柔性基板及其制备方法、柔性OLED器件和显示装置制造方法及图纸

一种柔性基板，包括聚合物基板和形成于所述聚合物基板上的阻隔增透膜系结构；其中，所述阻隔增透膜系结构包括一个或多个阻隔增透单元，所述阻隔增透单元包括无机水氧阻隔层和形成于所述无机水氧阻隔层上的增透层；当所述阻隔增透膜系结构包括多个所述阻隔增透单元时，所述无机水氧阻隔层和所述增透层交替层叠设置；所述无机水氧阻隔层的折射率为n，其中1.45

Flexible Substrate and Its Preparation Method, Flexible OLED Device and Display Device

A flexible substrate comprises a polymer substrate and a barrier antireflective film system structure formed on the polymer substrate, wherein the barrier antireflective film system structure comprises one or more barrier antireflective units, the barrier antireflective unit comprises an inorganic water oxygen barrier layer and an antireflective layer formed on the inorganic water oxygen barrier layer; When the barrier and antireflective film system structure comprises a plurality of said barrier and antireflective units, the inorganic water oxygen barrier layer and the antireflective layer are alternately stacked; the refractive index of the inorganic water oxygen barrier layer is n, of which 1.45 is the refractive index.

【技术实现步骤摘要】
柔性基板及其制备方法、柔性OLED器件和显示装置
本专利技术涉及OLED显示
，具体涉及一种柔性基板及其制备方法、柔性OLED器件和显示装置。
技术介绍
有机电致发光器件(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)又称为有机电激光显示、有机发光半导体。与传统LCD相比，OLED无需背光，当电流通过有机功能层时有机材料就能发光，大大降低了显示屏的厚度和能耗。OLED由于具有自发光、视角广、对比度高、低功耗、可实现柔性显示等优点，被应用于新一代手机屏幕、电脑显示器、全彩电视等领域，受到大家广泛关注。目前，有机电致发光器件大都是制备在刚性基板上，采用柔性基板材料可以制成完全柔性的显示器件。柔性OLED器件可弯曲、重量轻、便于携带、大拓宽了OLED的使用范围，是OLED的一个重要发展方向。由于柔性OLED器件对水和氧气非常敏感，其有机发光材料和活泼金属阴极都很容易和水、氧气发生反应而降低出光效率，影响器件使用寿命，因此要求水汽渗透率(WVTR)和氧气渗透率(O2TR)分别要低于10-6g/m2·d和10-5g/m2·d。然而柔性OLED常使用聚合物基板的水氧阻隔性较差，其WVTR和O2TR值一般在100～102量级，且聚合物基板的光透过率较低，从而影响OLED器件的出光效率。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种具有良好水氧阻隔效果和高透过率的柔性基板。一种柔性基板，其特征在于，包括聚合物基板、形成于所述聚合物基板上的阻隔增透膜系结构；其中，所述阻隔增透膜系结构包括一个或多个阻隔增透单元，所述阻隔增透单元包括无机水氧阻隔层和形成于所述无机水氧阻隔层上的增透层，且所述阻隔增透膜系结构以所述无机水氧阻隔层与所述聚合物基板接触；当所述阻隔增透单元为多个时，所述阻隔增透膜系结构中多个所述无机水氧阻隔层和多个所述增透层交替层叠设置；所述无机水氧阻隔层的折射率为n，其中1.45<n≤2.35，所述增透层的折射率小于或等于1.45，且所述无机水氧阻隔层的折射率大于所述聚合物基板的折射率。上述柔性基板，通过在聚合物基板上设置由不同折射率的膜层以层叠方式组成的阻隔增透膜系结构，以减少光从聚合物基板进入空气时经过界面时发生的反射，达到提升柔性基板的光透过率，从而提高柔性OLED器件的出光率，同时，阻隔增透膜系结构具有良好的水氧阻隔性，可增强柔性基板的水氧阻隔性能，延长柔性OLED器件的使用寿命。在其中一个实施例中，所述无机水氧阻隔层的材料选自TiO2和SiNxOy中的至少一种，其中，0<x≤4/3，0≤y<2，且在SiNxOy中O与N的原子个数比例为0～50:100。进一步地，所述无机水氧阻隔层的材料为SiNxOy，其中，1≤x≤4/3，0≤y≤0.5，且在SiNxOy中O与N原子个数比例为0～10：100。在其中一个实施例中，所述增透层的材料选自MgF2和SiCx’Oy’中的至少一种，其中，0≤x’≤0.2，0≤y’≤2，且在SiCx’Oy’中C与O原子个数比例为0～10：100。进一步地，所述增透层的材料为SiCx’Oy’，其中，0≤x’≤0.1，1.8≤y’≤2，且在SiCx’Oy’中C与O原子个数比例为4～6：100。在其中一个实施例中，单层的所述无机水氧阻隔层的厚度为50nm～1000nm，单层的所述增透层的厚度为50nm～1000nm。在其中一个实施例中，所述阻隔增透膜系结构中所述阻隔增透单元的数量为2～4个。为了增强柔性基板的水氧阻隔和增透效果，同时避免器件的厚度太厚，所述阻隔增透膜系结构可以设置2～4个所述阻隔增透单元。在其中一个实施例中，所述聚合物基板为聚酰亚胺基板(简称PI基板)或聚醚砜基板(PES基板)，所述聚合物基板的厚度为5μm～3000μm。本申请的另一目的在于提供上述柔性基板的制备方法，具体包括以下步骤：于所述聚合物基板上形成所述无机水氧阻隔层；于所述水氧阻隔层上形成所述增透层，即得柔性基板。本申请的又一目的在于提供一种柔性OLED器件，所述柔性OLED器件包括上述柔性基板和形成于所述柔性基板上的有机发光器层。本申请还提供一种包含上述柔性基板的显示装置。附图说明图1为一实施方式柔性OLED器件的结构示意图；图2为一实施方式柔性基板的结构示意图。具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。如图1～2所示，一实施方式的柔性OLED器件100，包括柔性基板10和形成于柔性基板10上的有机发光器层30；所述柔性基板10包括聚合物基板11和形成于聚合物基板11上的阻隔增透膜系结构12。其中，如图2所示，阻隔增透膜系结构12包括一个或多个阻隔增透单元121，阻隔增透单元121由无机水氧阻隔层1212和增透层1214组成且增透层1214位于无机水氧阻隔层1212之上；当阻隔增透膜系结构12包括多个阻隔增透单元121时，无机水氧阻隔层1212和增透层1214交替层叠设置；无机水氧阻隔层1212的折射率为n，1.45<n≤2.35，增透层1214的折射率为小于或等于1.45，且无机水氧阻隔层1212的折射率大于聚合物基板11的折射率。上述柔性OLED器件100，通过在柔性基板10的聚合物基板11上设置由折射率不同的膜层以层叠方式组成的阻隔增透膜系结构12，以减少光从聚合物基板11进入空气时经过界面发时生的反射，达到提升柔性OLED器件柔性基板的透过率，从而提高柔性OLED器件的出光率，同时，阻隔增透膜系结构12具有良好的水氧阻隔性，可以增强柔性OLED器件的水氧阻隔性能，延长柔性OLED器件的使用寿命。在其中一个实施例中聚合物基板11为聚酰亚胺基板(简称PI基板)或聚醚砜基板(PES基板)，聚合物基板11的厚度为5μm～3000μm。适于柔性OLED器件的聚合物基板必须满足以下性质：ITO镀膜后光学透过率要达到80％以上，即达到玻璃基板的水平；具备抗高温以及较高的抗UV老化性能；水汽阻隔要求达到1ug/m2·d，氧气阻隔性能至少达到10-5g/m2·d等。然而，耐高温特性是首要解决的问题，因为薄膜晶体管(TFT)面板制程温度高达300～400℃，而聚合物基板的玻璃化转变温度(Tg)一般都在200℃以下，如PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)为78℃、PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)为120℃，直接导致可制程温度低，不太适合用于开发柔性OLED器件。因此，选用具有较高玻璃化转变温度的聚合物基板，如PES、PI基板，PES基板的Tg为203℃，PI基板的Tg为340℃，可以承受较高的TFT制程温度，在基板上溅射ITO或其他层时，PI或PES基板较不易因受热变形而产生不良的影响。同时可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种柔性基板，其特征在于，包括聚合物基板和形成于所述聚合物基板上的阻隔增透膜系结构；其中，所述阻隔增透膜系结构包括一个或多个阻隔增透单元，所述阻隔增透单元包括无机水氧阻隔层和形成于所述无机水氧阻隔层上的增透层，且所述阻隔增透膜系结构以所述无机水氧阻隔层与所述聚合物基板接触；当所述阻隔增透单元为多个时，所述阻隔增透膜系结构中多个所述无机水氧阻隔层和多个所述增透层交替层叠设置；所述无机水氧阻隔层的折射率为n，其中1.45

