一种非晶纳米晶磁芯的热处理方法技术

技术编号:19770982 阅读:31 留言:0更新日期:2018-12-15 07:40
本发明专利技术公开了一种非晶纳米晶磁芯的热处理方法,包括步骤:(1)将待处理的磁芯放置在横向磁场热处理炉中,并通入保护气体;(2)进行热处理及磁处理,包括:第一阶段:温度从室温升到约300℃,用时约60min;保温约30min;之后再升到约400℃,用时约30min;然后保温约60min;第二阶段:温度从约400℃升到T1,用时约30min;然后在T1保温约210min;同时在该第二阶段中施加横向磁场;第三阶段:撤销磁场,同时使温度从T1升到约510℃,用时约20min;保温约40min;之后再升到T2温度并保温,用时为约90min;第四阶段:停止加热,并冷却至室温;其中,T1温度为460~480℃,T2温度为560~570℃。

【技术实现步骤摘要】
一种非晶纳米晶磁芯的热处理方法
本专利技术涉及非晶磁芯处理
,更具体涉及一种非晶纳米晶磁芯的热处理方法。
技术介绍
近年来发展起来的非晶纳米晶软磁材料例如铁基非晶纳米晶软磁材料,要求要有尽可能较小的磁晶向异性常数和饱和磁致伸缩系数,使得磁芯有低矫顽力、低损耗和高初始磁导率等特点。不同于传统软磁材料所要求的晶粒尽可能的均匀且大,铁基非晶纳米晶软磁材料其独特的非晶纳米晶双相微观结构中,纳米晶晶粒需要尽可能的小且密度大。此外,非晶纳米晶软磁材料的高频化、小型化将会极大的拓展其在各类电子设备中的使用范围。只有通过合适的热处理,抑制非晶纳米晶软磁材料晶化放热冲温,消除快速凝固过程中的残余应力,才能将非晶纳米晶软磁材料的优异性能显现出来,因此这种工艺不但要求热处理后的磁芯性能优越,而且能保持良好的磁稳定性和抗干扰能力。非晶磁芯必须通过热处理后才有磁性性能,目前常用的热处理方法分为真空热处理和非真空热处理。例如中国专利201710602425.3公开了一种磁场热处理炉,包括了炉体、加热炉、电磁系统、冷却油箱以及水冷循环系统,设计的回旋圆孔来增强对炉膛的辐射效果,可调节磁极与加热炉之间的气隙来保证加热炉内有足够的磁场强度。中国专利201310053193.2公开了一种磁芯横磁场热处理炉,包括炉胆和料架,,能够在真空加横磁场的方式处理磁芯。中国专利201020194370.0公开的一种磁场热处理炉,由炉体、带侧立柱的底座、炉盖、磁场线圈、控制系统、真空系统或加气系统等部分组成。中国专利201520517286.0公开的一种磁场热处理装置,通过在装置设有两个相互平行设置的多块永磁体,实现高磁场强度来进行热处理。但是,上述真空热处理设备和非真空热处理设备的工艺和操作都较为复杂,并且存在着磁芯性能不稳定,同炉的磁芯性能差异性大的问题。因此,存在对新的磁场热处理技术的需要。
技术实现思路
对于目前技术问题,本专利技术的目的在于提供一种磁场热处理炉,不仅方便操作,易于调整维修,而且可以有效的提高了磁芯性能的稳定性,和同炉磁芯性能的一致性。本专利技术采用的技术方案如下:根据本专利技术的一方面,提供一种非晶纳米晶磁芯的热处理方法,包括以下步骤:(1)将待处理的非晶纳米晶磁芯放置在横向磁场热处理炉中,并通入保护气体;(2)进行热处理及磁处理,包括:第一阶段:温度从室温升到约300℃,用时约60min;保温约30min;之后再升到约400℃,用时约30min;然后保温约60min;第二阶段:温度从约400℃升到T1,用时约30min;然后在T1保温约210min;同时在该第二阶段中施加横向磁场;第三阶段:撤销磁场,同时使温度从T1升到约510℃,用时约20min;保温约40min;之后再升到T2温度,用时约30min,并保温约60min;第四阶段:停止加热,并冷却至室温;其中,T1温度范围是460~480℃,T2温度范围是560~570℃。根据本专利技术的一个实施方案,其中所述非晶纳米晶磁芯的热处理方法还包括在所述第一阶段中的第90min至结束这一时间段之中开始施加横向磁场。根据本专利技术的一个实施方案,其中,所述保护气体为氮气。根据本专利技术的一个实施方案,其中,所述非晶纳米晶磁芯为铁基非晶纳米晶磁芯。根据本专利技术的一个实施方案,其中,热处理后磁芯的矫顽力Hc<2A/m。根据本专利技术的一个实施方案,其中,热处理后磁芯的饱和磁致伸缩系数λ<0.5ppm。根据本专利技术的一个实施方案,其中,将热处理后磁芯装入垫有海绵的塑料护盒后,从200mm高处跌落5次,电感变化量不超过5%。根据本专利技术的一个实施方案,其中,热处理后磁芯的磁导率μ范围为10.000~400.000。根据本专利技术的一个实施方案,其中,所述第四阶段包括将磁芯出炉后用风机冷却至室温,用时约50min左右。根据本专利技术的一个实施方案,其中,施加的磁场强度可以为15-25KA/m,例如可以为20KA/m,技术人员可以根据具体情况来确定具体的数值。本专利技术的有益效果是:本专利技术结合磁场处理和预退火处理,采用分步退火法,在预退火过程加磁场,磁芯保温出炉后,可以直接采用风机空冷的方式冷却至室温。本专利技术的热处理方法,使所得的非晶纳米晶磁芯具有高初始磁导率,低矫顽力,低损耗和良好的高频磁性,而且由于加入磁场以及充足合理的保温时间,使得磁芯电感频率曲线更为平滑,在进一步绕线做成共模电感后,其抗干扰能力和使用稳定性更为优良。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1是根据本专利技术一个实施方案的横向磁场热处理炉的结构示意图。图2是根据本专利技术一个实施方案的加热炉的结构示意图;图3是根据本专利技术一个实施方案的热处理方法的示意图;图4是根据本专利技术一个实施方案的热处理后磁芯的电感频率曲线图。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。图1是根据本专利技术一个实施方案的横向磁场热处理炉的结构示意图。图2是根据本专利技术一个实施方案的加热炉的结构示意图。如图1、图2所示,本专利技术的磁场热处理炉可以包括炉架1、设置在炉架上的两个加热炉2、水冷系统3和磁场系统4。炉架1为加热炉2、水冷系统3和磁场系统4提供支撑,所述加热炉2、水冷系统3和磁场系统4直接或者间接地设置在炉架1上。所述水冷系统3包括冷却水板6以及经管道与冷却水板6相连的冷却机7,其中冷却水板6固定在加热炉2上方和下方,且与加热炉2之间留有5-10mm的空隙,其内部通入循环水,整体高度不超过15mm,作用是保护永磁体免受加热炉温度的影响。受重力作用,上方冷却水板与加热炉之间空隙更小,因而循环水流方向可以是从上板到下板。所述磁场系统4包括永磁体8、固定装置9、传动装置11和控制器12,永磁体8包括两个异名磁极,相对安装在固定装置9上;固定装置9设置在炉架上并且与传动装置11和控制器12相连,使得固定装置9可沿水平方向移动,由此使得加热炉能够进入所述两个异名磁极之间。由于在固定装置9的两侧安装有两个加热炉2,因此固定装置9可以左右移动为两个加热炉来进行加磁,也即,两个加热炉2共用一个磁场系统,提高了设备的利用率。两个异名磁极例如可以用高粘粘强度的AB胶,相对安装在固定装置上。控制器12通过传动装置(例如可以由电机与链条组成),使固定装置9可沿水平方向移动,固定装置9呈中空形,加热炉2可以进入到两个异名磁极之间,由此实现热处理过程中的加磁、撤磁。另外,本专利技术的装置还可以包括接近开关10,安装在炉架上,与控制器12相连,其作用是限定磁场位置,并避免固定装置撞击炉架1。参考图2,每一个加热炉2可以包括炉壳13、炉膛14、炉门15、炉衬16、气氛预热室17、加热元件(18、19、20)、测温装置(21、22、23)和通气通道(24、25、26),其中本文档来自技高网
...

