彩色滤光基板的制作方法技术

本申请提供一种彩色滤光基板的制作方法，包括步骤：在衬底基板上形成图案化的黑色矩阵层；通过光刻工艺在显示区域对应的黑色矩阵层上形成色阻层，在外围区域形成由色阻层材料制成的色阻凸台；在色阻层和色阻凸台上形成一导电层。本申请通过在形成色阻层的同时，于衬底基板的外围区域形成色阻凸台，而后形成导电层，没有新增工艺便可实现阵列基板和彩色滤光基板的导通，从而节省了点胶工艺时间，降低了材料、混胶人力成本。

Fabrication Method of Color Filter Substrate

The present application provides a method for fabricating a color filter substrate, including steps: forming a patterned black matrix layer on the substrate; forming a color barrier layer on the black matrix layer corresponding to the display area by photolithography process, forming a color barrier convex platform made of color barrier layer material in the peripheral area; and forming a color barrier layer and a color barrier convex platform on the color barrier layer and the color barrier convex platform. A conductive layer is formed. The application can realize the conduction of the array substrate and the color filter substrate without adding a new process by forming a color resistance bump in the peripheral area of the substrate substrate while forming a color resistance layer, thereby saving the dispensing process time and reducing the labor cost of materials and mixing.

【技术实现步骤摘要】
彩色滤光基板的制作方法
本申请涉及一种彩色滤光基板技术，特别涉及一种彩色滤光基板的制作方法。
技术介绍
随着薄膜晶体管液晶显示器技术的发展，液晶显示器的应用越来越广，也备受青睐。在液晶显示器的制作工艺中，包括导通彩色滤光基板和阵列基板以及对位压合成盒。其中液晶显示器主要通过导电金球导通彩色滤光基板和阵列基板，通过阵列基板侧COF实现CF信号传输。在设置导电金球时，通常采用点胶工艺，将混有导电金球的框胶，涂至电信号转换图形区域的位置(显示区域的外围)，并进行压合固化后，实现彩色滤光基板和阵列基板的导通。但是，传统的导电金球采用化学镀的方法制成，污染严重，且金本身为贵金属，价格昂贵。另外点胶工艺耗时长，导致制程时间较长。故，需要提供一种环保、低成本且高效的彩色滤光基板的制作方法，以解决上述技术问题。
技术实现思路
本申请实施例提供一种环保、低成本且高效的彩色滤光基板的制作方法；以解决现有的彩色滤光基板和阵列基板通过导电金球进行导通，导致成本高、污染大且制程时间长的技术问题。本申请实施例提供一种彩色滤光基板的制作方法，所述彩色滤光基板的制作方法包括以下步骤：步骤S1：在衬底基板上形成图案化的黑色矩阵层，所述衬底基板包括一显示区域和设置在所述显示区外围的外围区域，所述黑色矩阵层设置在所述显示区域；步骤S2：通过光刻工艺在所述显示区域对应的所述黑色矩阵层上形成色阻层，在所述外围区域形成由所述色阻层材料制成的色阻凸台，所述色阻凸台的厚度高于所述色阻层的厚度；步骤S3：在所述色阻层和所述色阻凸台上形成一导电层，以使所述色阻凸台和对应设置在所述色阻凸台上的导电层组合构成用于导通所述彩色滤光基板和阵列基板的导电凸台。在本申请的彩色滤光基板的制作方法的第一技术方案中，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层、第二色阻单元层和第三色阻单元层，所述步骤S2包括：在所述衬底基板上涂布一层第一光刻胶，所述第一光刻胶覆盖所述外围区域和所述黑色矩阵层；通过第一光刻掩模板对所述第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述外围区域的色阻凸台和对应于所述显示区域的第一色阻单元层；在所述衬底基板上涂布一层第二光刻胶，所述第二光刻胶覆盖所述黑色矩阵层；通过第二光刻掩模板对所述第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述显示区域的第二色阻单元层；在所述衬底基板上涂布一层第三光刻胶，所述第三光刻胶覆盖所述黑色矩阵层；通过第三光刻掩模板对所述第三光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述显示区域的第三色阻单元层。