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一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法技术

技术编号:19925089 阅读:20 留言:0更新日期:2018-12-29 01:44
本发明专利技术公开了一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法,包括以下重量份的材料:电气石粉1~5份、三聚氰胺树脂100~120份、硫酸钡4~6份、高硬度耐磨粉5~30份、去离子水20~30份、成膜助剂0.8~1份,分散剂2~3份、钛白粉10~20份、消泡剂0.5~1份、重钙5~10份、pH调节剂0.5~1份、增亮剂1~10份、防霉剂0.5~1份,水洗高岭土5~10份防腐剂0.5~1份。

【技术实现步骤摘要】
一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法
本专利技术涉及建筑材料领域,特别是一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法。
技术介绍
近年来,随着人们的生活水平的提高,居室装修产品得到迅速发展,对提供地板基材保护的产品需求随之快速增多,同时人们对环保、健康、美观有了更高更迫切的需求。在家庭装修中,地板是必不可少的存在,在家庭装修中占据的位置越来越重要。地板膜目前是家装建材里应用比较广泛的一种包装材料,用于保护地面,保护成品地板不受到损坏。家居装修的整个过程中,涉及的环节众多,前面的施工如果没有做好成品保护的话,会给后续的施工和使用造成不必要的麻烦和损失。在瓷砖或者地板上增加了地板膜后,就可以有效的避免了摩擦磕碰造成的损失。对于地板膜来说,现有的地板膜只是考虑到了耐磨这一特性,而没有其他附加特性,比如净化空气,释放对人体有益的负氧离子。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法。本专利技术的目的通过以下技术方案来实现:一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法,包括以下重量份的材料:电气石粉1~5份、三聚氰胺树脂100~120份、硫酸钡4~6份、高硬度耐磨粉5~30份、去离子水20~30份、成膜助剂0.8~1份,分散剂2~3份、钛白粉10~20份、消泡剂0.5~1份、重钙5~10份、pH调节剂0.5~1份、增亮剂1~10份、防霉剂0.5~1份,水洗高岭土5~10份防腐剂0.5~1份;其制备方法为;S1、将电气石粉加入三聚氰胺树脂中置于高速搅拌机中进行搅拌,在40~50℃、250r/min下搅拌10~20分钟,在转动的过程中依次加入去离子水、高硬度耐磨粉、硫酸钡、钛白粉、重钙、水洗高岭土、消泡剂、防霉剂、防腐剂、pH调节剂、增亮剂、成膜助剂,提高转速至500r/min;S2、待固体完全溶解之后将混合物置于55~60℃的真空箱中脱泡3~4h,得到混合溶液;S3、将混合溶液经过涂膜机涂膜,在蒸馏水中玻璃后用去离子水浸泡18~20h,在置于60~70℃的烘箱中即得大理石纹路膜。具体地,所述的消泡剂为矿物油。具体地,所述的分散剂为聚丙烯酸胺盐。具体地,所述的pH调节剂为有机胺。具体地,所述的防腐剂为异嗟噻啉酮。本专利技术的有益效果如下:本专利技术的地板膜具有大理石的纹路,美观的同时还耐磨、防霉和防腐,耐用,同时该地板膜还能释放负氧离子,对人体有益。具体实施方式但本专利技术的保护范围不局限于以下所述。实施例一、一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法,其特征在于:包括以下重量份的材料:电气石粉1份、三聚氰胺树脂100份、硫酸钡4份、高硬度耐磨粉5份、去离子水20份、成膜助剂0.8份,分散剂2份、钛白粉10份、消泡剂0.5份、重钙5份、pH调节剂0.5份、增亮剂1份、防霉剂0.5份,水洗高岭土5份防腐剂0.5份;其制备方法为;S1、将电气石粉加入三聚氰胺树脂中置于高速搅拌机中进行搅拌,在40~50℃、250r/min下搅拌10~20分钟,在转动的过程中依次加入去离子水、高硬度耐磨粉、硫酸钡、钛白粉、重钙、水洗高岭土、消泡剂、防霉剂、防腐剂、pH调节剂、增亮剂、成膜助剂,提高转速至500r/min;S2、待固体完全溶解之后将混合物置于55~60℃的真空箱中脱泡3~4h,得到混合溶液;S3、将混合溶液经过涂膜机涂膜,在蒸馏水中玻璃后用去离子水浸泡18~20h,在置于60~70℃的烘箱中即得大理石纹路膜。进一步地,所述的消泡剂为矿物油。进一步地,所述的分散剂为聚丙烯酸胺盐。进一步地,所述的pH调节剂为有机胺。进一步地,所述的防腐剂为异嗟噻啉酮。