杀微生物的噁二唑衍生物制造技术

具有式(I)的化合物

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】杀微生物的噁二唑衍生物本专利技术涉及杀微生物的噁二唑衍生物，例如作为活性成分，这些噁二唑衍生物具有杀微生物活性，特别是杀真菌活性。本专利技术还涉及包含这些噁二唑衍生物中的至少一种的农用化学组合物，涉及这些化合物的制备方法，并且涉及这些噁二唑衍生物或组合物在农业或园艺中用于控制或防止植物、收获的粮食作物、种子或非生命材料被植物病原性微生物、优选真菌侵染的用途。EP0276432公开了具有杀微生物活性的噁二唑衍生物。根据本专利技术，提供了一种具有式(I)的化合物：其中A1表示N或CR1，其中R1表示氢、卤素、甲基、乙基、二氟甲基、三氟甲基、甲氧基、乙氧基或二氟甲氧基；A2表示N或CR2，其中R2表示氢、卤素、甲基、乙基、二氟甲基、三氟甲基、甲氧基、乙氧基或二氟甲氧基；A3表示N或CR3，其中R3表示氢或卤素；A4表示N或CR4，其中R4表示氢或卤素；并且其中A1、A2、A3和A4中的0、1或2个是N；Z选自Z1、Z2、Z3、Z4或Z5；其中Z1表示包含1个环氮或NR5基团的5元或6元非芳族杂环，其中，任选地：(i)所述杂环进一步包含1或2个独立地选自N、NR5、C(O)和S(O)2的基团或本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有式(I)的化合物：

