【技术实现步骤摘要】
等离子体处理装置
本专利技术的各个侧面和实施方式涉及一种等离子体处理装置。
技术介绍
以往以来,已知一种使用等离子体来对半导体晶圆等被处理基板进行蚀刻等的等离子体处理的等离子体处理装置。这样的等离子体处理装置的用于载置被处理基板的载置台具有通过传热将被处理基板控制为规定温度的温度控制功能。作为该温度控制功能,大多使用在载置台组装通过通电而发热的发热体并控制发热体所产生的焦耳热的加热器方式。然而,当等离子体处理装置采用加热器方式时,为了生成等离子体而从高频电源向载置台施加的高频的一部分作为噪声从发热体进入加热器供电线。因此,本申请的申请人在专利文献1中提出一种在加热器供电线上设置用于减弱或阻止高频的噪声的滤波器的技术。该滤波器具有空芯线圈、收容或包围空芯线圈的筒形的外导体、以及向空芯线圈的各个卷线间隙选择性地插入的绝缘性的梳齿构件。在滤波器的空芯线圈存在有效区间,该有效区间是通过改变卷线间隙而在频率-阻抗特性中使特定的一个或多个并联谐振频率产生位移的区间。针对滤波器的空芯线圈,在有效区间向卷线间隙插入梳齿构件,以得到与作为切断对象的噪声的频率对应的并联谐振频率。专利 ...
【技术保护点】
1.一种等离子体处理装置,具有经由线路而与进行等离子体处理的处理容器内的规定的电构件电连接的电力系统或信号系统的外部电路,通过设置在所述线路上的滤波器来减弱或阻止从所述电构件朝向所述外部电路进入所述线路的噪声,所述等离子体处理装置的特征在于,所述滤波器具有:线圈,其具有固定的口径和固定的线圈长度;筒形的外导体,其收容或包围所述线圈,与所述线圈组合而形成以多个频率进行并联谐振的分布常数线路;以及可动件,其配置在相对于所述线圈存在于所述线圈的长度方向上的一个或多个有效区间内,用于变更所述线圈的各个卷线间隙,所述有效区间是通过变更所述线圈的卷线间隙而在所述滤波器的频率‑阻抗特性中 ...
【技术特征摘要】
2017.06.21 JP 2017-1216991.一种等离子体处理装置,具有经由线路而与进行等离子体处理的处理容器内的规定的电构件电连接的电力系统或信号系统的外部电路,通过设置在所述线路上的滤波器来减弱或阻止从所述电构件朝向所述外部电路进入所述线路的噪声,所述等离子体处理装置的特征在于,所述滤波器具有:线圈,其具有固定的口径和固定的线圈长度;筒形的外导体,其收容或包围所述线圈,与所述线圈组合而形成以多个频率进行并联谐振的分布常数线路;以及可动件,其配置在相对于所述线圈存在于所述线圈的长度方向上的一个或多个有效区间内,用于变更所述线圈的各个卷线间隙,所述有效区间是通过变更所述线圈的卷线间隙而在所述滤波器的频率-阻抗特性中使特定的一个或多个并联谐振频率向高频区域侧或低频区域侧产生位移的区间。2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,针对所述线圈的卷线的各单匝线圈,以相对于彼此相邻的单匝线圈改变在卷线的周向上的配置位置的方式设置有所述可动件。3.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置,其特征在于,所述可动件由绝缘材质形成。4.根据权利要求1至3中的任一项所述的等离子体处理装置,其特征在于,针对所述线圈的卷线的各单匝线圈,在卷线的周向上以规定的角度差设置有多个所述可动件,所述可动件对各单匝线圈同步地进行变更卷线间隙的动作。5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置,其特征在于,针对所述线圈的卷线的各单匝线圈,在卷线的周向上以180°的角度差设置有两个所述可动件、或者在卷线的周向上以120°的角度差设置有三个所述可动件。6.根据权利要求1至3中的任一项所述的等离子体处理装置,其特征在于,针对成为所述有效区间的两...
【专利技术属性】
技术研发人员:林大辅,金子健吾,小泉克之,
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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