用于真空处理基板的设备、用于真空处理基板的系统和用于在真空腔室中传送基板载体和掩模载体的方法技术方案

一种用于真空处理基板的设备。该设备包括真空腔室、基板传送组件、掩模传送组件和具有致动器和位于致动器与真空腔室之间的机械隔离元件的对准系统。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于真空处理基板的设备、用于真空处理基板的系统和用于在真空腔室中传送基板载体和掩模载体的方法
本公开内容的实施方式涉及一种用于真空处理基板的设备、一种用于真空处理基板的系统和一种用于在真空腔室中传送基板载体和掩模载体的方法。本公开内容的实施方式特别涉及一种用于固持用于制造有机发光二极管(organiclight-emittingdiode,OLED)装置的基板和掩模的载体。
技术介绍
用于在基板上层沉积的技术包括例如热蒸发、物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。涂覆的基板可用于多种应用和数个
例如，涂覆的基板可用于有机发光二极管(OLED)装置领域。OLED可用于制造用于显示信息的电视屏幕、计算机监视器、移动电话、其他手持装置等。诸如OLED显示器的OLED装置可包括沉积在基板上位于两个电极之间的一层或多层有机材料。OLED装置的功能可取决于有机材料的涂层厚度。厚度必须在预定的范围内。在OLED装置的生产中，为了实现高分辨率OLED装置，在蒸发材料的沉积方面存在技术挑战。特别是，通过处理系统的基板载体和掩模载体的准确且平稳的传送仍然具有挑战性。此外，基板相对于掩模的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于处理基板的设备，包括：真空腔室；在所述真空腔室中的基板传送组件；在所述真空腔室中的掩模传送组件；和对准系统，包括在所述真空腔室中的致动器；和在所述致动器与所述真空腔室之间的机械隔离元件。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.03.17 EP PCT/EP2017/0563831.一种用于处理基板的设备，包括：真空腔室；在所述真空腔室中的基板传送组件；在所述真空腔室中的掩模传送组件；和对准系统，包括在所述真空腔室中的致动器；和在所述致动器与所述真空腔室之间的机械隔离元件。2.如权利要求1所述的设备，其中所述对准系统安装到框架。3.如权利要求1至2中任一项所述的设备，其中所述对准系统包括：第一安装件和第二安装件，所述第一安装件用于将基板载体安装到所述对准系统，所述第二安装件用于将掩模载体安装到所述对准系统。4.如权利要求3所述的设备，其中所述致动器设置在所述机械隔离元件与所述第一安装件之间的机械连接路径中，并且所述致动器设置在所述机械隔离元件与所述第二安装件之间的机械连接路径中。5.如权利要求3至4中任一项所述的设备，其中所述致动器配置为使所述第一安装件和所述第二安装件相互移动。6.如权利要求3至5中任一项所述的设备，其中所述致动器连接到所述第一安装件和所述第二安装件，并且设置在所述第一安装件与所述第二安装件之间。7.如权利要求3至6中任一项所述的设备，其中所述第一安装件和所述第二安装件中的至少一个包括磁性固定装置。8.如权利要求7所述的设备，其中所述磁性固定装置包括电磁体或电永磁体中的至少一个。9.如权利要求1至8中任一项所述的设备，其中所述致动器选自于由以下组成的群组：步进致动器、无刷致动器、DC(直流)致动器、音圈致动器、气动致动器和压电致动器。10.如权利要求1至9中任一项所述的设备，其中所...

【专利技术属性】
技术研发人员：马蒂亚斯·赫曼尼斯，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US