【技术实现步骤摘要】
X射线荧光光谱仪的内部装置保护结构
本专利技术涉及无损分析检测领域，尤其涉及一种X射线荧光光谱仪的内部装置保护结构。
技术介绍
X射线荧光光谱是现代仪器分析中十分重要的一种分析技术，X射线荧光光谱仪器在无损分析领域里也占据着举足轻重的地位。X射线荧光光谱仪按照色散类型可以分为能量色散(EDXRF)以及波长色散(WDXRF)。自上世纪50年代末我国引进能量色散型仪器以来，我国在能散型仪器的研究生产方面得到快速发展，而能散型仪器较波散型相比无论在发展速度亦或创新及分析领域上前者均已极大地超越了后者。随着X荧光光谱技术的发展与更新换代，仪器的整体性能也得到了一个又一个质的提升。这些整体提升的性能特别依赖于一些仪器内部件，如滤光片、准直器、三维偏正载体等。然而随着各种内部件在仪器系统内的引入也给X射线的传递提出了更复杂的环境及更高的要求，如光路干扰防护、异物进入防损以及监视图像失真等问题。现有的X射线荧光光谱仪的基本结构是在测试样的前方设置激发X射线，后方设置探测器。经实践，这样的结构在仪器用户实际操作过程中已经产生多种不良后果，而有些后果对于仪器而言甚至会带来不可恢复性...
【技术保护点】
1.X射线荧光光谱仪的内部装置保护结构，设置于X射线荧光光谱仪的样品放置口的内侧，包括一上部开口、下部密封的保护罩体，所述保护罩体的上部开口与测试样品位置对应，所述保护罩体的上部开口下方被界定为异物接收腔，所述异物接收腔的两侧分别设置有X射线入口和X射线荧光检测口，在保护罩体底部设置有朝着上部开口方向拍摄的拍摄装置。
【技术特征摘要】
1.X射线荧光光谱仪的内部装置保护结构，设置于X射线荧光光谱仪的样品放置口的内侧，包括一上部开口、下部密封的保护罩体，所述保护罩体的上部开口与测试样品位置对应，所述保护罩体的上部开口下方被界定为异物接收腔，所述异物接收腔的两侧分别设置有X射线入口和X射线荧光检测口，在保护罩体底部设置有朝着上部开口方向拍摄的拍摄装置。2.根据权利要求1所述的X射线荧光光谱仪的内部装置保护结构，其特征在于，保护罩体为圆筒形罩体或方筒形罩体。3.根据权利要求1所述的X射线荧光光谱仪的内部装置保护结构，其特征在于，保护罩体为漏斗型罩体。4.根据权利要求1所述的X射线荧光光谱仪的内部装置保护结构，其特征在于，保护罩体为纺锤形罩体。5.根据权利要求1所述的X射线荧光光谱仪的内部装置保护结构，其特征在于，保护罩体直接与样品测试平面固定。6.根据权利要求1所述的X射线荧光光谱仪的内部装置保护结构，其特征在于，还包括一个固定支架，所述固定支架固定在X射线荧光光谱仪上，保护罩体与所述固定支架连接、固定。7...
【专利技术属性】
技术研发人员：程偲，陈滨，张加强，罗美娜，
申请(专利权)人：上海新漫传感技术研究发展有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31
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