除臭装置以及除臭方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够高效地产生等离子体并迅速地对液体进行改性、并且能够以短时间进行气体的除臭处理的除臭装置以及除臭方法。在处理槽(12)中使气相(G)产生等离子体(P)并生成改性成分，生成的改性成分在液体中溶解并在液体中分散来生成改性液(L2)，生成的改性液被从处理槽排出并在贮留槽(90)中贮留，从气体提供部(94)向贮留槽内的改性液内提供气体(97)。被提供的气体成为泡状，与贮留于贮留槽的改性液接触并被除臭。

【技术实现步骤摘要】
除臭装置以及除臭方法
本专利技术涉及通过使对液体进行电化学处理而生成的改性液与气体接触来使气体中的臭气物质分解的除臭装置以及除臭方法。更详细地，本专利技术涉及通过在液体中产生等离子体来对液体进行改性，从而生成具有杀菌作用以及除臭作用的改性液，通过生成的改性液来使气体中的臭气成分分解的除臭装置以及除臭方法。
技术介绍
图15中表示现有的改性液生成装置的例子。已知在液体803(例如，水)中，配置第1电极801以及第2电极802，从脉冲电源804向两电极801、802间施加高电压脉冲来使液体803气化，使等离子体805产生，从而例如生成包含羟基自由基(OH自由基)或者过氧化氢等具有氧化力的成分的改性液的改性液生成装置。特别地，已知OH自由基具有较高的氧化力，因此通过使含有这些成分的改性液混合，例如针对细菌，具有较高的杀菌作用。此外，已知通过在液体803中产生等离子体805，从而等离子体805被液体803覆盖，容易产生出自液体的成分。例如，已知通过在水中产生等离子体805，容易生成OH自由基或者过氧化氢。但是，在上述现有的改性液生成装置的情况下，为了使液体803气化，不仅需要较高的施加电压，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种除臭装置，具备：处理槽，通过使从导入部导入的液体在中心轴周围旋转，从而在所述液体的旋转流的旋转中心附近产生气相，并且具有使从所述导入部导入的所述液体在与所述导入部之间旋转从而产生所述旋转流之后作为改性液而排出的排出部；第1电极，至少一部分被配置在所述处理槽内并与所述处理槽内的所述液体接触；第2电极，被配置为与所述处理槽内的所述液体接触；电源，向所述第1电极与所述第2电极之间施加电压来使所述气相产生等离子体，从而在所述改性液中生成改性成分；贮留槽，具有与所述处理槽的所述排出部连接来提供所述改性液的改性液提供部、和向比所述改性液提供部更靠上部的位置排出除臭后的气体的气体排出部，在所述处理槽...

【技术特征摘要】
2017.05.30 JP 2017-1069781.一种除臭装置，具备：处理槽，通过使从导入部导入的液体在中心轴周围旋转，从而在所述液体的旋转流的旋转中心附近产生气相，并且具有使从所述导入部导入的所述液体在与所述导入部之间旋转从而产生所述旋转流之后作为改性液而排出的排出部；第1电极，至少一部分被配置在所述处理槽内并与所述处理槽内的所述液体接触；第2电极，被配置为与所述处理槽内的所述液体接触；电源，向所述第1电极与所述第2电极之间施加电压来使所述气相产生等离子体，从而在所述改性液中生成改性成分；贮留槽，具有与所述处理槽的所述排出部连接来提供所述改性液的改性液提供部、和向比所述改性液提供部更靠上部的位置排出除臭后的气体的气体排出部，在所述处理槽中使所述气相产生所述等离子体从而生成所述改性成分，所生成的所述改性成分在所述液体溶解并向所述液体中分散来生成所述改性液，所生成的所述改性液从所述处理槽排出而被贮留；和气体提供部，向所述贮留槽内的所述改性液内提供气体，从所述气体提供部向所述贮留槽内提供所述气体，被提供的所述气体成为泡状，与贮留于所述贮留槽的所述改性液接触并被除臭。2.根据权利要求1所述的除臭装置，其中，所述气体提供部具有气体吹出部，所述气体吹出部被配置于比所述贮留槽的所述气体排出部以及所述改性液提供部更靠下方的位置，吹出所述气体以使得提供至所述贮留槽内的所述改性液内。3.根据权利要求1所述的除臭装置，其中，所述气体提供部具有：气体提供装置，所述气体提供装置被配置于将所述贮留槽内的液体从所述贮留槽向所述处理槽的所述导入部提供的循环用配管所连接的支管，向所述支管提供所述气体；和开闭阀，所述开闭阀对所述支管与所述循环用配管之间进行开闭。4.根据权利要求1所述的除臭装置，其中，所述气体提供部具备：气体通路，所述气体通路从所述处理槽的所述第1电极的附近沿着所述中心轴，...

【专利技术属性】
技术研发人员：三宅岳，松田源一郎，北井崇博，山田芳生，
申请(专利权)人：松下知识产权经营株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP