个是必不可少的或者单独地负责它们期望的价值。在没有限制权利要求的范围的情况下,现在将概述一些有利的特征。在第一方面,本专利技术提供了一种呼吸面罩系统,其包括面罩接口,所述面罩接口包括用于头套组合件的框架,其中,框架包括主体,框架的主体包括第一表面和大致相对的第二表面;并且其中,框架的主体还包括气体入口和出气口。在一个实施形式中,框架配置成使得气体入口与垂直方向形成约10°至45°的角度。气体入口可以具有大致椭圆形的形状,其中气体入口沿着框架的长度大致纵向地就位。在一个实施形式中,框架可以包括由大致连续的边缘限定的开口,该边缘由从框架的后表面突出的密封凸缘提供。气体入口可以是大致椭圆形的形状。优选地,大致椭圆形的气体入口在框架的左侧和右侧之间纵向延伸。面罩接口还可以包括配置成附接到框架的密封件。密封件可以包括前表面和后表面以及可以与框架的进气口大致对应的进气口。密封件的进气口可以包括配置成附接到密封凸缘的大致连续的唇部。在一个实施形式中,框架的气体入口包括分离件,分离件在连续的边缘上的两个大致相对的点之间延伸,以将开口分成气体入口和出气口。可选地,密封件形成密封组合件的一部分,密封组合件还包括内夹持件和外夹持件,内夹持件和外夹持件每个都包括颈圈,该颈圈包括进气口,其中内夹持件还包括分隔件,分隔件跨过内夹持件的进气口以将开口分成进进气孔口和通气孔口。内夹持件可以附接到框架的密封凸缘上,使得进气孔口与框架的气体入口大致对齐并且通气孔口与框架的通气孔口大致对齐。优选地,密封凸缘包括内夹持件的一部分可以保持于其内的一个或多个凹部。在一个实施形式中,内夹持件包括围绕其外周边的至少一部分延伸的钩状凸缘,而外夹持件也包括围绕其周边的至少一部分延伸的钩状凸缘。内夹持件和外夹持件可以附接在一起,以使每个夹持件的钩状凸缘彼此面对并在其间形成密封通道。密封件可以包括配置成保持在密封通道内的大致连续的唇部。在一个实施形式中,当框架在使用中时,出气口可以位于气体入口上方。在另一个实施形式中,当框架在使用中时,出气口可以位于气体入口下方。可选地,气体入口和出气口沿着框架的长度大致居中定位。优选地,扩散器位于出气口内。在一个实施形式中,呼吸面罩系统还包括头套组合件,头套组合件包括配置成附接到框架的轭架。框架可以包括轭架可以保持在其内的凹入区域。在第二方面,本专利技术提供了一种呼吸面罩系统,其包括面罩接口,面罩接口包括用于头套组合件的框架,其中,框架包括主体,框架的主体包括前表面和大致相对的后表面,其中,主体的前表面包括凹入区域,头套组合件的轭架可以定位于凹入区域内。在一个实施形式中,凹入区域可以包括大致延伸穿过框架的长度的通道。优选地,通道配置成在框架在使用中时大致水平地穿过框架。通道可以包括:两个侧区域,每个侧区域位于通道的一相对端部处;以及位于两个侧区域之间的大致中心的区域。在一个实施形式中,通道可以包括从框架的主体的任一侧延伸的延伸部件。优选地,框架包括气体入口。气体入口可以包括大致椭圆形的形状,其中,气体入口沿着框架的长度大致纵向地就位。优选地,框架还包括出气口。在一个实施形式中,出气口的至少一部分可以位于通道内。可选地,整个出气口可以位于通道内。出气口可以包括扩散器。优选地,框架从左到右大致向外弯曲。在一个实施形式中,框架的前表面从顶部到底部大致向外弯曲。在一个实施形式中,通道可以包括形成上表面的第一壁、形成下表面的与第一壁大致相对的第二壁、以及形成在第一壁和第二壁之间延伸的后表面的通道底板。在另一个实施形式中,通道由后表面和下表面组成。优选地,通道的下表面包括凹入区域。凹入区域可以大致与出气口相邻地定位。在一个实施形式中,通道的上表面可以包括凹入区域。上表面的凹入区域可以大致与出气口相邻地定位。在一个实施形式中,通道的下表面可以朝向通道的后表面向内弯成一角度。在一个实施形式中,通道的上表面可以朝向通道的后表面向内弯成一角度。在一个实施形式中,通道的后表面的高度可以大致由通道的上表面和下表面之间的距离限定。优选地,通道的后表面在其中心区域处的高度小于通道在一个或两个侧区域处的高度。在一个实施形式中,通道的下表面可以具有大致由通道的后表面和第二边缘的远端端部之间的距离限定的深度。优选地,下表面在通道的中心区域中的深度大于在侧区域处的深度。在一个实施形式中,框架可以包括用于将头套轭架附接到框架的至少一个附接特征。在一个实施形式中,至少一个附接特征可以包括附接孔口、磁体或附接凸舌。