等离子体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够获得均匀的等离子体空间的等离子体处理装置。等离子体处理装置包括：处理容器、载置台、遮护部件、开口用的可升降的闸门、第1驱动部和第2驱动部。处理容器具有侧壁，在该侧壁形成有被处理体的搬入搬出用的输送通路。载置台设置在处理容器内。遮护部件以包围盖载置台的方式沿上述侧壁的内表面设置。在该遮护部件形成有面对输送通路的开口。第1驱动部使闸门升降。第2驱动部使闸门相对于遮护部件在前后方向移动。

Plasma processing unit

【技术实现步骤摘要】
等离子体处理装置
本专利技术涉及一种等离子体处理装置。
技术介绍
在半导体器件等电子器件的制造中，使用等离子体处理装置对被处理体进行等离子体处理。等离子体处理包括利用处理气体的等离子体进行的蚀刻、成膜等各种处理。等离子体处理中使用的等离子体处理装置，包括划分出等离子体处理空间的处理容器。在该处理容器的侧壁形成有被处理体的搬入搬出用的输送通路。另外，保护处理容器的侧壁内表面的遮护部件(depositshield，沉积物遮护件)，沿该侧壁内表面设置。为了被处理体的搬入搬出，在该遮护部件上形成有与输送通路相对的开口。而且，能够开闭遮护部件的开口的可升降的闸门，设置于侧壁内表面与遮护部件之间。闸门在关闭遮护部件的开口时仅与遮护部件的接触部接触。接触部是具有导电性的合金。这样的等离子体处理装置例如记载在日本特开2015-95543号公报(专利文献1)中。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015-95543号公报
技术实现思路
专利技术想要解决的技术问题专利文献1中记载的等离子体处理装置，通过用合金形成闸门与遮护部件的接触部，使闸门与遮护部件的电连接变得稳定。这样的电稳定有助于形成均匀的等离本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于对被处理体进行等离子体处理的等离子体处理装置，其特征在于，包括：具有侧壁的处理容器，该侧壁形成有被处理体的搬入搬出用的输送通路；设置于所述处理容器内的载置台；以包围所述载置台的方式沿所述侧壁的内表面设置的遮护部件，其形成有面对所述输送通路的开口；所述遮护部件的开口用的可升降的闸门；使所述闸门升降的第1驱动部；和使所述闸门相对于所述遮护部件在前后方向移动的第2驱动部。

【技术特征摘要】
2017.06.23 JP 2017-1228771.一种用于对被处理体进行等离子体处理的等离子体处理装置，其特征在于，包括：具有侧壁的处理容器，该侧壁形成有被处理体的搬入搬出用的输送通路；设置于所述处理容器内的载置台；以包围所述载置台的方式沿所述侧壁的内表面设置的遮护部件，其形成有面对所述输送通路的开口；所述遮护部件的开口用的可升降的闸门；使所述闸门升降的第1驱动部；和使所述闸门相对于所述遮护部件在前后方向移动的第2驱动部。2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述第2驱动部具有将所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：砂金优，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP