α-氟化丙烯酸酯的制造方法、含有高纯度氟化环丙烷衍生物的组合物和含有高纯度α-氟化丙烯酸酯的组合物技术

本发明专利技术提供的是：α‑氟化丙烯酸酯的制造方法；含有高纯度氟化环丙烷衍生物的组合物；和含有高纯度α‑氟化丙烯酸酯的组合物。本发明专利技术涉及：由下式(F)表示的化合物的制造方法，其中将含有由下式(A)表示的化合物的组合物依次通过蒸馏、然后用碱水溶液洗涤来进行纯化处理，从而得到含有由下式(A)表示的化合物的纯化产物，然后将所得纯化产物进行热分解反应；含有高纯度的由下式(A)表示的化合物的组合物；和含有高纯度的由下式(F)表示的化合物的组合物(式中，R可以彼此相同或不同且表示一价烃基，并且X表示卤素原子)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】α-氟化丙烯酸酯的制造方法、含有高纯度氟化环丙烷衍生物的组合物和含有高纯度α-氟化丙烯酸酯的组合物
本专利技术涉及α-氟化丙烯酸酯的制造方法、含有高纯度氟化环丙烷衍生物的组合物和含有高纯度α-氟化丙烯酸酯的组合物。
技术介绍
α-氟化丙烯酸酯作为用于光学材料、涂料、和抗蚀剂材料等的聚合物的单体是有用的。专利文献1记载了α-氟丙烯酸乙酯的制造方法，其包括将由叔丁醇钾和大大过剩的含氯氟烃获得的乙烯衍生物转变成氟化环丙烷衍生物，然后使其分解。专利文献2记载了α-氟化丙烯酸甲酯的制造方法，其包括将CH2＝C(OCH3)2和CHCl2F的反应产物(有机层)通过用氢氧化钾水溶液洗涤、然后蒸馏反应产物来纯化，并且将所得1-氯-1-氟-2,2-二甲氧基环丙烷进行热分解反应。[文献列表][专利文献]专利文献1：欧洲专利申请公开号No.0127920专利文献2：中国专利申请公开号No.105130798
技术实现思路
专利技术要解决的问题根据本专利技术人的研究，通过上述专利文献中记载的任意的制造方法获得的1-氯-1-氟-2,2-二甲氧基环丙烷具有低纯度，并且通过使用其无法有效地获得高纯度α-氟化丙烯酸甲酯。另外，α-氟化丙烯酸甲酯具有低的保存稳定性，并且随着时间流逝容易分解或者容易聚合而形成均聚物。本专利技术的课题是提供α-氟化丙烯酸酯的制造方法。另外，本专利技术旨在于提供优选地用于制造α-氟化丙烯酸酯的含有高纯度氟化环丙烷衍生物的组合物、和优选地用作各种聚合物用单体的含有高纯度α-氟化丙烯酸酯的组合物。另外，本专利技术还旨在于提供长期稳定地保存α-氟化丙烯酸酯的方法。用于解决问题的方案本专利技术人进行深入研究，尝试解决前述问题，并且发现了上述课题可通过以下构成来解决。因此，本专利技术提供了以下。[1]一种由下式(F)表示的化合物的制造方法，其包括将含有由下式(A)表示的化合物的组合物以蒸馏和用碱水溶液洗涤的顺序来进行纯化处理从而得到含有由下式(A)表示的化合物的纯化产物，并且将所述纯化产物进行热分解反应从而得到由下式(F)表示的化合物：式中，各个R可以相同或不同并且为一价烃基，并且X为卤素原子。[2]上述[1]的制造方法，其中前述组合物通过在碱金属氢氧化物的存在下将由式CH2＝C(OR)2(式中的各符号如上所定义)表示的化合物和由式CHClFX(式中的各符号如上所定义)表示的化合物反应来获得。[3]上述[1]或[2]的制造方法，其中前述蒸馏包括在70℃以下的减压蒸馏。[4]上述[1]至[3]任一项的制造方法，其中在前述洗涤中，将所述碱水溶液的碱浓度维持在40质量％以下。[5]一种由前述式(F)表示的化合物的保存方法，其包括通过上述[1]至[4]任一项的制造方法获得由前述式(F)表示的化合物，并且将所述化合物保持在包含相对于所述化合物为大于0ppm且50000ppm以下的脂肪族烃的状态下。