匹配记录的方法、调度维护的方法和装置制造方法及图纸

一种匹配来自多个数据源(302，304)的记录的方法，多个数据源之间在它们的数据的匹配质量方面具有变化，该方法包括重复地匹配和过滤(314‑318)来自数据源的记录以使用连续较不严格匹配规则获得匹配记录(320，322)，匹配规则是基于匹配质量的变化而定义的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】匹配记录的方法、调度维护的方法和装置相关申请的交叉引用本申请要求于2016年4月20日提交的EP申请16166218.4的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
本专利技术涉及匹配记录的方法、调度方法、相关计算机程序产品和与光刻工艺相关联的装置。该方法可用于例如制造系统中，诸如使用光刻工艺制造半导体器件的制造系统。
技术介绍
光刻设备是一种将期望图案施加到衬底上、通常施加到衬底的目标部分上的机器。例如，光刻设备可以用于制造集成电路(IC)。在这种情况下，可以使用图案化装置(可选地称为掩模或掩模版)来生成要形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以被转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或几个管芯的部分)上。图案的转移通常经由到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上的成像来进行。通常，单个衬底将包含连续地图案化的相邻目标部分的网络。光刻设备是与光刻工艺相关联的设备的示例。与光刻工艺相关联的其他设备包括用于利用抗蚀剂涂覆衬底的轨道和用于测量光刻设备的临界尺寸(CD)、层到层套刻和焦点的计量工具。用于执行光刻工艺的衬底处理系统(其实施例有时被称为光刻单元)包括与光刻工艺相关联的设备。在通常包括光刻设备和轨道的衬底处理系统中，有时必须执行维护以确保衬底处理系统中的机器继续正常操作。例如，在光刻设备中，必须定期执行的校准(例如，每小时一次、每天一次)可以由光刻设备的维护调度器自动开始。因此，在实现中，每个特定维护具有与其相关联的时间间隔(例如，每天一次)。为了支持操作费用的优化(经由例如以可靠性为中心的维护方法)，计算机化维护管理系统(CMMS)被认为是先决条件。为了确定制造系统的最佳维护策略，使用业务信息(例如，操作费用)、性能信息(例如，部件的可靠性、维护的持续时间)和组织信息(例如，人机比)的混合。这份清单并非详尽无遗。这个CMMS包含所有相关的业务信息、性能信息和组织信息。为了改进主动维护，使用计算机模型。高度准确的维护信息用于校准这样的模型。重要的是，确定发生的事情、发生的时间以及业务影响。出于测试目的，尽管准确性要求较不严格，但仍然需要对结果进行深入调查。使用CMMS创建在现场发生的问题的业务方面、性能方面和组织方面的全面概述是一项极其劳动密集型的任务。这是因为数据可能不是集中在CMMS中，而是分布在不同的数据源上。特定数据库中可用的每种特定类型的信息都针对特定目的进行优化：例如时间写入(时间表)信息针对计费客户进行优化，并且工作的确切开始时间不太相关。数据输入过程、数据范围以及与此相关的所需要的数据准确性的差异使得链接来自这些不同来源的数据变得困难且耗时。
技术实现思路
专利技术人已经设计了匹配记录和调度的方法，其将允许集成和限定来自不同数据源的数据，以自动方式反映问题的业务、性能和组织方面。同时，可以指示链接数据的质量。本专利技术的第一方面提供了一种匹配来自多个数据源的记录的方法，多个数据源之间在它们的数据的匹配质量方面具有变化，该方法包括重复地匹配和过滤来自数据源的记录以使用连续较不严格匹配规则来获得匹配记录，匹配规则是基于匹配质量的变化而定义的。匹配方法可以进一步包括以下步骤：(a)从多个数据源中选择一组字段；(b)定义字段之间的一个或多个距离度量；以及(c)基于所定义的距离度量来定义具有不同严格性的一组匹配规则，并且其中重复地匹配和过滤来自数据源的记录包括以下步骤：(d)使用一组匹配规则中的最严格的匹配规则来查询数据源，并且将由此获得的匹配记录与指示高匹配质量的指示符相关联；以及(e)使用这组匹配规则中的较不严格的规则来查询数据源，并且将由此获得的匹配记录与指示较低匹配质量的指示符相关联。本专利技术的第二方面提供了一种在制造系统的至少一部分中调度一个或多个维护动作的方法，该方法包括以下步骤：通过重复地匹配和过滤来自数据源的记录以使用连续较不严格匹配规则而获得匹配记录来匹配来自多个数据源的记录，多个数据源之间在它们的数据的匹配质量方面具有变化，匹配规则是基于匹配质量的变化而定义的；以及使用匹配记录来调度要在制造系统的一部分中执行的一个或多个维护动作。调度方法可以进一步包括以下步骤：(a)从多个数据源中选择一组字段；(b)定义字段之间的一个或多个距离度量；以及(c)基于所定义的距离度量来定义具有不同严格性的一组匹配规则，并且其中重复地匹配和过滤来自数据源的记录包括以下步骤：(d)使用一组匹配规则中的最严格的匹配规则来查询数据源，并且将由此获得的匹配记录与指示高匹配质量的指示符相关联；以及(e)使用这组匹配规则中的较不严格的规则来查询数据源，并且将由此获得的匹配记录与指示较低匹配质量的指示符相关联。