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一种通过电沉积法在Mo衬底上沉积高质量Cu薄膜的方法技术

技术编号:19735672 阅读:33 留言:0更新日期:2018-12-12 03:10
一种通过电沉积法在Mo衬底上沉积高质量Cu薄膜的方法,该方法通过在Mo衬底上制备出Cu纳米颗粒,使Cu纳米颗粒作为形核点辅助沉积Cu薄膜,从而在Mo衬底表面沉积出表面平整且晶粒细小的Cu薄膜。该方法一方面可修饰Cu薄膜的表面形貌,提升Cu薄膜的薄膜质量;另一方面能够显著降低在Mo衬底上电沉积Cu薄膜对Mo衬底表面形貌的严格要求,并降低对电镀溶液成分和沉积参数的要求。该方法简单易行、操作简便,大大降低了通过电沉积方法在Mo衬底上沉积高质量Cu薄膜的沉积难度。

【技术实现步骤摘要】
一种通过电沉积法在Mo衬底上沉积高质量Cu薄膜的方法
本专利技术涉及电沉积金属薄膜制备的
,特别涉及一种铜基薄膜太阳电池金属预制层的制备。
技术介绍
高效率低成本太阳电池是解决目前能源危机、环境污染及生态破坏等一系列重大问题的最有效途径之一。薄膜太阳电池所需材料少(微米级厚度),较短的载流子扩散长度即可实现光电流的收集,对于实现高效率低成本太阳电池有巨大的优势。其中Cu2InGaSe4(CIGS)薄膜太阳电池是研究最为成熟的材料之一,已实现规模化生产和商品化运行。目前转换效率高达22.3%。此外,由于In、Ga为稀有元素且价格昂贵,将CIGS中的In、Ga替换为地壳储量丰富且廉价的Zn、Sn元素从而得到与CIGS性质相近的Cu2ZnSn(S,Se)4(CZTSSe),使得CZTSSe成为实现高效率低成本太阳电池大规模推广的理想候选材料。目前国际上CZTSSe薄膜太阳电池最高效率已经达到12.6%。在制作方法上,制备CIGS和CZTSSe薄膜的方法主要分为真空法与非真空法两种。真空法包括共蒸发沉积法和真空溅射金属预制层后硒化法,非真空法包括涂覆后硒化法和电沉积金属预制层后硒化法两本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种通过电沉积法在Mo衬底上沉积高质量Cu薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:第1步、以Mo为衬底,在衬底上制备出覆盖不完全的薄层Cu薄膜;第2步、将第1步覆盖不完全的薄层Cu薄膜浸泡在稀盐酸溶液中,生成Cu纳米颗粒;第3步、以第2步生成的表面存在Cu纳米颗粒的Mo为衬底,在含有Cu元素的盐溶液中电沉积得到Cu薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种通过电沉积法在Mo衬底上沉积高质量Cu薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:第1步、以Mo为衬底,在衬底上制备出覆盖不完全的薄层Cu薄膜;第2步、将第1步覆盖不完全的薄层Cu薄膜浸泡在稀盐酸溶液中,生成Cu纳米颗粒;第3步、以第2步生成的表面存在Cu纳米颗粒的Mo为衬底,在含有Cu元素的盐溶液中电沉积得到Cu薄膜。2.根据权利要求1所述的一种通过电沉积法在Mo衬底上沉积高质量Cu薄膜的方法,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:张照景敖建平毕金莲郭佳佳高青孙国忠周志强刘芳芳张毅孙云
申请(专利权)人:南开大学
类型:发明
国别省市:天津,12

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