材料沉积布置结构、真空沉积系统及其方法技术方案

描述一种用于在真空沉积室中在基板上沉积材料的材料沉积布置结构(100)。材料沉积布置结构(100)包括至少一个材料沉积源(105)，材料沉积源(105)具有被配置为蒸发材料的坩埚(110)、被配置为用于将蒸发的材料提供至基板的分配组件(120)以及被配置为用于在坩埚(110)与分配组件(120)之间的连接处(112)施加接触力的力施加装置(130)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】材料沉积布置结构、真空沉积系统及其方法
本公开内容的实施方式涉及用于在基板上沉积一个或多个层，特别是其中包括有机材料的层的沉积设备。具体来说，本公开内容的实施方式涉及用于在真空沉积室中在基板上沉积蒸发材料的材料沉积布置结构、真空沉积系统及其方法，所述材料沉积布置结构、所述真空沉积系统及所述方法特别地用于OLED制造。
技术介绍
有机蒸发器是用于生产有机发光二极管(OLED)的工具。OLED是发光二极管的一种特殊类型，其中发射层包括某些有机化合物的薄膜。有机发光二极管(OLED)用在用于显示信息的电视屏幕、计算机显示器、移动电话、其他手持装置等等的制造中。OLED也能够用于一般的空间照明。由于OLED像素直接发光且不需要背光，因此OLED显示器可达成的颜色范围、亮度及视角大于传统LCD显示器的颜色范围、亮度及视角。因此，OLED显示器的能耗大幅低于传统LCD显示器的能耗。此外，OLED能够被制造至柔性基板上的事实带来了另外的应用。OLED的功能取决于有机材料的涂层厚度。此厚度必须在预定范围内。在OLED的生产中，为了实现高分辨率OLED装置，在蒸发材料的沉积方面存在技术挑战。此外，减少处理时间和便于沉积系统的维护是高度相关的。因此，一直以来需要提供改进的材料沉积布置结构、真空沉积系统及其方法。
技术实现思路
基于以上所述，提供根据独立权利要求的一种材料沉积布置结构、一种真空沉积系统、一种用于组装材料沉积布置结构的方法以及一种用于更换材料沉积布置结构的坩埚的方法。本公开内容的其他方面、益处和特征由权利要求书、说明书和附图而显而易见。根据本公开内容的一方面，提供一种用于在真空沉积室中在基板上沉积材料的材料沉积布置结构。所述材料沉积布置结构包括至少一个材料沉积源，所述材料沉积源具有被配置为蒸发所述材料的坩埚、被配置为用于将蒸发的材料提供至所述基板的分配组件以及被配置为用于在所述坩埚与所述分配组件之间的连接处施加接触力的力施加装置。根据本公开内容的另一方面，提供一种用于在真空室中在基板上沉积材料的材料沉积布置结构。所述材料沉积布置结构包括第一沉积源，所述第一沉积源具有被配置为蒸发第一材料的第一坩埚、被配置为用于将蒸发的材料提供至基板的第一分配组件以及被配置为用于在所述第一坩埚与所述第一分配组件之间的连接处施加接触力的第一力施加装置。此外，所述材料沉积布置结构包括第二沉积源，所述第二沉积源具有被配置为蒸发第二材料的第二坩埚、被配置为用于将蒸发的材料提供至基板的第二分配组件以及被配置为用于在所述第二坩埚与所述第二分配组件之间的连接处施加接触力的第二力施加装置。根据本公开内容的另一方面，提供一种真空沉积系统。所述真空沉积系统包括真空沉积室、在所述真空沉积室中的根据本文描述的任何实施方式的材料沉积布置结构以及被配置为用于在材料沉积期间支撑基板的基板支撑件。根据本公开内容的又另一方面，提供一种用于组装具有至少一个材料沉积源的材料沉积布置结构的方法，所述至少一个材料沉积源具有坩埚和分配组件。所述方法包括：将所述坩埚插入所述至少一个材料沉积源的隔室中；将固持所述坩埚的坩埚固持布置结构固定到所述至少一个材料沉积源的壁上；以及在所述坩埚与所述分配组件之间的连接处施加接触力。根据本公开内容的另一方面，提供一种用于更换具有至少一个材料沉积源的材料沉积布置结构的坩埚的方法，所述至少一个材料沉积源具有所述坩埚和分配组件。所述方法包括：从所述至少一个材料沉积源的壁上拆卸固持所述坩埚的坩埚固持布置结构；释放在所述坩埚与所述分配组件之间的连接处的接触力；从所述至少一个材料沉积源的隔室移除所述坩埚；以及用新坩埚替换所述坩埚。实施方式还针对用于执行所揭露的方法的设备并且包括用于执行每个所描述的方法方面的设备部分。这些方法方面可通过硬件部件、由适当软件编程的计算机、两者的任何组合或以任何其他方式来执行。此外，根据本公开内容的实施方式还针对用于操作所描述的设备的方法。用于操作所描述的设备的方法包括用于执行设备的每个功能的方法方面。附图说明为了能够详细理解本公开内容的上述特征，可通过参考实施方式获得以上简要概述的本公开内容的更特定的描述。附图关于本公开内容的实施方式并且被描述于下：图1显示根据本文描述的实施方式的材料沉积布置结构的示意侧视截面图；图2A显示根据本文描述的另外实施方式的材料沉积布置结构的示意侧视截面图；图2B显示材料沉积布置结构的示意侧视截面图，其中坩埚固持布置结构从材料沉积源拆解；图3A显示根据本文描述的实施方式的材料沉积布置结构的下部的详细示意侧视截面图，其中坩埚固持布置结构从材料沉积源拆解；图3B显示根据本文描述的实施方式的材料沉积布置结构的下部的详细示意侧视截面图，其中坩埚固持布置结构固定至材料沉积源；图4显示根据本文描述的另外实施方式的材料沉积布置结构的侧视示意图。