陶瓷件的表面处理方法、壳体组件、指纹模组和电子设备技术

本申请公开了一种陶瓷件的表面处理方法、壳体组件、指纹模组和电子设备，陶瓷件的表面处理方法包括如下步骤：提供陶瓷基板；对陶瓷基板进行成型处理，形成陶瓷件；对陶瓷件的目标表面进行表面粗糙化处理，以使陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变。根据本申请的陶瓷件的表面处理方法，陶瓷件的表面光泽度实现渐变，从而陶瓷件呈现光哑同体的外观效果。

【技术实现步骤摘要】
陶瓷件的表面处理方法、壳体组件、指纹模组和电子设备
本申请涉及表面处理
，尤其是涉及一种陶瓷件的表面处理方法、壳体组件、指纹模组和电子设备。
技术介绍
近年来，陶瓷以其温润如玉的质感、尊贵典雅的寓意备受电子设备例如旗舰机的青睐，与玻璃相比，陶瓷具有优越的力学性能和电学性能。然而，陶瓷在完成抛光加工后，其表面光泽趋于稳定值，例如，陶瓷件在抛光后表面粗糙度状态为Ra＝10nm～30nm，其光泽度为180Gu～260Gu(其中，光泽度测量角为60°)，且同一平面的光泽度的差值不超过30Gu，使得陶瓷呈现出的外观效果受到限制。
技术实现思路
本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本申请的一个目的在于提出一种陶瓷件的表面处理方法，所述表面处理方法使得陶瓷件的表面光泽度实现渐变，从而陶瓷件呈现光哑同体的外观效果。本申请的另一个目的在于提出一种壳体组件。本申请的又一个目的在于提出一种指纹模组。本申请的再一个目的在于提出一种具有上述壳体组件和上述指纹模组中的至少一个的电子设备。根据本申请第一方面实施例的陶瓷件的表面处理方法，包括如下步骤：提供陶瓷基板；对所述陶瓷基板进行成型处理，形本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，包括如下步骤：提供陶瓷基板；对所述陶瓷基板进行成型处理，形成陶瓷件；对所述陶瓷件的目标表面进行表面粗糙化处理，以使所述陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变。

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，包括如下步骤：提供陶瓷基板；对所述陶瓷基板进行成型处理，形成陶瓷件；对所述陶瓷件的目标表面进行表面粗糙化处理，以使所述陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变。2.根据权利要求1所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，所述对所述陶瓷件的目标表面进行表面粗糙化处理，以使所述陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变，包括：沿多个方向对所述陶瓷件的目标表面进行表面粗糙化处理，以使所述陶瓷件的目标表面的粗糙度沿多个方向渐变；其中，所述多个方向分别从所述目标表面上任意一点朝向所述目标表面边界延伸，或者，所述多个方向分别从所述目标表面上任意一条或多条分界线的两侧朝向所述目标表面边界延伸。3.根据权利要求1或2所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，所述对所述陶瓷件的目标表面进行表面粗糙化处理，包括：将所述目标表面分隔成多个区域面，对每个所述区域面进行表面粗糙化处理，以使所述区域面的表面粗糙度沿至少一个方向渐变。4.根据权利要求3所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，所述表面处理方法还包括：当对所述多个区域面中的其中一个区域面进行表面粗糙化处理时，对所述多个区域面中其余区域面进行覆膜处理。5.根据权利要求1或2所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，所述表面粗糙化处理包括喷砂处理、印刷处理和浸蚀处理中的至少一种。6.根据权利要求5所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，当所述表面粗糙化处理包括喷砂处理时，所述喷砂处理包括：调整砂的种类、砂的粒径、砂的形状、喷砂时间和喷枪压力中的至少一个，以改变所述陶瓷件的表面粗糙度。7.根据权利要求5所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，当所述表面粗糙化处理包括印刷处理时，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯体波，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44