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一种去污片制造技术

技术编号:19770301 阅读:38 留言:0更新日期:2018-12-15 07:13
本发明专利技术公开一种去污片,按质量份数计包括以下组分:10份的氯、50份的二氯异氰尿酸钠、10份的三氯异氰尿酸、0.3份的表面活性剂、0.3份的沸石。该去污片具有消毒杀菌性能强的特点。

【技术实现步骤摘要】
一种去污片
本专利技术涉及精细化工的
,特别涉及一种去污片。
技术介绍
去污片可专门用于消毒杀菌,需求量巨大。因此,本行业内需要开发一种去污片。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种去污片,解决上述现有技术问题中的一个或者多个。本专利技术提供一种去污片,按质量份数计包括以下组分:10份的氯、50份的二氯异氰尿酸钠、10份的三氯异氰尿酸、0.3份的表面活性剂、0.3份的沸石。具体实施方式下面的实施案例,对本专利技术进行进一步详细的说明。实施案例:一种去污片,按质量份数计包括以下组分:10份的氯、50份的二氯异氰尿酸钠、10份的三氯异氰尿酸、0.3份的表面活性剂、0.3份的沸石。本专利技术的实施案例的去污片具有消毒杀菌性能强的特点。以上表述仅为本专利技术的优选方式,应当指出,对本领域的普通技术人员来说,在不脱离本专利技术创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些也应视为专利技术的保护范围之内。

【技术保护点】
1.一种去污片,其特征在于,按质量份数计包括以下组分:10份的氯、50份的二氯异氰尿酸钠、10份的三氯异氰尿酸、0.3份的表面活性剂、0.3份的沸石。

【技术特征摘要】
1.一种去污片,其特征在于,按质量份数计包括以下组分:10份的氯、50份的...

【专利技术属性】
技术研发人员:顾裕忠
申请(专利权)人:顾裕忠
类型:发明
国别省市:江苏,32

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