像素界定结构及其制备方法、OLED器件技术

本发明专利技术提供一种像素界定结构及其制备方法、OLED器件，所述制备方法包括：提供一基板；通过构图工艺在基板上形成像素界定薄膜；对像素界定薄膜的顶部进行表面处理，形成具有亲水性的第一像素界定层和具有疏水性的第二像素界定层。本发明专利技术提出的像素界定结构的制备方法制备得到的像素界定薄膜的第一像素界定层具有亲水性，第二像素界定层具有疏水性，使得第一像素界定层与有机发光材料墨水的接触角较小、第二像素界定层与有机发光材料墨水的接触角较大，从而能够减少咖啡环效应，形成膜厚均匀的有机电致发光薄膜，同时由于第二像素界定层具有疏水性，能够避免不同的有机发光材料墨水流入相邻的像素区而造成混色，改善OLED器件的性能。

Pixel Definition Structure, Preparation Method and OLED Device

The invention provides a pixel defining structure, a preparation method and an OLED device. The preparation method includes: providing a substrate; forming a pixel defining film on the substrate by a composition process; surface treating the top of the pixel defining film to form a hydrophilic first pixel defining layer and a hydrophobic second pixel defining layer. The first pixel boundary layer of the pixel boundary film prepared by the preparation method of the pixel boundary structure of the invention has hydrophilicity, and the second pixel boundary layer has hydrophobicity, which makes the contact angle between the first pixel boundary layer and the organic light-emitting material ink smaller, and the contact angle between the second pixel boundary layer and the organic light-emitting material ink larger, thereby reducing the coffee ring effect. Organic electroluminescent thin films with uniform thickness and hydrophobicity of the second pixel boundary layer can avoid the mixing of different organic light-emitting materials ink into adjacent pixel regions and improve the performance of OLED devices.