本专利技术的第三方面提供了一种计算机程序产品，其包括用于引起可编程数据处理装置执行根据第一方面的匹配方法的指令。本专利技术的第四方面提供了一种计算机程序产品，其包括用于引起可编程数据处理装置执行根据第二方面的调度方法的指令。本专利技术的第五方面提供了一种与光刻工艺相关联的装置，其包括：处理单元，被配置为通过重复地匹配和过滤来自数据源的记录以使用连续较不严格匹配规则而获得匹配记录来匹配包括来自多个数据源的数据的记录，多个数据源之间在其数据的匹配质量方面具有变化，匹配规则是基于匹配质量的变化而定义的；以及使用匹配记录来调度要在该装置中执行的一个或多个维护动作。处理单元可以进一步被配置为：(a)从多个数据源中选择一组字段；(b)定义字段之间的一个或多个距离度量；以及(c)基于所定义的距离度量来定义具有不同严格性的一组匹配规则，并且其中处理单元进一步被配置为通过以下方式重复地匹配和过滤来自数据源的记录：(d)使用一组匹配规则中的最严格的匹配规则来查询数据源，并且将由此获得的匹配记录与指示高匹配质量的指示符相关联；以及(e)使用这组匹配规则中的较不严格的规则来查询数据源，并且将由此获得的匹配记录与指示较低匹配质量的指示符相关联。附图说明现在将参考附图通过示例描述本专利技术的实施例，在附图中：图1描绘了光刻设备以及与光刻工艺相关联的其他设备；图2是示出使用CMMS数据库来调度和控制维护动作的流程图；以及图3是示出根据本专利技术的实施例的匹配方法的流程图。具体实施方式在详细描述本专利技术的实施例之前，提供可以在其中实现本专利技术的实施例的示例环境是有益的。图1描绘了光刻设备以及与光刻工艺相关联的其他设备。它们共同构成用于半导体器件的制造系统的一部分。图1在100处示出了作为实现大容量光刻制造工艺的工业设施的部分的光刻设备LA。在本示例中，制造工艺适于在诸如半导体晶片等衬底上制造半导体产品(集成电路)。本领域技术人员将认识到，可以通过在这个工艺的变体中处理不同类型的衬底来制造各种各样的产品。使用半导体产品的生产纯粹是作为具有极大的商业意义的示例。在光刻设备(或简称为“光刻工具”100)内，在102处示出了测量站MEA，并且在104处示出了曝光站EXP。在106处示出了控制单元LACU。在这个示例中，每个衬底访问测量站和曝光站以便被施加图案。在光学光刻设备中，例如，使用投射系统以使用经调节的辐射和投射系统将来自图案化装置MA的产品图案转移到衬底上。这是通过在辐射敏感抗蚀剂材料层中形成图案的图像来进行的。适合于所使用的曝光辐射或者针对诸如本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种匹配来自多个数据源的记录的方法，所述多个数据源之间在所述多个数据源的数据的匹配质量方面具有变化，所述方法包括：重复地匹配和过滤来自所述数据源的记录以使用连续较不严格的匹配规则来获得匹配记录，所述匹配规则是基于所述匹配质量的所述变化而定义的。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.04.20 EP 16166218.41.一种匹配来自多个数据源的记录的方法，所述多个数据源之间在所述多个数据源的数据的匹配质量方面具有变化，所述方法包括：重复地匹配和过滤来自所述数据源的记录以使用连续较不严格的匹配规则来获得匹配记录，所述匹配规则是基于所述匹配质量的所述变化而定义的。2.根据权利要求1所述的匹配方法，进一步包括：将所述匹配记录和与用于获得所述匹配记录的所述匹配规则的严格性相对应的匹配质量指示符相关联。3.根据权利要求1所述的匹配方法，其中所述数据源之间在匹配质量方面的所述变化包括所述数据源之间在所述数据源的数据的准确性方面的差异。4.根据权利要求1所述的匹配方法，其中所述匹配规则是基于不同数据源中的字段之间的距离度量而定义的。5.根据权利要求4所述的匹配方法，其中所述距离度量包括不同数据源中的字段之间的时间差。6.根据权利要求4所述的匹配方法，其中所述距离度量包括不同数据源中的字段之间的错误标识符的出现的相对频率的倒数的差。7.根据权利要求1所述的匹配方法，进一步包括：在所述匹配之前变换或分割所述数据中的至少一些数据。8.根据权利要求1所述的匹配方法，进一步包括以下步骤：(a)从所述多个数据源中选择一组字段；(b)定义所述字段之间的一个或多个距离度量；以及(c)基于所定义的距离度量来定义具有不同严格性的一组匹配规则，并且其中重复地匹配和过滤来自所述数据源的记录包括以下步骤：(d)使用所述一组匹配规则中的最严格的匹配规则来查询所述数据源，并且将由此获得的匹配记录与指示高匹配质量的指示符相关联；以及(e)使用所述一组匹配...

【专利技术属性】
技术研发人员：D·E·S·K·斯格特曼思，N·H·F·保罗斯·范阿姆斯特尔，M·T·P·法利瑟，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL