污水氧化处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术污水氧化处理装置，包括第一梳形卡槽和第二梳形卡槽，所述第一梳形卡槽和第二梳形卡槽相互交叉，所述第一梳形卡槽和第二梳形卡槽之间为污水槽；所述污水槽中放置有填充颗粒状或粉末状电介质，所述第一梳形卡槽和第二梳形卡槽外设有绝缘材质的壳体；所述第一梳形卡槽接通交流电，所述交流电为20‑40K，所述第二梳形卡槽接地。本发明专利技术是将超声氧化与等离子氧化有机融合的装置，通过两种技术的有机融合，实现污水处理中两种技术的高效协同。

【技术实现步骤摘要】
污水氧化处理装置
本专利技术涉及污水氧化处理装置，属于污水处理

技术介绍
据申请人了解，目前的污水处理一般分为三级，其第三级处理，传统的技术是采用加氯漂白消毒，成本低廉，但存在余氯残留，有致癌作用。为此，欧美发达国家开发了一系列无氯深度氧化技术，主流的技术有铁试剂氧化，光敏氧化，臭氧氧化，超声波氧化，高温高压湿式氧化，电催化氧化，超临界氧化。以上氧化技术，除铁试剂外，其余氧化技术均存在设备投资大，能耗高，运行管理费用昂贵的弱电，而铁试剂法也只适应小流量，低浓度的污水处理，而且还需要对污水中的铁剂作后期处理，操作复杂。而即便现有的超声波氧化，也需要专门的超声波换能器振子，不仅功率小，单个压电振子功率≤50瓦，而且寿命有限，效率还低≤10%。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术存在的问题，提出污水氧化处理装置，该装置将超声氧化与等离子氧化有机融合的装置，通过两种技术的有机融合，实现污水处理中两种技术的高效协同。本专利技术的技术方案如下：污水氧化处理装置，包括第一梳形卡槽和第二梳形卡槽，所述第一梳形卡槽和第二梳形卡槽相互交叉，所述第一梳形卡槽和第二梳形卡槽之间为污水槽；所述污水槽中放置有填充颗粒状或粉末状电介质，所述第一梳形卡槽和第二梳形卡槽外设有绝缘材质的壳体；所述第一梳形卡槽接通交流电，所述交流电为20-40K，所述第二梳形卡槽接地。所述第一梳形卡槽有至少三个梳形齿。所述第二梳形卡槽有至少三个梳形齿。所述电介质为填充颗粒状或粉末状半导体。所述第一梳形卡槽的梳形齿之间的间距为1-40cm。所述第二梳形卡槽的梳形齿之间的间距为1-40cm。所述第一梳形卡槽和第二梳形卡槽的梳形齿的顶部形状为圆角形。所述第一梳形卡槽和第二梳形卡槽的梳形齿上均设有绝缘介质层，所述绝缘介质层为石英或陶瓷。本专利技术包括频率为20-40K的交流电源，以及与交流电源匹配的污水处理反应器（简称反应器），其中反应器是本专利技术的创新，包括梳形卡槽与反应器外壳两个立体结构，每个反应器外壳内至少放置两个相对立的梳形卡槽，梳形卡槽之间的间隙中填充颗粒状或粉末状电介质，当容器里注入污水时，同步接通20-40K的交流电，电介质在交流电激励下产生两种作用，一种是超声波，一种是等离子放电。超声波：任何电介质在受到交流电场激励时，都会产生同频率机械振动，而20-40K机械振动在流体中就能产生超声波。等离子放电：超声波产生时，就会在粉末中间的微小空隙中形成超声空化气泡，而超声空化气泡在交流电场激励下，气泡内会形成放电（气体的电击穿强度低于液体的电击穿强度），所以击穿率先于空化气泡中发生，当数量足够的空化气泡覆盖于粉末表面时，就会形成贯穿于两个梳形卡槽之间粉末空隙中的气体通道，即气桥，而气桥在交流电场激励下，又会形成等离子放电通道，由于卡槽之间的空隙中填充电介质，所以又称为介质阻挡放电。综上，最终形成超声波催化协同的电介质阻挡等离子放电氧化。本专利技术的有益效果如下：本专利技术通过两个交叉在一起配合使用的梳形槽，形成反应器，在梳形槽之间形成污水槽，并在污水槽中放置了电介质，在交流电的作用下，形成了超声波氧化和等离子放电，工作效率高，并且能够处理非常难处理的工业化工废水。本专利技术置将超声氧化与等离子氧化有机融合的装置，通过两种技术的有机融合，实现污水处理中两种技术的高效协同。附图说明下面结合附图对本专利技术作进一步的说明。图1为本专利技术的整体结构示意图。图2为本专利技术的左视图。