湿式洗净装置及湿式洗净方法制造方法及图纸

本发明专利技术是在使用碳酸气体溶解水的湿式洗净工艺中，高度地去除混入于碳酸气体溶解水中的极微小微粒而防止微粒污染，并将被洗净物洗净成高洁净度。本发明专利技术的湿式洗净装置，其通过使碳酸气体溶解于超纯水而成的碳酸气体溶解水洗净被洗净物，其特征在于，其具有：碳酸气体溶解机构，该碳酸气体溶解机构使碳酸气体溶解于超纯水中；被洗净物的洗净机构，该被洗净物的洗净机构被供给来自该碳酸气体溶解机构的碳酸气体溶解水；及过滤膜模组，该过滤膜模组设置在将该碳酸气体溶解水供给至该洗净机构的配管上且填充具有阳离子性官能基的多孔性膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】湿式洗净装置及湿式洗净方法
本专利技术涉及通过碳酸气体溶解水洗净被洗净物的湿式洗净装置及湿式洗净方法。更详细而言，本专利技术涉及在半导体产业中使用碳酸气体溶解水的湿式洗净工艺中，防止因混入于碳酸气体溶解水中的微粒所致的污染，将被洗净物洗净成高洁净度的湿式洗净装置及湿式洗净方法。
技术介绍
伴随以IC的高集成化为目的的半导体制品的制造工艺规则的微细化，微量杂质的混入对该半导体制品的装置性能及制品成品率造成很大影响。在半导体制品的制造工序中，为防止微量杂质的混入，要求严格的污染控制，在各工序进行各种的洗净。就使用于半导体制品的洗净的各种功能水而言，已开始使用氢、氮、臭氧等气体溶解水、碱。近年来，如专利文献1等记载的内容所示，以洗净中的防止带电为目的，使用在超纯水中溶解碳酸气体的碳酸气体溶解水(碳酸水)的情形很多。使用碳酸气体溶解水而洗净被洗净物时，从用于控制碳酸气体浓度的碳酸气体溶解装置中混入微粒、或从超纯水制造装置所供给的超纯水经由配管而送液至洗净装置为止之间混入微粒，由此，导致使用于洗净的碳酸气体溶解水本身会含有微粒，其结果是，有时被洗净物受到微粒污染，无法获得良好的洗净效果。为防止本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种湿式洗净装置，其通过使碳酸气体溶解于超纯水而成的碳酸气体溶解水洗净被洗净物，其特征在于，其具有：碳酸气体溶解机构，该碳酸气体溶解机构使碳酸气体溶解于超纯水中；被洗净物的洗净机构，该被洗净物的洗净机构被供给来自该碳酸气体溶解机构的碳酸气体溶解水；及过滤膜模组，该过滤膜模组设置在将该碳酸气体溶解水供给至该洗净机构的配管上并且填充有具有阳离子性官能基的多孔性膜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.25 JP 2016-0621781.一种湿式洗净装置，其通过使碳酸气体溶解于超纯水而成的碳酸气体溶解水洗净被洗净物，其特征在于，其具有：碳酸气体溶解机构，该碳酸气体溶解机构使碳酸气体溶解于超纯水中；被洗净物的洗净机构，该被洗净物的洗净机构被供给来自该碳酸气体溶解机构的碳酸气体溶解水；及过滤膜模组，该过滤膜模组设置在将该碳酸气体溶解水供给至该洗净机构的配管上并且填充有具有阳离子性官能基的多孔性膜。2.如权利要求1所述的湿式洗净装置，其中，前述超纯水是从具备一次纯水系统及次系统的超纯水制造装置，经由超纯水供给配管而被供给至该湿式洗净装置。3.如权利要求1或2所述的湿式洗净装置，其中，前述碳酸气体溶解机构是碳酸气体溶解膜模组。4.如权利要求1至3中任一项所述的湿式洗净装置，其中，前述阳离子性官能基是弱阳离子性官能基。5.如权利要求4所述的湿式洗净装置，其中，前述阳离子性官能基是叔胺基。6.如权利要求1至5中任一项所述的湿式洗净装置，其中，前述阳离子性官能基被取代为碳酸型。7.如权利要求1至6中任一项所述的湿式洗净装置，其中，前述多孔性膜是由高分子构成的精密过滤膜或超滤膜。8.如权利要求7所述的湿式洗净装置，其中，前述多孔性膜是聚酮膜、尼龙膜、聚烯烃膜或聚砜膜。9.如权利要求1至8中任一项所述的湿式洗净装...

【专利技术属性】
技术研发人员：饭野秀章，中田耕次，金田真幸，佐藤大辅，
申请(专利权)人：栗田工业株式会社，旭化成株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP