沉积设备、真空系统、及操作沉积设备的方法技术方案

技术编号:19705620 阅读:32 留言:0更新日期:2018-12-08 15:15
本公开内容提供一种用于真空沉积工艺的沉积设备(100)。沉积设备包括真空腔室(130);可移动沉积源(110),布置于真空腔室中;及供应布置(120),提供用于数个媒介供应线的供应通道,这些媒介供应线用于可移动沉积源,其中供应布置包括轴向可偏转元件(122)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】沉积设备、真空系统、及操作沉积设备的方法
本公开内容的实施方式涉及数种用以沉积一或多层于基板上的沉积设备,特别是用以沉积包括数个有机材料于其中的数层于基板上的沉积设备。特别是,本公开内容的实施方式涉及一种用以于真空腔室中沉积已蒸发材料于基板上的材料沉积设备。实施方式进一步涉及数种真空沉积系统及数种操作沉积设备的方法,特别是用于有机发光二极管(OLED)制造。
技术介绍
有机沉积设备涉及用于制造有机发光二极管(organiclight-emittingdiodes,OLED)的工具。OLEDs为发光二极管的一种特定类型,在OLEDs中,发光层包括特定的有机化合物的薄膜。有机发光二极管(OLEDs)被用来制造电视屏幕、计算机显示器、移动电话、用以显示信息的其他手持装置等。OLEDs亦可用于一般空间照明。OLED显示器的可行的颜色、亮度、及可视角度(viewingangle)的范围大于传统的液晶显示器(LCD)的可行的颜色、亮度、及可视角度的范围,因为OLED像素系直接地发光且不包含背光。因此,相较于传统之LCD的能量损耗,OLED显示器的能量损耗相当少。OLED装置的制造通常包含用以涂布基板的沉积源。通常,当沉积源相对于基板移动时,已蒸发材料可导引朝向基板。在操作期间,通常向沉积源供应有供应媒介。然而,当沉积源在沉积期间沿着源传送路径移动时,供应沉积源供应媒介可面临挑战。举例来说,媒介供应线可能因源的运动受到损坏,且可能有媒介供应中断的风险。中断或损害媒介供应可能致使系统停机(downtime)。因此,减少沉积工艺中断的风险及沉积设备的停机会为有利的。特别是,为沉积设备提供具有可靠地供应有供应媒介的沉积源会为有利的。
技术实现思路
鉴于上述,提供一种沉积设备、一种真空系统、及一种操作沉积设备的方法。本公开内容的其他方面、优点、及特征将从权利要求书、描述、及所附图式得以显见。根据本公开内容的一方面,提供一种用于真空沉积工艺的沉积设备。沉积设备包括真空腔室;可移动沉积源,布置于真空腔室中;及供应布置,所述供应布置提供用于数个媒介供应线的供应通道,这些媒介供应线用于可移动沉积源,其中供应布置包括轴向可偏转元件。根据本公开内容的另一方面,提供一种真空系统。真空系统包括根据本文所述任何实施方式的沉积设备;及第二真空腔室,相邻于沉积设备的真空腔室布置,其中沉积设备的供应布置至少部分地从真空腔室向外延伸至一空间,此空间相邻于第二真空腔室。根据本公开内容的其他方面,提供一种操作沉积设备的方法。此方法包括于真空腔室中移动可移动沉积源;及经由数个媒介供应线供应可移动沉积源,这些媒介供应线延伸通过供应布置的供应通道,其中供应布置包括轴向可偏转元件。附图说明以上简要概述的本公开内容的上述详述特征可以被详细理解的方式,以及本公开内容的更特定描述可以通过参照实施方式来获得。所附图式涉及本公开内容的数个实施方式且描述于下方:图1a及1b示意性示出根据本文所述实施方式的沉积设备的截面图;图2示意性示出根据本文所述实施方式的沉积设备的截面图;图3示意性示出根据本文所述实施方式的沉积设备的截面图;图4示意性示出根据本文所述实施方式的真空系统俯视图;图5示意性示出根据本文所述实施方式的真空系统的侧视图;以及图6示出根据本文所述实施方式的图示了操作沉积设备的方法的图式。具体实施方式现将详细参照本公开内容的实施方式,实施方式中的一或多个实例绘示于图式中。在关于图式的以下说明中,相同的附图标号意指相同的元件。一般来说,仅对相关于个别实施方式的不同之处进行描述。各实例以阐明本公开内容的方式而提供且不意欲对本公开内容的限制。再者,作为实施方式的部分而说明或描述的特征可用于其他实施方式或与其他实施方式结合,以产生另外的实施方式。本描述意在包括这些调整及变化。图1a及图1b示出用于真空沉积工艺的沉积设备100示意性截面图。沉积设备100包括真空腔室130。特别是,真空腔室130经构造以用于真空沉积且举例而言,可为涂布腔室或处理腔室。如本文所使用的术语“真空”可理解为具有少于例如是10mbar的真空压力的技术真空的含义。如图1a图及图1b图中示例性绘示出的,沉积设备100包括可移动沉积源110。可移动沉积源110可为经构造以用于提供待沉积于基板上的材料之源的装置或组件。特别是,可移动沉积源110可为蒸发源,蒸发源经构造以导引已蒸发材料朝向基板。举例来说,可移动沉积源110可经构造以用有机材料涂布基板。为了本公开内容的目的,可移动沉积源110可亦理解为可移动消耗者,可移动沉积源消耗供应至可移动沉积源的供应媒介。根据本文所述的实施方式的沉积设备可使用于在大面积基板上的显示器制造。