在本申请的彩色滤光基板的制作方法的第二技术方案中，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层、第二色阻单元层和第三色阻单元层，所述色阻凸台包括基层和设置在所述基层上的第二层，所述步骤S2包括：在所述衬底基板上涂布一层第一光刻胶，所述第一光刻胶覆盖所述外围区域和所述黑色矩阵层；通过第一光刻掩模板对所述第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述外围区域的基层和对应于所述显示区域的第一色阻单元层；在所述衬底基板上涂布一层第二光刻胶，所述第二光刻胶覆盖所述基层和所述黑色矩阵层；通过第二光刻掩模板对所述第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述外围区域的第二层和对应于所述显示区域的第二色阻单元层；在所述衬底基板上涂布一层第三光刻胶，所述第三光刻胶覆盖所述黑色矩阵层；通过第三光刻掩模板对所述第三光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述显示区域的第三色阻单元层。在本申请的彩色滤光基板的制作方法的第三技术方案中，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层、第二色阻单元层和第三色阻单元层，所述色阻凸台包括基层、设置在所述基层上的第二层和设置在所述第二层上的第三层，所述步骤S2包括：在所述衬底基板上涂布一层第一光刻胶，所述第一光刻胶覆盖所述外围区域和所述黑色矩阵层；通过第一光刻掩模板对所述第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述外围区域的基层和对应于所述显示区域的第一色阻单元层；在所述衬底基板上涂布一层第二光刻胶，所述第二光刻胶覆盖所述基层和所述黑色矩阵层；通过第二光刻掩模板对所述第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述外围区域的第二层和对应于所述显示区域的第二色阻单元层；在所述衬底基板上涂布一层第三光刻胶，所述第三光刻胶覆盖所述第二层和所述黑色矩阵层；通过第三光刻掩模板对所述第三光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述外围区域的第三层和对应于所述显示区域的第三色阻单元层。在本申请的彩色滤光基板的制作方法的第二和第三技术方案中，所述基层由红色色阻材料制成，所述基层的厚度介于1微米至4微米之间。在本申请的彩色滤光基板的制作方法中，所述导电凸台厚度介于0.1微米至9微米之间。在本申请的彩色滤光基板的制作方法中，所述色阻凸台的形状为圆柱形、立方体或棱台中的一种；当所述色阻凸台为棱台状时，所述色阻凸台的侧面和底面的夹角介于30°-50°之间。在本申请的彩色滤光基板的制作方法中，在所述步骤S3包括：采用涂布工艺在所述色阻层和所述色阻凸台上涂布一层透明导电液；干燥所述透明导电液，形成导电层。在本申请的彩色滤光基板的制作方法中，所述导电层材料为AgNW、PEDOT:PSS、CNT、Graphene中的一种。在本申请的彩色滤光基板的制作方法中，所述导电凸台设置有至少两排。本申请还涉及一种彩色滤光基板，其包括：衬底基板，包括显示区域和设置在所述显示区域外围的外围区域；黑色矩阵层，设置在所述显示区域上；色阻层，设置在所述显示区域上并覆盖所述黑色矩阵层；色阻凸台，设置在所述外围区域；以及导电层，设置在所述色阻层和所述色阻凸台上；所述色阻凸台和设置在所述色阻凸台上的导电层组合形成导电凸台，所述色阻凸台的厚度高于所述色阻层的厚度，用于成盒时支撑和导通所述彩色滤光基板和阵列基板。在本申请的彩色滤光基板中，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层、第二色阻单元层和第三色阻单元，所述色阻凸台由一种色阻材料或两种色阻材料堆叠或三种色阻材料堆叠形成。在本申请的彩色滤光基板中，当所述色阻凸台由两种色阻材料堆叠或三种色阻材料堆叠形成时，所述色阻凸台包括设置在所述衬底基板上的基层，所述基层由红色色阻材料制成，所述基层的厚度介于1微米至4微米之间。在本申请的彩色滤光基板中，所述色阻凸台的形状为圆柱形、立方体或棱台中的一种；当所述色阻凸台为棱台状时，当所述色阻凸台为棱台状时，所述色阻凸台的侧面和底面的夹角介于30°-50°之间。在本申请的彩色滤光基板中，所述导电层材料为AgNW(银纳米线导电膜)、PEDOT:PSS、CNT、Graphene(石墨烯)中的一种。相较于现有技术的彩色滤光基板的制作方法，本申请的彩色滤光基板的制作方法通过在形成色阻层的同时，于衬底基板的外围区域形成色阻凸台，而后形成导电层，没有新增工艺便可实现阵列基板和彩色滤光基板的导通，从而节省了点胶工艺时间，降低了材料、混胶人力成本；另外，采用光刻方法形成色阻凸台，提高了色阻凸台的附着力，对位精度高，在另一方面，采用AgNW(银纳米线导电膜)、PEDOT:PSS、CNT、Graphene(石墨烯)等导电材料作为导电层替代ITO，可有效减少ITO脆裂风险，提高附着色阻凸台表面的性能；解决了现有的彩色滤光基板和阵列基板通过导电金球进行导本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述彩色滤光基板的制作方法包括以下步骤：步骤S1：在衬底基板上形成图案化的黑色矩阵层，所述衬底基板包括一显示区域和设置在所述显示区外围的外围区域，所述黑色矩阵层设置在所述显示区域；步骤S2：通过光刻工艺在所述显示区域对应的所述黑色矩阵层上形成色阻层，在所述外围区域形成由所述色阻层材料制成的色阻凸台，所述色阻凸台的厚度高于所述色阻层的厚度；步骤S3：在所述色阻层和所述色阻凸台上形成一导电层，以使所述色阻凸台和对应设置在所述色阻凸台上的所述导电层组合构成用于导通所述彩色滤光基板和阵列基板的导电凸台。