在一个实施形式中,至少一个附接特征可以位于通道的后表面上。在一个实施形式中,所述至少一个附接特征可以是位于通道的后表面上的附接孔口。在一个实施形式中,附接孔口可以位于通道的后表面的每个侧区域处。所述至少一个附接孔口可以配置成接收头套轭架的突出附接特征,以将头套轭附接到框架。在一个实施形式中,至少一个附接特征包括位于框架的通道中的至少一个磁体。优选地,所述至少一个磁体位于通道的后表面上。在一种实施形式中,多个磁体位于通道的后表面上。优选地,磁体彼此等间距地间隔开。磁体可以沿着沿通道的长度延伸的中心线定位。替代地,磁体可以定位到沿着通道的长度延伸的中心线的一侧。在一个实施形式中,磁体可以到通道的上表面比到通道的下表面更近。可选地,通道可以包括一个或多个凹部,一个或多个突出凸缘可以位于凹部中。在一个实施形式中,所述至少一个附接特征包括延伸穿过所述通道的至少一部分的至少一个附接凸舌。优选地,至少一个附接凸舌从通道的上表面或下表面延伸并朝向大致相对的通道表面突出。在一个实施形式中,附接突出部从通道的上表面突出,并且凹部设置在附接凸舌的后表面和通道的后表面之间。在一个实施形式中,所述至少一个附接特征包括闩锁,闩锁从通道的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种呼吸面罩系统,该呼吸面罩系统包括面罩接口,该面罩接口包括用于头套组合件的框架,其中,该框架包括主体,该框架的主体包括第一表面和大致相对的第二表面;并且其中,该框架的主体还包括气体入口和出气口。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.15 US 62/308,654;2016.04.18 US 62/324,139;1.一种呼吸面罩系统,该呼吸面罩系统包括面罩接口,该面罩接口包括用于头套组合件的框架,其中,该框架包括主体,该框架的主体包括第一表面和大致相对的第二表面;并且其中,该框架的主体还包括气体入口和出气口。2.一种呼吸面罩系统,该呼吸面罩系统包括面罩接口,该面罩接口包括框架,其中,该框架包括主体,该框架的主体包括前表面和大致相对的后表面;其中,所述前表面包括凹入区域,所述头套组合件的轭架能定位在该凹入区域内。3.一种呼吸面罩系统,该呼吸面罩系统包括用于头套组合件的轭架,其中,该轭架包括主体,该轭架的主体包括:前表面,该前表面的宽度由该轭架的顶表面和底表面之间的距离限定,该前表面的长度由该轭架的相对端部之间的距离限定;以及位于两个侧部分之间的中间部分,所述侧部分位于所述轭架的端部处或附近,其中,所述轭架在该中间部分处的宽度小于所述轭架在所述侧部分处的宽度。4.一种呼吸面罩系统,该呼吸面罩系统包括用于头套组合件,其中,所述呼吸面罩系统包括面罩接口,该面罩接口包括框架,该框架包括主体,该框架的主体包括:第一表面和大致相对的第二表面;该框架的主体还包括气体入口和出气口;并且其中,该呼吸面罩系统还包括用于头套组合件的轭架,其中,该轭架包括主体,该轭架的主体包括:前表面,该前表面的宽度由轭架的顶表面和底表面之间的距离限定,并且该前表面的长度由该轭架的相对端部之间的距离限定;以及位于两个侧部分之间的中间部分,该侧部分位于该轭架的端部处或附近,其中,所述轭架在该中间部分处的宽度小于所述轭架在所述侧部分处的宽度。5.一种呼吸面罩系统,该呼吸面罩系统包括用于头套组合件,其中,该呼吸面罩系统包括面罩接口,该面罩接口包括框架,其中,该框架包括主体,该框架的主体包括前表面和大致相对的后表面,其中,该前表面包括凹入区域,头套组合件的轭架能定位在该凹入区域内;并且其中,该呼吸面罩系统还包括用于头套组合件的轭架,其中,该轭架包括主体,该轭架的主体包括:前表面,该前表面的宽度由该轭架的顶表面和底表面之间的距离限定,并且该前表面的长度由该轭架的相对端部之间的距离限定;以及位于两个侧部分之间的中间部分,所述侧部分位于轭架的端部处或附近,其中,所述轭架在该中间部分处的宽度小于所述轭架在所述侧部分处的宽度。6.一种呼吸面罩系统,该呼吸面罩系统包括:面罩框架,该面罩框架包括:配置成在使用中联接到气体管道的入口;纵向延伸穿过所述面罩框架的轭架通道,该轭架通道由上壁、后壁和下壁限定;和从所述上壁向下突起到所述轭架通道中的保持隆起部;以及配置成至少部分地布置在所述轭架通道中的轭架,该轭架包括位于该轭架的上表面中的保持槽口,其中,所述保持隆起部配置成当所述轭架和所述面罩框架联接在一起时卡扣装配到所述保持槽口中。