大面积基板或支撑大面积基板的载体可具有至少0.174m2的尺寸,支撑大面积基板的载体也就是大面积载体。通常,载体的尺寸可为约1.4m2至约8m2,更典型地为约2m2至约9m2或甚至达12m2。如图1a及图1b中示例性示出的,可移动沉积源110可布置于沉积设备100的真空腔室130的内侧。真空腔室130适于维持真空腔室容积170的内侧的真空。大气环境180,例如具有约1bar的大气压力的大气环境,可围绕真空腔室。可移动沉积源110可在真空腔室130中于第一方向150中为可移动的。举例来说,可移动沉积源110可沿着设置于真空腔室130中的轨道为可移动的。于一些实施方式中,可移动沉积源110可沿着线性路径为可移动的,也就是源运动可为直线平移运动。于图1a中,可移动沉积源110位于第一位置。可移动沉积源110可在真空腔室130中沿着源传送路径为可移动的,例如是在沉积腔室或处理腔室中沿着源传送路径为可移动的。当可移动沉积源110沿着源传送路径(例如,在第一位置及第二位置之间)移动时,已蒸发材料可导引朝向一或多个基板。因此,源传送路径可在第一位置及第二位置之间延伸。于一些实施方式中,源传送路径可具有一长度,例如0.5m或更多、特别地1m或更多,尤其是约2m的第一位置及第二位置之间的距离。传送路径的长度可为少于10m,例如少于8m,少于5m或少于3m。在由可移动沉积源110沉积期间,基板可为静止的。举例来说,利用移动的沉积源沉积材料于静止的基板上对大面积基板会为有利的,但不限于此。于图1b中,可移动沉积源110已经从示例性示出于图1a中的第一位置移动至真空腔室130的第二位置。于一些实施方式中,可移动沉积源110的运动为沿着源传送路径从第一位置至第二位置的连续运动或步进式(step-wise)运动。在源运动期间,已蒸发材料可沉积于基板上,基板布置于真空腔室130中的沉积区域中。于一些实施方式中,可提供用以沿着源传送路径移动可移动沉积源的源驱动器。源驱动器可包括经构造以用于在真空腔室中沿着轨道移动可移动沉积源的驱动单元。于一些实施方式中,可提供诸如磁性悬浮装置之类的固持装置,而用于在可移动沉积源的运动期间运载可移动沉积源的至少一部分的重量。由源驱动器产生的驱动力可减少且因摩擦而产生的粒子可减少。根据本文所述的实施方式,沉积设备100包括供应布置120,如图1a图及图1b图中所示。供应布置120可被构造成馈通件(feed-through),用以从真空腔室130的环境导引媒介供应线140通过真空腔本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种用于真空沉积工艺的沉积设备(100),所述沉积设备包括:真空腔室(130);可移动沉积源(110),布置于所述真空腔室中;和供应布置(120),所述供应布置提供用于数个媒介供应线的供应通道(124),所述数个媒介供应线用于所述可移动沉积源;其中所述供应布置包括轴向可偏转元件(122)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于真空沉积工艺的沉积设备(100),所述沉积设备包括:真空腔室(130);可移动沉积源(110),布置于所述真空腔室中;和供应布置(120),所述供应布置提供用于数个媒介供应线的供应通道(124),所述数个媒介供应线用于所述可移动沉积源;其中所述供应布置包括轴向可偏转元件(122)。2.如权利要求1所述的沉积设备,其中所述轴向可偏转元件(122)为伸缩接头,特别地为波纹管,尤其是边缘焊接波纹管。3.如权利要求1或2所述的沉积设备,其中所述可移动沉积源(110)于第一方向(150)中为线性可移动的,且其中所述轴向可偏转元件(122)的轴于所述第一方向中延伸。4.如前述权利要求任一项所述的沉积设备,其中所述供应布置(120)经构造以用于使所述媒介供应线从所述真空腔室的外侧环境沿着所述供应通道通过而至所述可移动沉积源(110)的大气壳。5.如权利要求1至4任一项所述的沉积设备,进一步包括从所述可移动沉积源(110)延伸通过所述供应通道(124)的所述媒介供应线(140),其中所述媒介供应线包括下述的至少一或多者:冷却通道、电连接件、用以向所述可移动沉积源供应功率的缆线、用以向所述可移动沉积源供应信号的缆线、用以导引数个感测信号的缆线、气体通道、及水通道。6.如权利要求1至5任一项所述的沉积设备,其中所述供应布置(120)进一步包括刚性管元件(210),及其中所述刚性管元件的内部容积形成所述供应通道。7.如权利要求6所述的沉积设备,其中所述刚性管元件(210)于第一方向(150)中线性延伸通过所述真空腔室(130)的壁中的开口。8.如权利要求7所述的沉积设备,其中所述轴向可偏转元件的第一端被密封地连接至从所述真空腔室(130)向外突出的所述刚性管元件(210)的一部分和/或其中所述轴向可偏转元件的第...

【专利技术属性】
技术研发人员:塞巴斯蒂安·巩特尔·扎尔夫安德烈亚斯·索尔奥利弗·海姆尔
申请(专利权)人:应用材料公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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