图案形成用自身组织化组合物及图案形成方法技术

技术编号:19873908 阅读:37 留言:0更新日期:2018-12-22 16:20
本发明专利技术的课题在于提供一种即使在形成尺寸较大的图案的情形时,亦能够形成良好的相分离构造的图案形成用自身组织化组合物。此外,本发明专利技术的课题在于提供一种在形成微细图案构造时无需底层等而能够以简单的过程形成图案的图案形成用自身组织化组合物。本发明专利技术关于一种图案形成用自身组织化组合物,其特征在于含有如下嵌段共聚物,该嵌段共聚物含有:聚合部a,其包含2单位以上的选自葡萄糖单位及木糖单位中的至少1种;与聚合部b,其包含2单位以上的选自含芳香环单位、含硅单位及含金属单位中的至少1种。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图案形成用自身组织化组合物及图案形成方法
本专利技术关于一种图案形成用自身组织化组合物及图案形成方法。
技术介绍
关于半导体等电子装置,要求其利用微细化以高集成化,且针对半导体装置的图案,研究微细化或形状的多样化。作为此种图案的形成方法,已知有双重图案化法、或使用电子束的微影术、利用使用诱导自身组织化材料(DirectedSelfAssembly,以下亦称为图案形成用自身组织化组合物)的自身组织化的图案形成方法。图案形成用自身组织化组合物由于借由进行相分离而进行自身组织化,故而无需昂贵的电子束绘图装置,且由于不产生双重图案化法中所出现的图案化过程的复杂化,故有成本上的优势。作为图案形成用自身组织化组合物,例如已知有聚苯乙烯-聚甲基丙烯酸甲酯(PS-PMMA)等二嵌段共聚物(例如,非专利文献1)。在非专利文献1中,借由将PS-PMMA涂布于导向图案上并进行加热而形成相分离构造。其后,经蚀刻步骤而将二嵌段共聚物的单侧的包含聚合部的区域去除,藉此形成微细的图案。作为图案形成用自身组织化组合物,亦研究使用PS-PMMA以外的材料。例如,在专利文献1中揭示有以苯乙烯系聚合体或丙烯酸系聚合体等为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图案形成用自身组织化组合物,其特征在于含有嵌段共聚物,该嵌段共聚物含有:聚合部a,其包含2单位以上的选自葡萄糖单位及木糖单位中的至少1种;与聚合部b,其包含2单位以上的选自含芳香环单位、含硅单位及含金属单位中的至少1种。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.25 JP 2015-2549861.一种图案形成用自身组织化组合物,其特征在于含有嵌段共聚物,该嵌段共聚物含有:聚合部a,其包含2单位以上的选自葡萄糖单位及木糖单位中的至少1种;与聚合部b,其包含2单位以上的选自含芳香环单位、含硅单位及含金属单位中的至少1种。2.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物,其中,所述聚合部a具有下述通式(1)或下述通式(2)所表示的构造;[化1][化2]通式(1)及(2)中,R1分别独立地表示氢原子、氟原子、溴原子、氯原子、碘原子、烷基、酰基、芳基或磷酸(phosphoryl)基,数个的R1可相同亦可不同;n表示2以上且1500以下的整数。3.根据权利要求1或2所述的图案形成用自身组织化组合物,其中,所述聚合部a是木聚糖衍生物或木寡糖。4.根据权利要求1所述的图案形成用自身组织化组合物,其中,所述聚合部a具有下述通式(3)或下述通式(4)所表示的构造;[化3][化4]通式(3)及(4)中,R1分别独立地表示氢原子、氟原子、溴原子、氯原子、碘原子、烷基、酰基、芳基或磷酸基,数个的R1可相同亦可不同;R5表示氢原子或烷基,数个的R5可相同亦可不同;X及Y分别独立地表示单键或连结基,数个的X可相同亦可不同,数个的Y可相同亦可不同;p表示2以上且1500以下的整数。5.根据权利要求1至4中任一项所述的图案形成用自身组织化组合物,其中,所述聚合部b含有所述含芳香环单位。6.根据权利要求1至5中任一项所述的图案形成用自身组织化组合物,其中,所述聚合部b含有含苯环单位。7.根据权利要求1至6中任一项所述的图案形成用自身组织化组合物,其中,所述聚合部b含有苯乙烯系聚合体。8.根据权利要求1至3中任一项所述的图案形成用自身组织化组合物,其中,所述嵌段共聚物由下述通式(11)或下述通式(1...

【专利技术属性】
技术研发人员:森田和代
申请(专利权)人:王子控股株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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