【技术特征摘要】
1.一种柔性基板，其特征在于，包括聚合物基板和形成于所述聚合物基板上的阻隔增透膜系结构；其中，所述阻隔增透膜系结构包括一个或多个阻隔增透单元，所述阻隔增透单元包括无机水氧阻隔层和形成于所述无机水氧阻隔层上的增透层，且所述阻隔增透膜系结构以所述无机水氧阻隔层与所述聚合物基板接触；当所述阻隔增透单元为多个时，所述阻隔增透膜系结构中多个所述无机水氧阻隔层和多个所述增透层交替层叠设置；所述无机水氧阻隔层的折射率为n，其中1.45<n≤2.35，所述增透层的折射率小于或等于1.45，且所述无机水氧阻隔层的折射率大于所述聚合物基板的折射率。2.如权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述无机水氧阻隔层的材料选自TiO2和SiNxOy中的至少一种，其中，0<x≤4/3，0≤y<2，且在SiNxOy中O与N的原子个数比例为0～50:100；和/或所述增透层的材料选自MgF2和SiCx’Oy’中的至少一种，其中，0≤x’≤0.2，0≤y’≤2，且在SiCx’Oy’中C与O原子个数比例为0～10：100。3.如权利要求2所述的柔性OLED器件，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘新，
申请(专利权)人：广东聚华印刷显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44