实施例二、一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法,其特征在于:包括以下重量份的材料:电气石粉5份、三聚氰胺树脂120份、硫酸钡6份、高硬度耐磨粉30份、去离子水30份、成膜助剂1份,分散剂3份、钛白粉20份、消泡剂1份、重钙10份、pH调节剂1份、增亮剂10份、防霉剂1份,水洗高岭土10份防腐剂1份;其制备方法为;S1、将电气石粉加入三聚氰胺树脂中置于高速搅拌机中进行搅拌,在40~50℃、250r/min下搅拌10~20分钟,在转动的过程中依次加入去离子水、高硬度耐磨粉、硫酸钡、钛白粉、重钙、水洗高岭土、消泡剂、防霉剂、防腐剂、pH调节剂、增亮剂、成膜助剂,提高转速至500r/min;S2、待固体完全溶解之后将混合物置于55~60℃的真空箱中脱泡3~4h,得到混合溶液;S3、将混合溶液经过涂膜机涂膜,在蒸馏水中玻璃后用去离子水浸泡18~20h,在置于60~70℃的烘箱中即得大理石纹路膜。进一步地,所述的消泡剂为矿物油。进一步地,所述的分散剂为聚丙烯酸胺盐。进一步地,所述的pH调节剂为有机胺。进一步地,所述的防腐剂为异嗟噻啉酮。实施例三、一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法,其特征在于:包括以下重量份的材料:电气石粉2.5份、三聚氰胺树脂110份、硫酸钡5份、高硬度耐磨粉20份、去离子水25份、成膜助剂0.9份,分散剂2.5份、钛白粉15份、消泡剂0.7份、重钙7份、pH调节剂0.7份、增亮剂5份、防霉剂0.7份,水洗高岭土7份防腐剂0.7份;其制备方法为;S1、将电气石粉加入三聚氰胺树脂中置于高速搅拌机中进行搅拌,在40~50℃、250r/min下搅拌10~20分钟,在转动的过程中依次加入去离子水、高硬度耐磨粉、硫酸钡、钛白粉、重钙、水洗高岭土、消泡剂、防霉剂、防腐剂、pH调节剂、增亮剂、成膜助剂,提高转速至500r/min;S2、待固体完全溶解之后将混合物置于55~60℃的真空箱中脱泡3~4h,得到混合溶液;S3、将混合溶液经过涂膜机涂膜,在蒸馏水中玻璃后用去离子水浸泡18~20h,在置于60~70℃的烘箱中即得大理石纹路膜。进一步地,所述的消泡剂为矿物油。进一步地,所述的分散剂为聚丙烯酸胺盐。进一步地,所述的pH调节剂为有机胺。进一步地,所述的防腐剂为异嗟噻啉酮。以上所述,仅为本专利技术的较佳实施例,并非对本专利技术做任何形式上的限制。任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本专利技术技术方案范围情况下,都可利用上述所述
技术实现思路
对本专利技术技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本专利技术技术方案的内容,依据本专利技术的技术对以上实施例所做的任何改动修改、等同变化及修饰,均属于本技术方案的保护范围。本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法,其特征在于:包括以下重量份的材料:电气石粉1~5份、三聚氰胺树脂100~120份、硫酸钡4~6份、高硬度耐磨粉5~30份、去离子水20~30份、成膜助剂0.8~1份,分散剂2~3份、钛白粉10~20份、消泡剂0.5~1份、重钙5~10份、pH调节剂0.5~1份、增亮剂1~10份、防霉剂0.5~1份,水洗高岭土5~10份防腐剂0.5~1份;其制备方法为;S1、将电气石粉加入三聚氰胺树脂中置于高速搅拌机中进行搅拌,在40~50℃、250r/min下搅拌10~20分钟,在转动的过程中依次加入去离子水、高硬度耐磨粉、硫酸钡、钛白粉、重钙、水洗高岭土、消泡剂、防霉剂、防腐剂、pH调节剂、增亮剂、成膜助剂,提高转速至500r/min;S2、待固体完全溶解之后将混合物置于55~60℃的真空箱中脱泡3~4h,得到混合溶液;S3、将混合溶液经过涂膜机涂膜,在蒸馏水中玻璃后用去离子水浸泡18~20h,在置于60~70℃的烘箱中即得大理石纹路膜。

【技术特征摘要】
1.一种用于地板能释放负离子的大理石纹路膜的制备方法,其特征在于:包括以下重量份的材料:电气石粉1~5份、三聚氰胺树脂100~120份、硫酸钡4~6份、高硬度耐磨粉5~30份、去离子水20~30份、成膜助剂0.8~1份,分散剂2~3份、钛白粉10~20份、消泡剂0.5~1份、重钙5~10份、pH调节剂0.5~1份、增亮剂1~10份、防霉剂0.5~1份,水洗高岭土5~10份防腐剂0.5~1份;其制备方法为;S1、将电气石粉加入三聚氰胺树脂中置于高速搅拌机中进行搅拌,在40~50℃、250r/min下搅拌10~20分钟,在转动的过程中依次加入去离子水、高硬度耐磨粉、硫酸钡、钛白粉、重钙、水洗高岭土、消泡剂、防霉剂、防腐剂、pH调节剂、增亮剂、成膜助剂,提高转速至5...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗先长许军华谢勇
申请(专利权)人:罗先长许军华谢勇
类型:发明
国别省市:四川,51

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