【技术实现步骤摘要】
像素界定结构及其制备方法、OLED器件
本专利技术涉及有机电致发光二极管显示
，尤其涉及一种像素界定结构及其制备方法、OLED器件。
技术介绍
有机电致发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)具有自发光、可弯折、视角广、寿命长、节能环保等特点。现有的OLED类型主要包括蒸镀型和印刷型，蒸镀型OLED的成本较高，而印刷型OLED的成本较低且易于大尺寸化，因此，印刷型OLED得到业界广泛的关注。印刷型OLED制作关键在于将有机发光材料墨水准确滴入由像素界定层形成的像素坑中，以获得膜厚均匀的有机电致发光薄膜。现有的印刷型OLED在制作过程中，像素界定层为亲水性材料，将会导致有机电致发光薄膜的膜厚不均匀，如图1a所示，像素界定层为疏水性材料，将会导致有机电致发光薄膜边缘漏电以及膜厚不均匀，如图1b所示。因此，现有技术还有待改进。
技术实现思路
为了解决上述问题，本专利技术提供一种像素界定结构及其制备方法、OLED器件，能够提高有机电致发光薄膜厚度的均匀性，同时避免不同颜色的像素间发生混色，改善OLED器件的性能。本专利技术提出的具体技术方案为：提供一种像素界定结构的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：提供一基板；通过构图工艺在所述基板上形成像素界定薄膜，所述像素界定薄膜具有亲水性，像素区由所述像素界定薄膜限定；对所述像素界定薄膜的顶部进行表面处理，形成具有亲水性的第一像素界定层和具有疏水性的第二像素界定层，所述第一像素界定层位于所述第二像素界定层与所述基板之间。进一步地，对所述像素界定薄膜的顶部进行表面处理具体包括：通过构图工艺在所述像素区形成光阻层；对所述像素界定薄膜的顶部进行化学表面处理或物理表面处理。进一步地，所述构图工艺包括曝光、显影工艺。本专利技术还提供了一种像素界定结构，所述像素界定结构是由如上任一所述的制备方法制备得到。进一步地，所述第一像素界定层与有机发光材料墨水的接触角小于60°。进一步地，所述第二像素界定层与有机发光材料墨水的接触角大于120°。进一步地，所述第一像素界定层的材质为有机材料，所述第二像素界定层的材质为无机材料。进一步地，所述像素界定薄膜呈梯形。本专利技术还提供了一种OLED器件，所述OLED器件包括有机电致发光薄膜及如上任一所述的像素界定结构，所述有机电致发光薄膜位于所述像素区。进一步地，所述有机电致发光薄膜包括第一电极、空穴注入层、发光层、电子注入层、第二电极，所述第一电极、空穴注入层、发光层、电子注入层、第二电极沿着远离所述基板的方向依次叠层设置于所述基板上。本专利技术提出的像素界定结构的制备方法制备得到的像素界定结构包括基板、像素界定薄膜，所述像素界定薄膜包括第一像素界定层、第二像素界定层，第一像素界定层具有亲水性，第二像素界定层具有疏水性，使得第一像素界定层与有机发光材料墨水的接触角较小、第二像素界定层与有机发光材料墨水的接触角较大，从而能够减少咖啡环效应，形成膜厚均匀的有机电致发光薄膜，同时由于第二像素界定层具有疏水性，能够避免不同的有机发光材料墨水流入相邻的像素区而造成混色，改善OLED器件的性能。附图说明下面结合附图，通过对本专利技术的具体实施方式详细描述，将使本专利技术的技术方案及其它有益效果显而易见。图1a～1b为现有的像素界定结构的示意图图2为本专利技术的像素界定结构的示意图；图3为本专利技术的OLED器件的结构示意图；图4a～4h为本专利技术的OLED器件的制备流程图。具体实施方式以下，将参照附图来详细描述本专利技术的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本专利技术，并且本专利技术不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本专利技术的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本专利技术的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。在附图中，相同的标号将始终被用于表示相同的元件。本实施例中的像素界定结构可以应用于OLED器件中，也可以应用于量子点发光(QuantumDotLightEmittingDiodes，QLED)器件中，下面以像素界定结构应用于OLED器件为例来对本专利技术的像素界定结构进行详细描述。参照图2，像素界定结构1包括基板11、像素界定薄膜12，像素界定薄膜12包括第一像素界定层10、第二像素界定层20，第一像素界定层10、第二像素界定层20沿着远离基板11的方向依次叠层设置于基板11上，即第一像素界定层10位于第二像素界定层20与基板11之间，第一像素界定层10具有亲水性，第二像素界定层20具有疏水性。第二像素界定层20表现为疏水性，对有机发光材料墨水产生排斥作用，第二像素界定层20与有机发光材料墨水的接触角较大，当对像素界定薄膜12限定的像素区100内喷墨打印时，即使有机发光材料墨水偏离像素区100也会在排斥作用下流入像素区100内。第一像素界定层10表现为亲水性，对有机发光材料墨水产生吸引作用，第一像素界定层10与有机发光材料墨水的接触角较小，当有机发光材料墨水喷到像素区100后将会形成膜厚均匀的有机电致发光薄膜，同时由于第二像素界定层20具有疏水性，能够避免不同的有机发光材料墨水流入相邻的像素区100而造成混色。具体地，基板11包括TFT阵列层11a和透明电极层11b，透明电极层11b设于TFT阵列层11a上，透明电极层11b为ITO薄膜。较佳地，第一像素界定层10的亲水性能够使得第一像素界定层10与有机发光材料墨水的接触角小于60°，其中，第一像素界定层10与有机发光材料墨水的接触角指的是沿有机发光材料墨水表面的切线与第一像素界定层10的表面所成的夹角(如图1中的角α)，这样，可以更进一步地对有机发光材料墨水产生吸引作用。这里，第一像素界定层10的表面指的是第一像素界定层10朝向像素界定薄膜12限定的像素区100的一面。第二像素界定层20的疏水性能够使得第二像素界定层20与有机发光材料墨水的接触角大于120°，其中，第二像素界定层20与有机发光材料墨水的接触角指的是沿有机发光材料墨水表面的切线与第二像素界定层20的表面所成的夹角(如图1中的角β)，这样，可以更进一步地对有机发光材料墨水产生排斥作用。这里，第二像素界定层20的表面指的是第二像素界定层20朝向像素区100的一面。较佳地，第一像素界定层10的材质为有机材料，例如，聚酰亚胺或聚乙烯醇类，第二像素界定层20的材质为无机材料，例如，苯乙酮类或氟化聚酰亚胺。第一像素界定层10的极性与有机发光材料墨水的极性相同，更进一步增加了对有机发光材料墨水的吸引作用；第二像素界定层20的极性与有机发光材料墨水的极性相反，更进一步增加了对有机发光材料墨水的排斥作用。本实施例中的像素界定薄膜12呈梯形，第一像素界定层10和第二像素界定层20均呈梯形，由像素界定薄膜12限定的像素区100呈倒置的梯形。本实施例中整个像素界定薄膜12的厚度为0.5～2um，第二像素界定层20的厚度为0.1～1um，当然，第一像素界定层10和第二像素界定层20的厚度可以根据实际需要设定。结合图3，本实施例提供的OLED器件包括有机电致发光薄膜2及如上所述的像素界定结构1，有机电致发光薄膜2位于像素界定薄膜12限定的像素区100中。有机电致发光薄膜2包括第一电极21、空穴注入层22、发光层23、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种像素界定结构的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：提供一基板；通过构图工艺在所述基板上形成像素界定薄膜，所述像素界定薄膜具有亲水性，像素区由所述像素界定薄膜限定；对所述像素界定薄膜的顶部进行表面处理，形成具有亲水性的第一像素界定层和具有疏水性的第二像素界定层，所述第一像素界定层位于所述第二像素界定层与所述基板之间。

【技术特征摘要】
1.一种像素界定结构的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：提供一基板；通过构图工艺在所述基板上形成像素界定薄膜，所述像素界定薄膜具有亲水性，像素区由所述像素界定薄膜限定；对所述像素界定薄膜的顶部进行表面处理，形成具有亲水性的第一像素界定层和具有疏水性的第二像素界定层，所述第一像素界定层位于所述第二像素界定层与所述基板之间。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，对所述像素界定薄膜的顶部进行表面处理具体包括：通过构图工艺在所述像素区形成光阻层；对所述像素界定薄膜的顶部进行化学表面处理或等物理表面处理。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述构图工艺包括曝光、显影工艺。4.一种像素界定结构，其特征在于，所述像素界定结构是由权利要求1～3任一所述的制备方法制备得到。5.根据权利要求4所述的像素界定结构，...

【专利技术属性】
技术研发人员：周凯锋，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44