用于抛光磷酸盐玻璃或氟磷酸盐玻璃基底的方法技术

本发明专利技术涉及用于抛光磷酸盐玻璃或氟磷酸盐玻璃基底的方法，该方法包括用至少一种配制品抛光所述基底的表面，该配制品具有包括在7与14之间的pH，包含至少含铈磨料、阴离子型水溶性聚合物分散剂、抗结块剂、任选地助分散剂以及水。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于抛光磷酸盐玻璃或氟磷酸盐玻璃基底的方法本专利技术涉及用于抛光磷酸盐玻璃或氟磷酸盐玻璃基底的方法，该方法包括用至少一种配制品抛光所述基底的表面，该配制品具有包括在7与14之间的pH，包含至少含铈磨料、阴离子型水溶性聚合物分散剂、抗结块剂、任选地助分散剂以及水。现有技术提供现有技术的以下讨论以便将本专利技术置于适当的技术背景下并使它的优点能够得到更充分的理解。然而，应当理解的是在整个说明书中现有技术的任何讨论不应被视为明确的或暗含的承认如此的现有技术是广泛已知的或形成本领域公知常识的一部分。通常，用磷酸盐作为玻璃网络形成体的玻璃具有优异的可见光区域透光率和低的光分散，并且因此它被用在其中所述区域透光率和低分散特性是重要的领域，例如滤光片应用。滤光片通常由有色玻璃制成，该有色玻璃可以含有作为玻璃网络形成体的磷酸盐并且还包含过渡金属离子如Fe2+或Cu2+。同时，为改善磷酸盐玻璃的稳定性、光学常数、透光特征和化学耐久性，在实践中通常向玻璃中添加碱金属氧化物、碱土金属氧化物、其他二价金属氧化物如ZnO、其他三价金属氧化物如Al2O3、In2O3、Sb2O3或RE2O3、以及F。当按要求添加以上组分时，该玻璃可以具有对于成形性足够的稳定性并且可以批量生产而不会导致脱玻作用。以上玻璃可以用于红外吸收滤光片，该红外吸收滤光片是用于例如彩色VTR照相机的CCD(电荷耦合装置)的光谱发光效率校正滤光片。用于以上滤光片的玻璃通过将CuO作为着色剂结合到其中并且利用Cu2+离子吸收被赋予吸收具有大于700nm波长的光的特性。在这种情况下，只有当磷酸盐被用作玻璃网络形成体的主要组分时Cu2+才展现出优异的吸收作用。因此，对于以上滤光片，使用其中结合有CuO的磷酸盐玻璃或氟磷酸盐玻璃。将该玻璃抛光从而具有希望的厚度和表面品质，并且用作用于图像传感器元件如CCD的滤光片。在该图像传感器元件中，对高密度的要求正在增加，并且光电二极管的每像素面积大大减少。因此，存在甚至到目前为止还未造成任何问题的具有几微米数量级尺寸的瑕疵或划痕对图像造成有害作用的现象。因此要求具有高度精度抛光的表面。以上含磷酸盐的磷酸盐玻璃具有差的玻璃结构，并且因此它易于具有抛光引起的瑕疵并且是易化学反应性的。然而，玻璃硬度的增加在玻璃组分上受到限制，并且不像硼硅酸盐玻璃，难以获得对于易抛光足够的硬度。当旨在维持所希望的透光率特征、化学耐久性、对于可批量生产性充分的玻璃稳定性以及其他光学特征时，对组成的改进受到限制。因此，难以给磷酸盐玻璃或氟磷酸盐玻璃赋予硼硅酸盐玻璃所具有的硬度，并且大部分这种类型的玻璃是所谓的具有低硬度的最低可抛光性玻璃。为抛光以上磷酸盐玻璃或氟磷酸盐玻璃，常规地，使用以下方法，在该方法中，用通过将磨料如CeO2添加到水中而制备的抛光液抛光玻璃。通常，由于抛光的负载量降低或由于抛光的旋转速率降低，具有低硬度的玻璃的抛光表面的精确度降低。然而，该磷酸盐玻璃或氟磷酸盐玻璃不仅具有相当低的硬度，而且是高度化学反应性的，并且因此它们具有以下缺陷。它们显示出在抛光精确度上的限制，潜在的瑕疵容易发生，并且抛光它们要花费长的时间段。此外，似乎是使用已知用于磷酸盐玻璃和氟磷酸盐玻璃的抛光配制品将连续地或斑点地造成在抛光后在玻璃表面上发展的有点朦胧的薄膜或雾状物。此类白色半透明的雾状物将降低该磷酸盐玻璃和氟磷酸盐玻璃的玻璃透明度并且不利地影响其中所述玻璃作为滤光片用于图像传感器元件的图像品质。另外，还存在改善抛光配制品的长时间储存的需求以避免随时间在容器底部形成硬的结块物，通常造成磨料再分散的某些问题并且不利地影响经处理的表面的表面品质。
技术实现思路
本专利技术提供了用于抛光磷酸盐玻璃和氟磷酸盐玻璃基底的方法，允许达到目标厚度而没有任何令人讨厌的薄膜、雾状物或在玻璃表面上形成并且至此还未能去除的表面缺陷如划痕、凹陷和/或残留。因此，本专利技术的第一目的是提供有效生产具有高精度抛光的表面的玻璃产品、具体地磷酸盐玻璃或氟磷酸盐玻璃产品的方法。本专利技术的配制品还具有优异的悬浮性能和再分散行为。本专利技术于是涉及用于抛光磷酸盐玻璃或氟磷酸盐玻璃基底的方法，该方法包括用至少一种配制品抛光所述基底的表面，该配制品具有包括在7与14之间的pH并且包含至少：a)含铈磨料；b)阴离子型水溶性聚合物分散剂；c)任选地助分散剂；d)抗结块剂；以及e)水。本专利技术还涉及如前面定义的配制品用于抛光磷酸盐玻璃或氟磷酸盐玻璃基底的用途。本专利技术的其他特征、细节和优点将在阅读下面的说明之后甚至更充分地显露。定义贯穿本说明，包括权利要求书，术语“包含一个/一种”应理解为是与术语“至少包含一个/一种”同义，除非另外指明，并且“在…之间”应理解为包含极限值。应注意在指定任何浓度范围时，任何具体上限浓度可以与任何具体下限浓度相关联。