一种基板承托盘制造技术

本发明专利技术提供一种基板承托盘，包括盘体；其中，所述盘体的表面的中部区域或/和边缘区域上朝上设置有支撑针。通过支撑针对基板的中部区域和边缘部位进行承托，减小基板向下弯曲变形的形变量，防止基板与曝光平台接触产生摩擦后导致曝光平台镜面化。

A Substrate Support Pallet

The invention provides a base plate support tray, comprising a tray body, in which a support needle is arranged upward in the middle area or/or the edge area of the surface of the tray body. By supporting the middle and edge parts of the substrate, the deformation of the substrate bending downward can be reduced, and the friction between the substrate and the exposure platform can be prevented, resulting in the mirror of the exposure platform.

【技术实现步骤摘要】
一种基板承托盘
本专利技术涉及基板曝光
，尤其涉及一种基板承托盘。
技术介绍
在液晶面板的的制造过程中，会多次利用构图工艺。具体为，在涂有光刻胶的基板上方放置掩膜板，然后利用曝光机对基板进行曝光。利用曝光机对基板进行曝光的过程中，将基板放在承托盘上，利用机械手臂将基板和承托盘一并搬运至曝光平台。然而，在实际曝光过程中，基板易在自身重力作用下向下产生弯曲变形与曝光平台接触，导致取放基板时基板与曝光平台之间产生磨擦，长久持续磨擦导致曝光平台上的镀膜层磨损，从而导致曝光平台镜面化后造成产品不良。
技术实现思路
本专利技术提供一种基板承托盘，以解决基本易与曝光平台之间产生接触磨擦造成曝光平台镜面化的技术问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：一种基板承托盘，包括：盘体；其中，所述盘体的表面的中部区域或/和边缘区域上朝上设置有支撑针。优选的，所述盘体包括框体和与框体固定连接并呈网格状的支撑架，位于所述盘体的中部区域的支撑针设置在支撑架上。优选的，位于所述盘体的中部区域的支撑针按阵列分布有至少一排和至少一列。优选的，所述支撑架包括横向支撑条和纵向支撑条，相邻两个所述横向支撑条之间的间距大于相邻两排所述支撑针之间的间距。优选的，相邻两个所述纵向支撑条之间的间距大于相邻两列所述支撑针之间的间距。优选的，位于所述盘体的中部区域的支撑针散乱分布。优选的，位于所述盘体的边缘区域的支撑针绕盘体周侧分布有至少一圈。优选的，所述支撑针的高度为1～4mm。优选的，所述支撑针的顶端为球面。优选的，所述支撑针与盘体一体成型。本专利技术的有益效果为：通支撑针对基板的中部区域和边缘部位进行承托，减小基板向下弯曲变形的形变量，防止基板与曝光平台接触产生摩擦后导致曝光平台镜面化。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术具体实施方式中盘体的结构示意图；图2为本专利技术一优选实施方式中第一支撑针和第二支撑针的结构示意图；图3为本专利技术另一优选实施方式中第一支撑针和第二支撑针的结构示意图；图4为本专利技术实施例二中第一支撑针的分布示意图。附图标记：10、盘体；11、框体；12、支撑架；121、横向支撑条；122、纵向支撑条；20、第一支撑针；30、第二支撑针。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。本专利技术针对现有的基板承托盘，在基板曝光过程中，基板易在自身重力作用下向下产生弯曲变形与曝光平台接触，导致取放基板时基板与曝光平台之间产生磨擦，从而导致曝光平台镜面化后造成产品不良的技术问题，本专利技术可以解决上述问题。实施例一：一种基板承托盘，如图1和图2所示，所述基板承托盘包括盘体10；其中，所述盘体10的表面的中部区域上固定设置有多个第一支撑针20。可以理解的是，基板放置在盘体10上进行曝光时，一般基板的中部区域是向下弯曲变形的主要发生区，通过第一支撑针20对基板的中部区域进行承托，防止基板的中部区域向下产生弯曲变形与曝光平台接触，从而防止取放基板时基板与曝光平台之间产生磨擦导致曝光平台镜面化后造成产品不良。其中，所述盘体10的表面的边缘区域上还朝上设置有多个第二支撑针30。