7.根据权利要求6所述的呼吸面罩系统,其中,所述保持槽口沿着所述轭架的前壁和顶壁之间的角部定位。8.根据权利要求6所述的呼吸面罩系统,其中,所述轭架包括轭架前部和联接到所述轭架前部的轭架后部。9.根据权利要求8所述的呼吸面罩系统,其中,所述轭架前部包括所述保持槽口。10.一种呼吸面罩系统,该呼吸面罩系统包括:面罩框架,该面罩框架包括:配置成在使用中联接到气体管道的入口;纵向延伸穿过所述面罩框架的轭架通道,该轭架通道由上壁、后壁和下壁限定;和凹入到所述后壁中并沿着所述轭架通道的长度延伸的防旋转凹槽;和配置成至少部分地布置在所述轭架通道中的轭架,所述轭架包括从所述轭架向后突出的舌件,其中,所述舌件配置成当所述轭架和所述面罩框架联接在一起时布置在所述防旋转凹槽中,其中,所述防旋转凹槽和所述舌件之间的相互作用配置成禁止所述轭架从所述面罩框架的旋转脱离。11.根据权利要求10所述的呼吸面罩系统,其中,所述轭架包括联接到轭架后部的轭架前部。12.根据权利要求11所述的呼吸面罩系统,其中,所述舌件包括从所述轭架前部延伸的前舌件和从所述轭架后部延伸的后舌件。13.根据权利要求12所述的呼吸面罩系统,其中,所述前舌件布置在所述后舌件下方,使得所述前舌件的上表面邻接所述后舌件的下表面。14.一种配置成联接到呼吸面罩系统的面罩框架的轭架,该轭架包括:从第一侧向端部延伸到第二侧向端部的前壁;从第一侧向端部延伸到第二侧向端部的后壁,所述前壁和所述后壁之间限定一内腔室;联接到所述前壁和所述后壁的第一侧向端部的第一端盖和联接到所述前壁和所述后壁的第二侧向端部的第二端盖,每个端盖都包括配置成接收自调节头套机构的丝体的丝体进入孔;与所述第一端盖相邻的布置在所述前壁和所述后壁之间的第一垫圈壳体;与所述第二端盖相邻的布置在所述前壁和所述后壁之间的第二垫圈壳体;和将所述内腔室分隔成上线轨和下线轨的线轨分隔件,其中,所述上线轨在所述第二垫圈壳体上方从所述第一垫圈壳体延伸到所述第二端盖,并且其中,所述下线轨在所述第一垫圈壳体下方从所述第二垫圈壳体延伸到所述第一端盖。15.根据权利要求14所述的轭架,其中,所述轭架包括:轭架前部,该轭架前部包括前壁;以及轭架后部,该轭架后部包括后壁,并且所述轭架前部和所述轭架后部联接在一起。16.根据权利要求15所述的轭架,其中,所述上线轨至少部分地由所述轭架前部的上壁和所述线轨分隔件限定,并且所述下线轨至少部分地由所述轭架前部的下壁和所述线轨分隔件限定。17.一种用于呼吸面罩系统的鼻密封件,该鼻密封件包括:限定入口并至少部分地限定该鼻密封件的使用者接触表面的主体部分;由所述主体部分支撑并配置成与使用者的鼻孔接合的一对鼻腔插管;其中,所述主体部分包括在该鼻密封件的上部分上在所述一对鼻腔插管之间横向延伸的桥部分,其中所述桥部分限定在所述鼻密封件的前表面和后表面之间的桥深度,其中,所述桥深度小于该鼻密封件的总深度的一半。18.根据权利要求17所述的鼻密封件,其中,所述鼻密封件的最后点位于所述一对鼻腔插管的最后表面的后面。19.根据权利要求17或18所述的鼻密封件,其中,所述桥深度小于或等于所述总深度的五分之二。20.根据权利要求19所述的鼻密封件,其中,所述桥深度是所述总深度的三分之一。21.根据权利要求17至20中任一项所述的鼻密封件,其中,所述桥深度等于或小于15mm、13.5mm或11mm。22.根据权利要求17至21中任一项所述的鼻密封件,其中,所述总深度等于或小于35mm、32.5mm或30mm。23.根据权利要求17至22中任一项所述的鼻密封件,其中,等于或大于1mm的壁厚限于该鼻密封件的外侧壁或前壁。24.根据权利要求23所述的鼻密封件,其中,上壁和所述外侧壁之间的过渡部或...

【专利技术属性】
技术研发人员:M·C·博恩霍尔特J·M·唐尼B·M·沃斯A·L·吉尔伯特J·E·柯林斯C·O·L·伊波利托T·M·理查森S·S·J·萧J·P·奥康纳C·J·拉尔戈T·W·斯皮尔M·R·斯蒂芬森P·M·弗雷斯通J·B·霍金
申请(专利权)人:费雪派克医疗保健有限公司
类型:发明
国别省市:新西兰,NZ

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