[6]一种由前述式(F)表示的化合物的保存方法，其包括通过上述[1]至[4]任一项的制造方法获得由前述式(F)表示的化合物，并且将所述化合物保持在pH6.5以下。[7]一种由前述式(F)表示的化合物的保存方法，其包括通过上述[1]至[4]任一项的制造方法获得由前述式(F)表示的化合物，并且将所述化合物保持在包含相对于所述化合物为大于0ppm且10000ppm以下的卤化氢的状态下。[8]一种组合物，其含有由下式(A)表示的化合物以及从由下式(P)表示的化合物和由下式(Q)表示的化合物中选择的一种以上的化合物，其中所述由下式(A)表示的化合物的含量为80.0mol％以上，并且所述一种以上的化合物的总含量相对于所述由下式(A)表示的化合物为1.00mol％以下：式中，各个R可以相同或不同并且为一价烃基，波浪线示出氟原子的与双键相关联的立体构型可以是E或Z。[9]一种组合物，其含有由下式(A)表示的化合物和由下式(P)表示的化合物，其中所述由下式(A)表示的化合物的含量为80.0mol％以上，并且所述由下式(P)表示的化合物的含量相对于所述由下式(A)表示的化合物为0.35mol％以下：式中，各个R可以相同或不同并且为一价烃基，波浪线示出氟原子的与双键相关联的立体构型可以是E或Z。[10]一种组合物，其含有由下式(F)表示的化合物以及从由下式(P)表示的化合物和由下式(Q)表示的化合物中选择的一种以上的化合物，其中所述由下式(F)表示的化合物的含量为95.0mol％以上，并且所述一种以上的化合物的总含量相对于所述由下式(F)表示的化合物为0.30mol％以下：式中，各个R可以相同或不同并且为一价烃基，波浪线示出氟原子的与双键相关联的立体构型可以是E或Z。[11]上述[10]的组合物还含有相对于由前述式(F)表示的化合物为大于0ppm且50000ppm以下的含量的脂肪族烃。[12]上述[10]的组合物还含有相对于由前述式(F)表示的化合物为大于0ppm且10000ppm以下的含量的卤化氢。[13]一种组合物，其含有由下式(F)表示的化合物和由下式(P)表示的化合物，其中所述由下式(F)表示的化合物的含量为95.0mol％以上，并且所述由下式(P)表示的化合物的含量相对于所述由下式(F)表示的化合物为0.20mol％以下：式中，各个R可以相同或不同并且为一价烃基，波浪线示出氟原子的与双键相关联的立体构型可以是E或Z。[14]上述[13]的组合物还含有相对于由前述式(F)表示的化合物为大于0ppm且50000ppm以下的含量的脂肪族烃。[15]上述[13]的组合物还含有相对于由前述式(F)表示的化合物为大于0ppm且10000ppm以下的含量的卤化氢。专利技术的效果根据本专利技术，含有高纯度氟化环丙烷的组合物可以高效率地制造。使用该组合物，含有高纯度α-氟化丙烯酸酯的组合物可以高效率地制造。而且，根据本专利技术，通过本专利技术获得的高纯度α-氟化丙烯酸酯的聚合性优异。因而，具有优异的物性的聚合物可以容易地通过均聚和与其他单体的共聚获得。由本专利技术的含有高纯度α-氟化丙烯酸酯的组合物获得的聚合物可以表现作为光学材料、涂料或半导体抗蚀剂材料等的高的功能。具体实施方式本说明书中的措辞如下所定义。使用“至”表示的数值范围意味着包括“至”前后表明的数值作为下限值和上限值的范围。“卤素原子”为氟原子、氯原子、溴原子或碘原子。“一价烃基”为其中从烃的碳原子中去除一个氢原子的基团。醚性(etheric)氧原子可以包含在一价烃基中的碳原子-碳原子键之间。