如在此使用的，关于有机基团的术语“(Cn-Cm)”，其中n和m各自为整数，指示该基团每个基团可以含有从n个碳原子至m个碳原子。本申请要求PCT申请号CN2015/097536的优先权，出于所有目的将所述申请的全部内容通过援引方式并入本申请。如果通过援引方式并入本申请的任何专利、专利申请、以及公开物的披露内容与本申请的说明相冲突到了可能导致术语不清楚的程度，则本说明应该优先。专利技术细节a)含铈磨料；本专利技术的配制品可以包含相对于该配制品的总重量按重量计从1％至50％、优选按重量计在20％与40％之间的含铈磨料。优选地，该含铈磨料选自下组，该组由以下各项组成：铈氧化物、镧铈氧化物、镧铈氧化物和氟氧化物、镧铈镨氧化物和氟氧化物、镧铈镨钕氧化物和氟氧化物或其他掺杂的铈氧化物。该含铈磨料优选地包含氧化铈，其含量优选地是按重量计从30％至90％。该含铈磨料的粒径分布总体上是包括在0.1μm与3μm之间、优选地在0.2μm与0.8μm之间。优选地，该含铈磨料的平均粒径D50是包括在0.1μm与3μm之间、优选地在0.2μm与0.8μm之间。可以通过激光散射法以体积分布测量D50。以上粒径分布包括该磨料的二次粒径的粒径分布。这种粒径分布可以值得注意地通过研磨更经典尺寸的含铈磨料、值得注意地通过湿磨或喷磨机来获得。以上磨料可以单独使用或与至少一种其他磨料组合使用。该含铈磨料的初级粒径可以是包括在10nm与2000nm之间、更优选地在50nm与1000nm之间。初级粒径可以通过扫描电子显微镜(SEM，ZEISSEVO18)观测磨料颗粒来测定。该含铈磨料的二次粒径可以是包括在100nm与5000nm之间、更优选地在200nm与2000nm之间。二次粒径可以通过激光散射法用HORIBALA-920来测量。b)阴离子型水溶性聚合物分散剂；水溶性聚合物可以是天然的或合成的水溶性聚合物。水溶性聚合物是在水中溶解、分散或溶胀并且因此以凝胶化、增稠或乳化/稳定化的形式改性水性体系的物理特性的物质。这些聚合物通常具有重复单元或单元的嵌段；聚合物链含有为取代基或被结合到主链上的亲水性基团。阴离子型水溶性聚合物分散剂可以是均聚物或共聚物。阴离子型水溶性聚合物分散剂优选地具有1,000g/mol至10,000g/mol并且优选2,000g/mol至5,000g/mol的平均分子量(Mw)。应注意该Mw是通过凝胶渗透色谱法(GPC)相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于抛光磷酸盐玻璃或氟磷酸盐玻璃基底的方法，该方法包括用至少一种配制品抛光所述基底的表面，该配制品具有包括在7与14之间的pH并且包含至少：a)含铈磨料；b)阴离子型水溶性聚合物分散剂；c)任选地助分散剂；d)抗结块剂；以及e)水。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.16 CN PCT/CN2015/0975361.一种用于抛光磷酸盐玻璃或氟磷酸盐玻璃基底的方法，该方法包括用至少一种配制品抛光所述基底的表面，该配制品具有包括在7与14之间的pH并且包含至少：a)含铈磨料；b)阴离子型水溶性聚合物分散剂；c)任选地助分散剂；d)抗结块剂；以及e)水。2.根据权利要求1所述的方法，其中该配制品包含相对于该配制品的总重量按重量计从1％至50％的含铈磨料。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中该含铈磨料的粒径分布是包括在0.1μm至3μm之间。4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中该含铈磨料的初级粒径是包括在10nm与2000nm之间。5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中该含铈磨料的二次粒径是包括在100nm与5000nm之间。6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中该阴离子型水溶性聚合物分散剂选自下组，该组由以下各项构成：-均聚物如聚丙烯酸、聚顺丁烯二酸、及其盐，以及-单体如丙烯酸、顺丁烯二酸、及其盐的共聚物。7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中该阴离子型水溶性聚合物分散剂是聚丙烯酸盐。8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中该配制品包含助分散剂。9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其中该助分散剂选自下组，该组由以下各项构成：无机多磷酸盐、有机膦酸盐、水溶性非离子型分散剂、水溶性阳离子型分散剂、以及水溶性两性分散剂。10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其中抗结...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋伟红，朱宁，丁尚军，王倩，吴海艇，
申请(专利权)人：罗地亚经营管理公司，
类型：发明
国别省市：法国,FR