彩膜基板及其制作方法、液晶面板技术

本发明专利技术公开了一种彩膜基板及其制作方法、液晶面板。该制作方法包括：在基板上形成限定出多个像素区的黑色矩阵；对所述黑色矩阵的表面进行疏水化处理；在每个所述像素区内形成彩色光阻。该液晶面板包括上述的彩膜基板、与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板以及填充于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶。该在黑色矩阵制作完成后，对黑色矩阵的表面进行疏水化处理，这样在制作彩色光阻时，便于去除黑色矩阵上方的彩色光阻层，防止彩色光阻的边缘搭接在黑色矩阵上形成牛角，保证彩色光阻的表面平整。

Color Film Substrate and Its Fabrication Method, LCD Panel

The invention discloses a color film substrate, a manufacturing method thereof and a liquid crystal panel. The fabrication method includes: forming a black matrix on a substrate that defines a plurality of pixel areas; hydrophobically treating the surface of the black matrix; and forming a color photoresistance in each pixel area. The liquid crystal panel includes the color film substrate, the array substrate arranged on the box by the color film substrate, and the liquid crystal filled between the color film substrate and the array substrate. After making the black matrix, the surface of the black matrix is hydrophobically treated, so that when making the color photoresist, the color photoresist layer above the black matrix can be easily removed, and the edges of the color photoresist can be overlapped on the black matrix to form horns, so as to ensure the smooth surface of the color photoresist.