通过第二支撑针30承托基板边缘，通过第一支撑针20与第二支撑针30配合,从而增大基板与盘体10之间的间距，避免基板与曝光平台接触。具体的，所述盘体10包括框体11和与框体11固定连接并呈网格状的支撑架12，所述第一支撑针20设置在支撑架12上。通过设置网格状的支撑架12，能对基板起到良好承托作用的同时，减小盘体10的整体重量和制造材料成本。在本优选实施方式中，所述第一支撑针20按阵列排布，且所述第一支撑针20按阵列分布有至少一排和至少一列。需要说明的是，在本实施例附图中列举了第一支撑针20按5列×2行分布的情况，可以理解的是，在具体实施中，第一支撑针20的分布也可为其他排列方式，如3列×2行、5列×5行或10列×8行等。所述支撑架12包括横向支撑条121和纵向支撑条122，相邻两个所述横向支撑条121之间的间距大于相邻两排所述第一支撑针20之间的间距，相邻两个所述纵向支撑条122之间的间距大于相邻两列所述第一支撑针20之间的间距。提高基板支撑点的密度，从而对基板起到更好的承托作用，防止基板的中部区域向下弯曲与曝光平台接触。所述第二支撑针30绕盘体10周侧分布有至少一圈。通过在盘体10周侧均设置第二支撑针30，对基板起到更好承托作用的同时，使基板放置的更加平稳。具体的，所有所述第一支撑针20均设置在横向支撑条121与纵向支撑条122的相交结点处。需要说明的是，在本实施例附图中列举了第二支撑针30设置有2圈的情况，在具体实施中，第二支撑针30也可为1圈、3圈或4圈等。需要说明的是，所述第二支撑针30可均匀分布，也可散乱分布。具体的，所述第一支撑针20的高度为1～4mm，在本优选实施方式中，所述第一支撑针20的高度优选为2mm。在实际生产中，基板厚度一般为0.5mm，而在实际生产过程中发现，对于厚度为0.5mm的基板，将基板放置在承托盘上时，基板中部区域向下弯曲变形的距离约为1.5mm，通过将第一支撑针20的高度设为2mm，在防止基板与曝光平台接触的同时，减少生产成本。在本专利技术一本优选实施方式中，如图2所示，所述第一支撑针20和第二支撑针30均优选为沿竖向设置。在本专利技术另一优选实施方式中，如图3所示，所述第一支撑针20和第二支撑针30均倾斜朝上设置。具体的，所述第一支撑针20和第二支撑针30的顶端均为球面。通过第一支撑针20和第二支撑针30对基板进行承托，通过将第一支撑针20和第二支撑针30的顶端设为球面，减小第一支撑针20和第二支撑针30与基板接触处的压力，防止对基板造成磨损。所述第一支撑针20与第二支撑针30均与盘体10一体成型。提高第一支撑针20和第二支撑针30与盘体10的连接强度，从而提高第一支撑针20和第二支撑针30的支撑强度，防止第一支撑针20和第二支撑针30与盘体10脱离。实施例二：一种基板承托盘，如图4所示，其与实施例一的不同之处仅在于所述第一支撑针20的排布方式不同；其中，所述第一支撑针20的排布方式为散乱排布。本专利技术的有益效果为：通过第一支撑针20和第二支撑针30配合，对基板的中部区域和边缘部位进行承托，减小基板向下弯曲变形的形变量，防止基板与曝光平台接触产生摩擦后导致曝光平台镜面化。综上所述，虽然本专利技术已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本专利技术，本领域的普通技术人员，在不脱离本专利技术的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本专利技术的保护范围以权利要求界定的范围为准。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板承托盘，其特征在于，所述基板承托盘包括：盘体；其中，所述盘体的表面的中部区域或/和边缘区域上朝上设置有支撑针。

【技术特征摘要】
1.一种基板承托盘，其特征在于，所述基板承托盘包括：盘体；其中，所述盘体的表面的中部区域或/和边缘区域上朝上设置有支撑针。2.根据权利要求1所述的基板承托盘，其特征在于，所述盘体包括框体和与框体固定连接并呈网格状的支撑架，位于所述盘体的中部区域的支撑针设置在支撑架上。3.根据权利要求2所述的基板承托盘，其特征在于，位于所述盘体的中部区域的支撑针按阵列分布有至少一排和至少一列。4.根据权利要求3所述的基板承托盘，其特征在于，所述支撑架包括横向支撑条和纵向支撑条，相邻两个所述横向支撑条之间的间距大于相邻两排所述支撑针之间的间距。...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑杰，朱青，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44