图中：1-第一梳形卡槽；2-第二梳形卡槽；3-壳体；4-污水槽；5-进水口；6-出水口。具体实施方式如图1和2所示，本专利技术污水氧化处理装置，包括第一梳形卡槽1和第二梳形卡槽2，所述第一梳形卡槽1和第二梳形卡槽2相互交叉，所述第一梳形卡槽1和第二梳形卡槽2之间为污水槽4；所述污水槽4中放置有填充颗粒状或粉末状电介质，所述第一梳形卡槽1和第二梳形卡槽2外设有绝缘材质的壳体3；所述第一梳形卡槽1接通交流电，所述交流电为20-40K，所述第二梳形卡槽2接地。所述第一梳形卡槽1有至少三个梳形齿。所述第二梳形卡槽2有至少三个梳形齿。所述电介质为填充颗粒状或粉末状半导体。所述第一梳形卡槽1的梳形齿之间的间距为1-40cm。所述第二梳形卡槽2的梳形齿之间的间距为1-40cm。所述第一梳形卡槽1和第二梳形卡槽2的梳形齿的顶部形状为圆角形。所述第一梳形卡槽1和第二梳形卡槽2的梳形齿上均设有绝缘介质层，所述绝缘介质层为石英或陶瓷。本专利技术包括频率为20-40K的交流电源，以及与交流电源匹配的污水处理反应器（简称反应器），其中反应器是本专利技术的创新，包括梳形卡槽与反应器外壳两个立体结构，每个反应器外壳内至少放置两个相对立的梳形卡槽，梳形卡槽之间的间隙中填充颗粒状或粉末状电介质，当容器里注入污水时，同步接通20-40K的交流电，电介质在交流电激励下产生两种作用，一种是超声波，一种是等离子放电。超声波：任何电介质在受到交流电场激励时，都会产生同频率机械振动，而20-40K机械振动在流体中就能产生超声波。等离子放电：超声波产生时，就会在粉末中间的微小空隙中形成超声空化气泡，而超声空化气泡在交流电场激励下，气泡内会形成放电（气体的电击穿强度低于液体的电击穿强度），所以击穿率先于空化气泡中发生，当数量足够的空化气泡覆盖于粉末表面时，就会形成贯穿于两个梳形卡槽之间粉末空隙中的气体通道，即气桥，而气桥在交流电场激励下，又会形成等离子放电通道，由于卡槽之间的空隙中填充电介质，所以又称为介质阻挡放电。综上，最终形成超声波催化协同的电介质阻挡等离子放电氧化。本专利技术通过两个交叉在一起配合使用的梳形槽，形成反应器，在梳形槽之间形成污水槽，并在污水槽中放置了电介质，在交流电的作用下，形成了超声波氧化和等离子放电，工作效率高，并且能够处理非常难处理的工业化工废水。本专利技术置将超声氧化与等离子氧化有机融合的装置，通过两种技术的有机融合，实现污水处理中两种技术的高效协同。除上述实施例外，本专利技术还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本专利技术要求的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.污水氧化处理装置，其特征在于：包括第一梳形卡槽（1）和第二梳形卡槽（2），所述第一梳形卡槽（1）和第二梳形卡槽（2）相互交叉，所述第一梳形卡槽（1）和第二梳形卡槽（2）之间为污水槽（4）；所述污水槽（4）中放置有填充颗粒状或粉末状电介质，所述第一梳形卡槽（1）和第二梳形卡槽（2）外设有绝缘材质的壳体（3）；所述第一梳形卡槽（1）接通交流电，所述交流电为20‑40K，所述第二梳形卡槽（2）接地。

【技术特征摘要】
2018.05.03 CN 20181041432671.污水氧化处理装置，其特征在于：包括第一梳形卡槽（1）和第二梳形卡槽（2），所述第一梳形卡槽（1）和第二梳形卡槽（2）相互交叉，所述第一梳形卡槽（1）和第二梳形卡槽（2）之间为污水槽（4）；所述污水槽（4）中放置有填充颗粒状或粉末状电介质，所述第一梳形卡槽（1）和第二梳形卡槽（2）外设有绝缘材质的壳体（3）；所述第一梳形卡槽（1）接通交流电，所述交流电为20-40K，所述第二梳形卡槽（2）接地。2.根据权利要求1所述的污水氧化处理装置，其特征在于：所述第一梳形卡槽（1）有至少三个梳形齿。3.根据权利要求1所述的污水氧化处理装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪忠伟，
申请(专利权)人：洪忠伟，
类型：发明
国别省市：江苏,32