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板及其制作方法、液晶面板
本专利技术属于液晶显示
，具体地讲，涉及一种彩膜基板及其制作方法、液晶面板。
技术介绍
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)作为人与信息的沟通界面，是当前主流的显示方式。它具有高空间利用率、低功耗、无辐射以及低电磁干扰等优越特性，在电视、手机、平板电脑等信息沟通工具中广泛使用。在LCD的制备过程中，彩色滤光片是必不可少的关键组件。现行的彩色滤光片制备工艺基板为：1、在基板上制作黑色矩形；2、制作彩色光阻；3、制作透明导电膜；4、制作柱状隔垫物。其中，如图1所示，在彩色光阻的制程中，为了保证彩色光阻和黑色矩阵的边界不漏光，彩色光阻2一般在黑色矩阵上形成一定的搭接(Overlap，简称OL)，OL的存在导致整个膜面的平坦度不佳，像素周围形成牛角2A，造成透明导电膜破膜、液晶配向不均和显示画面质量下降。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于克服现有技术的不足，提供一种具有平坦表面的彩色光阻块的彩膜基板及其制作方法以及液晶面板。为了实现上述的目的，本专利技术采用了如下的技术方案：一种彩膜基板的制作方法，包括步骤：S1：在基板上形成限定出多个像素区的黑色矩阵；S2：对所述黑色矩阵的表面进行疏水化处理；S3：在每个所述像素区内形成彩色光阻。优选地，步骤S1具体包括：在所述基板上形成黑色光阻层；利用具有预定图案的光罩对所述黑色光阻层进行曝光；对曝光后的所述黑色光阻层进行显影，以形成所述黑色矩阵；优选地，对曝光后的所述黑色光阻层进行显影处理之后，所述制作方法还包括：利用紫外光照射所述黑色矩阵，以将所述黑色矩阵固化，从而使得所述黑色矩阵的横截面的形状为倒梯形。优选地，对所述黑色矩阵的表面进行疏水化处理具体为：采用等离子体工艺对所述黑色矩阵的表面进行处理，以在所述黑色矩阵的表面形成疏水层。优选地，所述等离子体工艺的工作气体为四氟甲烷。或者，步骤S2具体为：在所述黑色矩阵的表面涂覆疏水材料，以在所述黑色矩阵的表面上形成疏水层。优选地，步骤S3具体包括：在所述黑色矩阵和所述基板上涂覆彩色光阻层；对所述彩色光阻层进行曝光、显影以及刻蚀处理，以去除所述黑色矩阵表面上的部分所述彩色光阻层，以形成所述彩色光阻。优选地，所述彩色光阻的厚度与所述黑色矩阵的厚度相同。本专利技术还公开了一种采用任一种上述的制作方法制成的彩膜基板。本专利技术还公开了一种液晶面板，包括任一种上述的彩膜基板、与所述彩膜基板对盒设置的阵列基板以及填充于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶。有益效果：本专利技术公开的一种彩膜基板及其制作方法、液晶面板，在黑色矩阵制作完成后，对黑色矩阵的表面进行疏水化处理，这样在制作彩色光阻时，便于去除黑色矩阵上方的彩色光阻层，防止彩色光阻的边缘搭接在黑色矩阵上形成牛角，保证彩色光阻的表面平整，改善彩膜基板的表面平坦度。附图说明图1为现有技术的彩色滤光片的剖面图；图2为本专利技术的实施例一的彩膜基板的制作方法的流程图；图3A至3G为本专利技术的实施例一的彩膜基板的制程图；图4为本专利技术实施例三的液晶面板的剖面图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。实施例一图2示出了根据本专利技术的实施例一的彩膜基板的制作方法的流程图，该制作方法具体包括：步骤S1：如图3A至图3D所示，在基板10上形成限定出多个像素区10a的黑色矩阵20。作为优选实施例，该步骤S1具体包括如下步骤：步骤S11：如图3A所示，在基板10上形成黑色光阻层20A。具体地，首先对基板10进行清洗，接着在基板10上均匀涂布黑色光阻层20A，然后对黑色光阻层20A进行预烘烤。步骤S12：如图3B所示，利用具有预定图案的光罩50对黑色光阻层20A进行曝光。将光罩50与黑色光阻层20A对位，利用紫外光照射光罩50以对黑色光阻层20A进行选择性曝光。作为优选实施例，本实施例的黑色光阻层20A的材料为正性光阻材料。步骤S13：如图3C所示，对曝光后的黑色光阻层20A进行显影，以形成黑色矩阵20。具体地，利用显影液去除黑色光阻层20A被曝光的部分，并去除像素区10a内的残余材料，接着对黑色矩阵20进行烘烤，使得黑色矩阵20固化。进一步地，在进行显影处理之后，采用紫外光照射黑色矩阵20，以固化黑色矩阵20，这样可防止显影处理后得到的黑色矩阵20在后续烘烤过程中发生坍塌，使得黑色矩阵横截面的形状为倒梯形，使得黑色矩阵顶面的宽度大于底面的宽度，这样可防止黑色矩阵20的边缘与彩色光阻30的接触不紧密导致发生漏光。其中，这里所说的横截面指的是沿着平行于纸面的方向剖切黑色矩阵20形成的横截面。步骤S2：如图3D所示，对黑色矩阵20的表面进行疏水化处理。作为优选实施例，采用等离子体工艺对黑色矩阵20的表面进行疏水化处理，其中，等离子体工艺中的工作气体为四氟甲烷，四氟甲烷电离出氟离子，氟离子与黑色矩阵20的表面发生反应，以使得黑色矩阵20的表面形成具有疏水化特性的疏水层20B。当然，在其他实施方式中，还可以在黑色矩阵20的表面形成疏水层。例如，可采用化学沉积工艺在黑色矩阵20的表面上沉积形成疏水材料，以形成疏水层。当然还可以将疏水材料直接涂覆在黑色矩阵20的表面上以形成疏水层。步骤S3：如图3E至图3F所示，在每个像素区10a内形成彩色光阻30。作为优选实施例，该步骤S2具体包括如下步骤：S21：如图3E所示，在黑色矩阵20和所述基板10上涂覆彩色光阻层30A。S22：如图3F所示，对彩色光阻层30A进行曝光和显影处理，以去除黑色矩阵20表面上的彩色光阻层30A，以在黑色矩阵20之间形成彩色光阻30。其中，依次在像素区10a制作形成红色滤光块R、绿色滤光块G和蓝色滤光块B。由于黑色矩阵20的表面具有疏水化特性，更容易除去黑色矩阵20上方的彩色光阻层30A。这种形成的彩色光阻30的背向基板10的表面在基板10上投影和黑色矩阵20的背向基板10的表面在基板10上投影互不重叠，防止彩色光阻30的边缘搭接在黑色矩阵20上形成牛角，使得彩色光阻块30的表面更加平坦。当黑色矩阵20表面上形成有疏水层时，去除黑色矩阵20上方的彩色光阻层30A后，需要继续去除黑色矩阵20表面上的疏水层。作为优选实施例，黑色矩阵20的厚度与彩色光阻30的厚度相同。步骤S3：如图3G所示，在黑色矩阵20和彩色光阻30上制作形成平坦层40。本专利技术的实施例一公开的彩膜基板的制作方法，在黑色矩阵制作完成后，对黑色矩阵的表面进行疏水化处理，这样在制作彩色光阻时，便于去除黑色矩阵上方的彩色光阻层，防止彩色光阻的边缘搭接在黑色矩阵上形成牛角，保证彩色光阻的表面平整。实施例二根据本专利技术的实施例二的彩膜基板由实施例一的制作方法制成。如图3G所示，该彩膜基板包括基板10、黑色矩阵20和多个彩色光阻30。其中，黑色矩阵20设于基板10上以限定出多个像素区10a，彩色光阻30设置于对应的像素区内10a，彩色光阻30的背向基板10的表面在基板10上的投影和黑色矩阵20的背向基板10的表面在基板10上的投影互不重叠。这样可防止彩色光阻30的边缘搭接在黑色矩阵20上形成牛角，使得本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括步骤：S1：在基板(10)上形成限定出多个像素区(10a)的黑色矩阵(20)；S2：对所述黑色矩阵(20)的表面进行疏水化处理；S3：在每个所述像素区(10a)内形成彩色光阻(30)。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括步骤：S1：在基板(10)上形成限定出多个像素区(10a)的黑色矩阵(20)；S2：对所述黑色矩阵(20)的表面进行疏水化处理；S3：在每个所述像素区(10a)内形成彩色光阻(30)。2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，步骤S1具体包括：在所述基板(10)上形成黑色光阻层(20A)；利用具有预定图案的光罩(50)对所述黑色光阻层(20A)进行曝光；对曝光后的所述黑色光阻层(20A)进行显影，以形成所述黑色矩阵(20)。3.根据权利要求2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，对曝光后的所述黑色光阻层(20A)进行显影处理之后，所述制作方法还包括：利用紫外光照射所述黑色矩阵(20)，以将所述黑色矩阵(20)固化，从而使得所述黑色矩阵(20)的横截面的形状为倒梯形。4.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，步骤S2具体为：采用等离子体工艺对所述黑色矩阵(20)的表面进行处理，以在所述黑色矩阵(20)的表面形成疏水层。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁夏梁，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44