一价烃基的碳原子-氢原子键的氢原子可以用卤素原子取代。一价烃基的碳原子数优选为1至20个。本专利技术涉及作为α-氟化丙烯酸酯的由下式(F)表示的化合物(下文中也标记为化合物(F))的制造方法、含有作为氟化环丙烷衍生物的由下式(A)表示的化合物(下文中也标记为化合物(A))的组合物和含有化合物(F)的组合物：式中，各个R为一价烃基，并且X为卤素原子。当R在式中以多个存在时，各个R可以相同或不同，并且从容易可得性方面而言，优选为相同的。R优选为各自碳数为1至20的烷基、芳烷基或芳基，更优选为碳数为1至20的烷基，特别优选为甲基、乙基、正丙基、异丙基或叔丁基，最优选为甲基。当化合物(A)中的2个R均为甲基时，下述的蒸馏的温度容易调整并且更有效地制造出高纯度化合物(A)本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种由下式(F)表示的化合物的制造方法，其包括将含有由下式(A)表示的化合物的组合物以蒸馏和用碱水溶液洗涤的顺序来进行纯化处理从而得到含有由下式(A)表示的化合物的纯化产物，并且将所述纯化产物进行热分解反应从而得到由下式(F)表示的化合物：

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.23 JP 2016-059110;2016.03.23 JP 2016-059111.一种由下式(F)表示的化合物的制造方法，其包括将含有由下式(A)表示的化合物的组合物以蒸馏和用碱水溶液洗涤的顺序来进行纯化处理从而得到含有由下式(A)表示的化合物的纯化产物，并且将所述纯化产物进行热分解反应从而得到由下式(F)表示的化合物：式中，各个R可以相同或不同并且为一价烃基，并且X为卤素原子。2.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述组合物通过在碱金属氢氧化物的存在下将由式CH2＝C(OR)2表示的化合物和由式CHClFX表示的化合物反应来获得，式中的各符号如上所定义。3.根据权利要求1或2所述的制造方法，其中所述蒸馏包括在70℃以下的减压蒸馏。4.根据权利要求1至3任一项所述的制造方法，其中在所述洗涤中，将所述碱水溶液的碱浓度维持在40质量％以下。5.一种由所述式(F)表示的化合物的保存方法，其包括：通过根据权利要求1至4任一项所述的制造方法获得由所述式(F)表示的化合物，并且将所述化合物保持在包含相对于所述化合物为大于0ppm且50000ppm以下的脂肪族烃的状态下。6.一种由所述式(F)表示的化合物的保存方法，其包括通过根据权利要求1至4任一项所述的制造方法获得由所述式(F)表示的化合物，并且将所述化合物保持在pH6.5以下。7.一种由所述式(F)表示的化合物的保存方法，其包括通过根据权利要求1至4任一项所述的制造方法获得由所述式(F)表示的化合物，并且将所述化合物保持在包含相对于所述化合物为大于0ppm且10000ppm以下的卤化氢的状态下。8.一种组合物，其含有由下式(A)表示的化合物以及从由下式(P)表示的化合物和由下式(Q)表示的化合物中选择的一种以上的化合物，其中所述由下式(A)表示的化合物的含量为80.0mol％以上，并且所述一种以上的化合物的总含量相...

【专利技术属性】
技术研发人员：秋谷卓志，笠川贡，市野川直辉，小野崎祐，河口聪史，富依勇佑，安田新，
申请(专利权)人：AGC株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP