一种波导结构制作方法技术

本发明专利技术公开一种波导结构制作方法，制作方法具体包括以下步骤：1）在超薄光学片上，使用飞秒激光刻写出光波导芯片阵列，其中超薄光学片的厚度小于100um；2）使用飞秒激光将超薄光学片进行切割，形成多个光波导芯片。本发明专利技术通过在超薄光学片上使用飞秒激光器刻写出高折射率的光波导，由于光学片超薄，可以近似认为高斯光束强度在纵向是均匀分布的，从而有效地解决现有技术中激光光束强度纵向分布不均的问题。

A Fabrication Method of Waveguide Structure

The invention discloses a method for fabricating a waveguide structure, which comprises the following steps: 1) on an ultra-thin optical chip, an array of optical waveguide chips is written by femtosecond laser, in which the thickness of the ultra-thin optical chip is less than 100 um; 2) a plurality of optical waveguide chips are formed by cutting the ultra-thin optical chip by femtosecond laser. The method uses femtosecond laser to write high refractive index optical waveguide on ultra-thin optical sheet. Because the optical sheet is ultra-thin, it can be approximately considered that the intensity of Gauss beam is uniformly distributed in the longitudinal direction, thus effectively solving the problem of uneven longitudinal distribution of laser beam intensity in the prior art.

【技术实现步骤摘要】
一种波导结构制作方法
本专利技术涉及激光领域，尤其涉及一种波导结构制作方法。
技术介绍
光波导制作的现有技术，包括光刻法、反应离子刻蚀以及高能离子注入等，均属于平面二维技术，需要的处理步骤很多，大都需要设计掩模，而激光直写技术则很方便，不需要掩模，且一步完成，可以很方便地刻写出三维波导。在激光刻波导技术中，紫外激光和飞秒激光均是较好的直写激光光源。紫外激光作为刻写光源主要缺陷在于玻璃对紫外光的吸收较大，进而限制了穿透距离(<1mm)，而飞秒激光则不存在这个问题。在刻蚀熔石英的光波导中，使用飞秒激光刻写，波导质量更好，插损更低，刻写区域和非刻写区域之间的折射率差别更大。目前飞秒激光直写技术已被成功应用在多种光波导、光栅和光耦合器等光学器件的制作中。如图1所示，由于飞秒激光高斯光束聚焦在纵向会有一个分布，如果待刻写材料较厚，就会导致在材料的不同深度刻写出的效果会差别很大，束腰处折射率变化量会最大，由束腰位置向上下折射率变化量会逐渐减小，尤其在横向(即待刻写材料沿着垂直于飞秒激光光束的方向移动)刻写光波导的过程中这个问题会更加明显。
技术实现思路
为了解决现有技术中的不足，本专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种波导结构制作方法，其特征在于：所述制作方法具体包括以下步骤：1）在超薄光学片上，使用飞秒激光刻写出光波导芯片阵列，其中超薄光学片的厚度小于100um；2）使用飞秒激光将超薄光学片进行切割，形成多个光波导芯片。

【技术特征摘要】
1.一种波导结构制作方法，其特征在于：所述制作方法具体包括以下步骤：1）在超薄光学片上，使用飞秒激光刻写出光波导芯片阵列，其中超薄光学片的厚度小于100um；2）使用飞秒激光将超薄光学片进行切割，形成多个光波导芯片。2.根据权利要求1所述的一种波导结构制作...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴砺，贺坤，方向一，孙正国，
申请(专利权)人：福州高意光学有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35