在去夹持步骤期间移除静电夹盘上的残余电荷的方法技术

一种用于从基板支撑件对残余电荷进行放电的方法和设备。在一个例子中，提供了基板支撑件，基板支撑件包括本体、设置在本体中的电极、辐射发射器和扩散器。本体具有形成在工件支撑表面中的一个或多个孔，工件支撑表面经构造以在工件支撑表面上接收基板。电极经构造以将基板静电保持到工件支撑表面。辐射发射器设置在形成于工件支撑表面中的一个或多个孔的第一孔中。辐射发射器经构造以从第一孔发射电磁能。扩散器设置在第一孔中并位于辐射发射器上方。

Method of removing residual charge from electrostatic chuck during de-clamping step

A method and device for discharging residual charge from a substrate support. In one example, a substrate support is provided, which includes a body, an electrode disposed in the body, a radiation emitter and a diffuser. The body has one or more holes formed on the support surface of the workpiece, and the support surface of the workpiece is constructed to receive the substrate on the support surface of the workpiece. The electrodes are constructed to hold the base plate electrostatically to the workpiece support surface. The radiation emitter is arranged in the first hole formed in one or more holes on the support surface of the workpiece. The radiation emitter is constructed to emit electromagnetic energy from the first hole. The diffuser is located in the first hole and above the radiation emitter.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】在去夹持步骤期间移除静电夹盘上的残余电荷的方法
本专利技术的实施方式涉及半导体晶片处理系统，且更具体地，涉及用于移除用以保持半导体晶片的静电夹盘上的残余电荷的方法和设备。
技术介绍
在高精度制造(例如半导体制造)中，在制造操作期间，基板可能需要被固定设备精确地保持，以增加均匀品质并减少缺陷。在一些制造操作中，使用静电夹盘作为固定设备，以在一个或多个制造操作期间利用静电力(“夹持力”)将基板保持在支撑结构上。尽管静电夹盘在设计上不同，但是静电夹盘利用对嵌入在夹盘中的一个或多个电极施加电压，以便在基板和(多个)电极中感生相反极性的电荷，从而产生静电夹持力。静电夹持力将基板拉抵至夹盘，从而保持基板。静电夹盘的问题在于当需要从夹盘释放基板时，难以从基板和夹盘移除电荷。一种传统的解决方案是将电极和基板两者接地，以允许电荷排出。另一种传统的解决方案是使施加到电极的DC电压的极性反转。这些方法的缺点是残余电荷通常残留在夹盘上，导致在基板和夹盘之间残留一些静电力。另外，残留的电荷可能局部地累积，使得施加到基板的静电力遍布基板可能变得不均匀。残留静电力还可能需要使用大的机械力以将工件从夹盘分离。不期望本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板支撑件，包含：本体，具有形成在工件支撑表面中的一个或多个孔，所述工件支撑表面经构造以在所述工件支撑表面上接收基板；电极，设置在所述本体中，且经构造以将所述基板静电保持到所述工件支撑表面；辐射发射器，设置在形成于所述工件支撑表面中的所述一个或多个孔的第一孔中，所述辐射发射器经构造以从所述第一孔发射电磁能；及扩散器，设置在所述第一孔中并位于所述辐射发射器上方。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.14 US 62/307,938;2016.12.22 US 62/438,2581.一种基板支撑件，包含：本体，具有形成在工件支撑表面中的一个或多个孔，所述工件支撑表面经构造以在所述工件支撑表面上接收基板；电极，设置在所述本体中，且经构造以将所述基板静电保持到所述工件支撑表面；辐射发射器，设置在形成于所述工件支撑表面中的所述一个或多个孔的第一孔中，所述辐射发射器经构造以从所述第一孔发射电磁能；及扩散器，设置在所述第一孔中并位于所述辐射发射器上方。2.根据权利要求1所述的基板支撑件，其中所述本体由陶瓷形成。3.根据权利要求1所述的基板支撑件，其中所述本体由AlN或掺杂有氧的AlN形成。4.根据权利要求1所述的基板支撑件，其中所述辐射发射器设置在升降销中。5.根据权利要求1所述的基板支撑件，进一步包含：电磁能源，耦合到所述辐射发射器，其中所述电磁能源经构造以产生具有在约700nm和约900nm之间的波长的电磁能。6.根据权利要求1所述的基板支撑件，进一步包含：第二电极。7.根据权利要求1所述的基板支撑件，其中所述第一孔是背侧气体输送孔。8.一种处理腔室，包含：腔室本体，具有腔室盖、腔室壁和腔室底部，其中所述腔室本体包围腔室...

【专利技术属性】
技术研发人员：小温德尔·G·博伊德，汤姆·K·崔，罗伯特·T·海拉哈拉，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US