【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有改进的耐磨边性的功能化层压光学元件本专利技术涉及一种功能化层压光学元件，其在光学制品的典型加工(包括砂轮磨边)之后保持其完整性。更特别地，本专利技术涉及特定粘合剂系统用于改进功能化层压光学元件的耐砂轮磨边性的用途。所述功能层压光学元件可以是眼科镜片。已知通过层压(即通过胶粘)将功能膜组装到光学基础元件的表面上来改变光学基础元件的光学、透射或机械特性。然而，在功能膜与光学元件之间的粘附性仍然是工业中长期存在的问题。在功能膜与光学元件之间使用的粘合剂系统需要易于使用，具有良好的光学品质，但是在制造光学元件的连续阶段期间还需要提供坚韧且持久的粘附性。在层压过程之后，功能化层压光学元件实际上通常至少被涂覆和修整，使得其轮廓适合接收它的框架的形状。更具体地，在制造眼科镜片的过程期间，通常还将镜片表面处理/磨削并且抛光至特定的光焦度(power)。涂覆步骤可以包括特别地在水存在下进行表面预处理。外周机械加工或磨边的步骤还可以实施包括至少一个磨削步骤的标准方法，在所述至少一个磨削步骤中，镜片经受机械应力并且最经常在水存在下。此类情况经常导致功能膜与光学基础元件之间的脱层。无论...
【技术保护点】
1.一种功能化层压光学元件，其包含：‑光学基础元件；‑由单层或多层结构组成的功能膜结构；‑具有光学品质的压敏粘合剂层，其被置于所述光学基础元件的一个表面与所述功能膜结构之间，以便将所述功能膜结构永久地保持在所述光学基础元件的所述表面上，其中所述压敏粘合剂层具有在85℃下低于1.6 105Pa、优选低于或等于1.5 105Pa的储能模量G’，并且展现出均超过20N/25mm、优选均在21至40N/25mm含端值的范围内的干剥离强度和湿剥离力强度。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种功能化层压光学元件，其包含：-光学基础元件；-由单层或多层结构组成的功能膜结构；-具有光学品质的压敏粘合剂层，其被置于所述光学基础元件的一个表面与所述功能膜结构之间，以便将所述功能膜结构永久地保持在所述光学基础元件的所述表面上，其中所述压敏粘合剂层具有在85℃下低于1.6105Pa、优选低于或等于1.5105Pa的储能模量G’，并且展现出均超过20N/25mm、优选均在21至40N/25mm含端值的范围内的干剥离强度和湿剥离力强度。2.如权利要求1所述的功能化层压光学元件，其中所述压敏粘合剂层展现出小于或等于10％含端值的在干剥离力强度与湿剥离力强度之间的降低。3.如权利要求1或2所述的功能化层压光学元件，其中所述压敏粘合剂层具有在10μm至150μm含端值、优选20至75μm含端值范围内的厚度。4.如权利要求1至3中任一项所述的功能化层压光学元件，其中所述压敏粘合剂层包含增粘剂试剂。5.如权利要求4所述的功能化层压光学元件，其中所述压敏粘合剂层由基于聚丙烯酸酯的组合物制成，所述组合物包含：-丙烯酸类聚合物(A)；-充当增粘剂的(甲基)丙烯酸类聚合物(B)，其包括具有三环或更高级脂环结构且具有1000或更大并且小于30000的重均分子量的(甲基)丙烯酸类单体充当单体单元，基于100重量份的所述丙烯酸类聚合物(A)，所述(甲基)丙烯酸类聚合物(B)优选以1至20重量份范围内的量使用；以及-充当硅烷偶联剂的含烷氧基甲硅烷基的单体(C)，如γ-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷或N-苯基-氨基丙基三甲氧基硅烷，基于100重量份的所述丙烯酸类聚合物(A)，所述单体优选以0.1至1.0重量份范围内的量使用。6.如权利要求1至5中任一项所述的功能化层压光学元件，其中，所述光学基础元件选自由光学镜片、窗户、遮目镜、镜子和显示器组成的组，优选光学镜片，更优选眼科镜片。7.如权利要求1至6中任一项所述的功能化层压光学元件，其中所述光学基础元件选自成品镜片、半成品镜片、渐变多焦点镜片、无焦点镜片、平面镜片、单焦点镜片和多焦点镜片的组。8.如权利要求1至7中任一项所述的功能化层压光学元件，其中所述光学基础元件是由基于(硫代)氨基甲酸酯的预聚物或环硫化物单体制成的光学基础元件。9.如权利要求1至8中任一项所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：菲奥莲·库埃，凯瑟琳·伯格，玛努艾拉·德索萨，铃木达也，神谷胜彦，重富圣惠，星野真嗣，中山淳一，
申请(专利权)人：依视路国际公司，日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：法国,FR
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