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.24 EP EP16162395.41.一种具有式(I)的化合物：其中A1表示N或CR1，其中R1表示氢、卤素、甲基、乙基、二氟甲基、三氟甲基、甲氧基、乙氧基或二氟甲氧基；A2表示N或CR2，其中R2表示氢、卤素、甲基、乙基、二氟甲基、三氟甲基、甲氧基、乙氧基或二氟甲氧基；A3表示N或CR3，其中R3表示氢或卤素；A4表示N或CR4，其中R4表示氢或卤素；并且其中A1、A2、A3和A4中的0、1或2个是N；Z选自Z1、Z2、Z3、Z4或Z5；其中Z1表示包含1个环氮或NR5基团的5元或6元非芳族杂环，其中，任选地：(i)所述杂环进一步包含1或2个独立地选自N、NR5、C(O)和S(O)2的基团或1个选自O或S的基团；(ii)所述杂环是5元环并且进一步包含1个选自N、NR5、C(O)和S(O)2的基团和1个选自O或S的基团；(iii)所述杂环是6元环并且进一步包含1或2个独立地选自N、NR5、C(O)和S(O)2的基团和1个选自O或S的基团；或(iv)所述杂环进一步包含1个为C(O)的基团以及2个独立地选自N和NR5的基团；并且其中所述杂环任选地被1、2或3个选自R9的可以是相同或不同的取代基取代，或被选自R11的单个取代基取代，并且其中所述5元或6元非芳族杂环是通过环碳通过碳-碳键结合至分子的其余部分；Z2表示含有1个环氮的5元或6元非芳族杂环，其中任选地：(i)所述杂环进一步包含1或2个独立地选自C(O)和S(O)2的基团或1个选自O或S的基团；或(ii)所述杂环进一步包含1或2个独立地选自C(O)和S(O)2的基团和1个选自O或S的基团；并且其中当所述杂环为5元环时，它任选地被1或2个选自R10的可以是相同或不同的取代基取代，或被选自R11的单个取代基取代，并且其中当所述杂环是6元环时，它任选地被1、2或3个选自R10的可以是相同或不同的取代基取代，或被选自R11的单个取代基取代，并且其中环氮的α位不是C(O)或S(O)2，并且所述杂环通过环氮通过氮-碳键结合至分子的其余部分；Z3表示含有1个环氮或NR5基团的5元杂芳基，其中任选地所述杂芳基环包含1个选自O、S或N的另外的环原子，或2个另外的环氮原子，并且任选地被的1、2或3个选自R12的可以是相同或不同的取代基取代，或被选自R13的单个取代基取代，并且其中所述杂芳基通过环碳通过碳-碳键结合至分子的其余部分；Z4表示含有1个环氮的6元杂芳基，其中任选地所述杂芳基环进一步包含1或2个另外的环氮原子，并且任选地被1、2或3个选自R14的可以是相同或不同的取代基取代，或者被选自R15的单个取代基取代，并且其中所述杂芳基通过环碳通过碳-碳键结合至分子的其余部分；并且Z5表示含有1个环氮的5元杂芳基，其中任选地所述杂芳基环进一步包含1或2个另外的环氮原子，并且任选地被1、2或3个选自R14的可以是相同或不同的取代基取代，其中所述杂芳基通过环氮通过氮-碳键结合至分子的其余部分；R5表示氢、C1-6烷基、C3-6烯基、C3-6炔基、C3-6环烷基、C1-6烷氧基、C(O)R6、S(O)2R6、C(O)OR7、C(O)N(R7)(R8)或S(O)2N(R7)R8，其中C1-6烷基、C3-6烯基、C3-6炔基、C3-6环烷基和C1-6烷氧基任选地被卤素或氰基取代；R6表示氰基、卤素、羟基、C1-4烷基、C2-4烯基、C2-4炔基、C1-4卤代烷基、C2-4卤代烯基、C1-2烷氧基C1-2烷基、C1-4卤代烷氧基、C3-4烯氧基、C3-4炔氧基、C1-4烷基羰基、C1-4烷氧基羰基、C1-4烷基羰基氨基、N-C1-4烷基氨基羰基、N,N-二C1-4烷基氨基羰基、咪唑-1-基或C3-6环烷基；R7表示氢、C1-6烷基、C3-6环烷基、C3-6环烷基C1-2烷基、C1-4烷氧基C1-4烷基，其中C1-6烷基、C3-6环烷基、C3-6环烷基C1-2烷基和C1-4烷氧基C1-4烷基任选地被卤素或氰基取代；R8表示氢、C1-4烷基、C1-4卤代烷基、C1-4烷氧基或C1-4烷氧基C1-4烷基；R9表示氰基、卤素、羟基、C1-4烷基、C2-4烯基、C2-4炔基、C1-4卤代烷基、C2-4卤代烯基、C1-4烷氧基、C1-4烷氧基C1-4烷基、C1-4卤代烷氧基、C3-4烯氧基、C3-4炔氧基、C1-4烷基羰基、C1-4烷氧基羰基、C1-4烷基亚磺酰基氨基、N-C1-4烷基氨基羰基、N,N-二C1-4烷基氨基羰基、N-C1-4烷基-N-C1-4烷氧基氨基羰基、C3-6环烷基、吡啶基或任选地被一个或两个独立地选自氟、氯、甲基或甲氧基的基团取代的苯基，或R9表示-NHC(O)Ra，其中Ra选自C1-4烷基、C1-2烷氧基C1-2烷基、N,N-二-C1-4烷基氨基羰基、C3-6环烷基或任选地被一个或两个独立地选自氟、氯、甲基或甲氧基的基团取代的苯基；R10表示氰基、卤素、羟基、C1-4烷基、C2-4烯基、C2-4炔基、C1-4卤代烷基、C2-4卤代烯基、C1-4烷氧基、C1-4烷氧基C1-4烷基、C1-4卤代烷氧基、C3-4烯氧基、C3-4炔氧基、C1-4烷基羰基、C1-4烷氧基羰基、C1-4烷基羰基氨基、N-C1-4烷基氨基羰基、N,N-二C1-4烷基氨基羰基或C3-6环烷基；R11表示三元至六元饱和碳环，其共有如Z1或Z2所定义的杂环的碳原子以形成螺环，并且其中任选地所述饱和碳环进一步包含选自O或S的一个基团；R12表示氰基、卤素、羟基、C1-4烷基、C2-4烯基、C2-4炔基、C1-4卤代烷基、C2-4卤代烯基、甲氧基、乙氧基、异丙氧基、正丁氧基、仲丁氧基、异丁氧基、叔丁氧基、C1-4烷氧基C1-4烷基、C1-4卤代烷氧基、C3-4烯氧基、C3-4炔氧基、C1-4烷基羰基、C1-4烷氧基羰基、C1-4烷基羰基氧基C1-4烷基、C1-4烷基羰基氨基、N-C1-4烷基氨基羰基、N,N-二C1-4烷基氨基羰基或C3-6环烷基；R13表示苯基或吡啶基...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·波理尔特，T·J·霍夫曼，D·斯狄尔利，R比奥德格尼斯，M·艾尔卡瑟米，T·皮特纳，
申请(专利权)人：先正达参股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：瑞士,CH