【技术特征摘要】
1.一种彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述彩色滤光基板的制作方法包括以下步骤：步骤S1：在衬底基板上形成图案化的黑色矩阵层，所述衬底基板包括一显示区域和设置在所述显示区外围的外围区域，所述黑色矩阵层设置在所述显示区域；步骤S2：通过光刻工艺在所述显示区域对应的所述黑色矩阵层上形成色阻层，在所述外围区域形成由所述色阻层材料制成的色阻凸台，所述色阻凸台的厚度高于所述色阻层的厚度；步骤S3：在所述色阻层和所述色阻凸台上形成一导电层，以使所述色阻凸台和对应设置在所述色阻凸台上的所述导电层组合构成用于导通所述彩色滤光基板和阵列基板的导电凸台。2.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层、第二色阻单元层和第三色阻单元层，所述步骤S2包括：在所述衬底基板上涂布一层第一光刻胶，所述第一光刻胶覆盖所述外围区域和所述黑色矩阵层；通过第一光刻掩模板对所述第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述外围区域的色阻凸台和对应于所述显示区域的第一色阻单元层；在所述衬底基板上涂布一层第二光刻胶，所述第二光刻胶覆盖所述黑色矩阵层；通过第二光刻掩模板对所述第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述显示区域的第二色阻单元层；在所述衬底基板上涂布一层第三光刻胶，所述第三光刻胶覆盖所述黑色矩阵层；通过第三光刻掩模板对所述第三光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述显示区域的第三色阻单元层。3.根据权利要求1所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述色阻层包括颜色不同的第一色阻单元层、第二色阻单元层和第三色阻单元层，所述色阻凸台包括基层和设置在所述基层上的第二层，所述步骤S2包括：在所述衬底基板上涂布一层第一光刻胶，所述第一光刻胶覆盖所述外围区域和所述黑色矩阵层；通过第一光刻掩模板对所述第一光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述外围区域的基层和对应于所述显示区域的第一色阻单元层；在所述衬底基板上涂布一层第二光刻胶，所述第二光刻胶覆盖所述基层和所述黑色矩阵层；通过第二光刻掩模板对所述第二光刻胶进行曝光、显影处理，得到对应于所述外围区域的第二层和对应于所述显示区域的第二色阻单元层...

【专利技术属性】
技术研发人员：邵源，王海军，张霞，陈孝贤，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44