图5显示如图4中示例性显示的根据本文描述的另外实施方式的材料沉积布置结构的更详细的示意俯视截面图；图6显示根据本文描述的实施方式的真空沉积系统的示意图，其中阀处于打开状态；图7显示说明根据本文描述的实施方式的用于组装具有至少一个材料沉积源的材料沉积布置结构的方法的流程图，至少一个材料沉积源具有坩埚和分配组件；以及图8显示说明根据本文描述的实施方式的用于更换具有至少一个材料沉积源的材料沉积布置结构的坩埚的方法的流程图，至少一个材料沉积源具有坩埚和分配组件。具体实施方式现在将详细参考各个实施方式，其中的一个或多个示例示于每个图中。每个示例都以解释的方式来提供，并不意味着限制。例如，做为一个实施方式的一部分而显示或描述的特征可用在任何其他实施方式上或与任何其他实施方式结合使用，以产生又另一实施方式。旨在使本公开内容包括这样的修改和变化。在附图的以下描述中，相同的标号代表相同或相似的部件。通常，仅描述关于各个实施方式的差异。除非另外指出，否则一个实施方式中的一部分或一方面的描述也可应用于另一个实施方式中的对应部分或方面。在更详细地描述本公开内容的各个实施方式之前，解释关于本文使用的一些术语和表达的一些方面。在本公开内容中，“材料沉积布置结构”应理解为本文所描述的被配置为用于在基板上进行材料沉积的布置结构。具体来说，“材料沉积布置结构”可理解为被配置为用于在大面积基板上沉积有机材料的布置结构，例如以用于OLED显示器制造。例如，“大面积基板”可具有面积为0.5m2或更大，特别是1m2或更大的主表面。在一些实施方式中，大面积基板可以是对应于约0.67m2的基板(0.73m×0.92m)的第4.5代、对应于约1.4m2的基板(1.1m×1.3m)的第5代、对应于约4.29m2的基板(1.95m×2.2m)的第7.5代、对应于约5.7m2的基板(2.2m×2.5m)的第8.5代、或甚至对应于约8.7m2的基板(2.85m×3.05m)的第10代。可以类似地实施甚至更高的代，诸如第11代和第12代以及对应的基板面积。本文使用的术语“基板”可特别包括基本上非柔性基板，例如晶片、诸如蓝宝石或类似物的透明晶体片、或者玻璃板。然而，本公开内容不限于此，并且术语“基板”也可包含柔性基板，诸如卷材或箔。术语“基本上非柔性”理解为区别于“柔性”。具体而言，基本上非柔性基板可具有一定程度的柔本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于在真空沉积室中在基板上沉积材料的材料沉积布置结构(100)，所述材料沉积布置结构(100)包括至少一个材料沉积源(105)，所述材料沉积源(105)具有：‑坩埚(110)，被配置为蒸发所述材料；‑分配组件(120)，被配置为用于将蒸发的所述材料提供至所述基板；以及‑力施加装置(130)，被配置为用于在所述坩埚(110)与所述分配组件(120)之间的连接处(112)施加接触力。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于在真空沉积室中在基板上沉积材料的材料沉积布置结构(100)，所述材料沉积布置结构(100)包括至少一个材料沉积源(105)，所述材料沉积源(105)具有：-坩埚(110)，被配置为蒸发所述材料；-分配组件(120)，被配置为用于将蒸发的所述材料提供至所述基板；以及-力施加装置(130)，被配置为用于在所述坩埚(110)与所述分配组件(120)之间的连接处(112)施加接触力。2.如权利要求1所述的材料沉积布置结构(100)，其中所述至少一个材料沉积源(105)包括坩埚固持布置结构(140)，所述坩埚固持布置结构被配置为可拆卸地连接到所述至少一个材料沉积源的壁(111)。3.如权利要求1或2所述的材料沉积布置结构(100)，其中所述力施加装置(130)连接到所述坩埚固持布置结构(140)。4.如权利要求1至3中任一项所述的材料沉积布置结构(100)，其中所述力施加装置(130)由具有高达至少200℃的温度的耐热性的材料制成。5.如权利要求1至4中任一项所述的材料沉积布置结构(100)，其中所述力施加装置(130)包括用于施加所述接触力的至少一个弹簧(131)。6.如权利要求1至5中任一项所述的材料沉积布置结构(100)，其中所述坩埚(110)与所述分配组件之间的所述连接处由所述分配组件的第一接触表面(112A)和所述坩埚的配合的第二接触表面(112B)提供。7.如权利要求6所述的材料沉积布置结构(100)，其中所述第一接触表面(112A)为凹形接触表面，并且其中所述配合的第二接触表面(112B)为配合的凸形接触表面。8.如权利要求2至7中任一项所述的材料沉积布置结构(100)，其中所述坩埚固持布置结构(140)包括安装组件(141)，所述安装组件(141)被配置为用于将所述坩埚固持布置结构安装至所述至少一个材料沉积源的所述壁。9.如权利要求2至8中任一项所述的材料沉积布置结构(100)，其中所述坩埚固持布置结构(140)包括加热布置结构(160)，所述加热布置结构被配置为向所述坩埚提供热量以用于蒸发所述材料。1...

【专利技术属性】
技术研发人员：乔斯·曼纽尔·迭格斯坎波，哈拉尔德·沃斯特，乌韦·许斯勒，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US