一种基板承托盘制造技术

本发明专利技术提供一种基板承托盘，包括盘体；其中，所述盘体的表面的中部区域或/和边缘区域上朝上设置有支撑针。通过支撑针对基板的中部区域和边缘部位进行承托，减小基板向下弯曲变形的形变量，防止基板与曝光平台接触产生摩擦后导致曝光平台镜面化。

A Substrate Support Pallet

The invention provides a base plate support tray, comprising a tray body, in which a support needle is arranged upward in the middle area or/or the edge area of the surface of the tray body. By supporting the middle and edge parts of the substrate, the deformation of the substrate bending downward can be reduced, and the friction between the substrate and the exposure platform can be prevented, resulting in the mirror of the exposure platform.

【技术实现步骤摘要】
一种基板承托盘
本专利技术涉及基板曝光
，尤其涉及一种基板承托盘。
技术介绍
在液晶面板的的制造过程中，会多次利用构图工艺。具体为，在涂有光刻胶的基板上方放置掩膜板，然后利用曝光机对基板进行曝光。利用曝光机对基板进行曝光的过程中，将基板放在承托盘上，利用机械手臂将基板和承托盘一并搬运至曝光平台。然而，在实际曝光过程中，基板易在自身重力作用下向下产生弯曲变形与曝光平台接触，导致取放基板时基板与曝光平台之间产生磨擦，长久持续磨擦导致曝光平台上的镀膜层磨损，从而导致曝光平台镜面化后造成产品不良。
技术实现思路
本专利技术提供一种基板承托盘，以解决基本易与曝光平台之间产生接触磨擦造成曝光平台镜面化的技术问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：一种基板承托盘，包括：盘体；其中，所述盘体的表面的中部区域或/和边缘区域上朝上设置有支撑针。优选的，所述盘体包括框体和与框体固定连接并呈网格状的支撑架，位于所述盘体的中部区域的支撑针设置在支撑架上。优选的，位于所述盘体的中部区域的支撑针按阵列分布有至少一排和至少一列。优选的，所述支撑架包括横向支撑条和纵向支撑条，相邻两个所述横向支撑条之间的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板承托盘，其特征在于，所述基板承托盘包括：盘体；其中，所述盘体的表面的中部区域或/和边缘区域上朝上设置有支撑针。

【技术特征摘要】
1.一种基板承托盘，其特征在于，所述基板承托盘包括：盘体；其中，所述盘体的表面的中部区域或/和边缘区域上朝上设置有支撑针。2.根据权利要求1所述的基板承托盘，其特征在于，所述盘体包括框体和与框体固定连接并呈网格状的支撑架，位于所述盘体的中部区域的支撑针设置在支撑架上。3.根据权利要求2所述的基板承托盘，其特征在于，位于所述盘体的中部区域的支撑针按阵列分布有至少一排和至少一列。4.根据权利要求3所述的基板承托盘，其特征在于，所述支撑架包括横向支撑条和纵向支撑条，相邻两个所述横向支撑条之间的间距大于相邻两排所述支撑针之间的间距。...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑杰，朱青，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44