【技术保护点】
1.一种非晶纳米晶磁芯的热处理方法,包括以下步骤:(1)将待处理的非晶纳米晶磁芯放置在横向磁场热处理炉中,并通入保护气体;(2)进行热处理及磁处理,包括:第一阶段:温度从室温升到约300℃,用时约60min;保温约30min;之后再升到约400℃,用时约30min;然后保温约60min;第二阶段:温度从约400℃升到T1,用时约30min;然后在T1保温约210min;同时在该第二阶段中施加横向磁场;第三阶段:撤销磁场,同时使温度从T1升到约510℃,用时约20min;保温约40min;之后再升到T2温度,用时约30min,并保温约60min;第四阶段:停止加热,并冷却至室温;其中,T1温度范围是460~480℃,T2温度范围是560~570℃。

【技术特征摘要】
1.一种非晶纳米晶磁芯的热处理方法,包括以下步骤:(1)将待处理的非晶纳米晶磁芯放置在横向磁场热处理炉中,并通入保护气体;(2)进行热处理及磁处理,包括:第一阶段:温度从室温升到约300℃,用时约60min;保温约30min;之后再升到约400℃,用时约30min;然后保温约60min;第二阶段:温度从约400℃升到T1,用时约30min;然后在T1保温约210min;同时在该第二阶段中施加横向磁场;第三阶段:撤销磁场,同时使温度从T1升到约510℃,用时约20min;保温约40min;之后再升到T2温度,用时约30min,并保温约60min;第四阶段:停止加热,并冷却至室温;其中,T1温度范围是460~480℃,T2温度范围是560~570℃。2.根据权利要求1所述的非晶纳米晶磁芯的热处理方法,还包括在所述第一阶段中的第90min至结束这一时间段之中开始施加横向磁场。3.根据权利要求1所述的非晶纳米晶磁芯的...

【专利技术属性】
技术研发人员:薛志勇郑睿鹏
申请(专利权)人:华北电力大学扬中智能电气研究中心
类型:发明
国别省市:江苏,32

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1