一种大面积碳夹心同位素靶的制备装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于同位素技术领域，公开了一种大面积碳夹心同位素靶的制备装置。该制备装置主要包括真空室及位于真空室内的膜厚监测器、靶框支架、同位素靶源、碳弧源、旋转驱动装置；该制备装置还包括传动装置和集成电源，该传动装置包括传动齿轮和传动手柄，其中传动齿轮位于真空室内；该集成电源包括第一电源和第二电源，该集成电源位于真空室外。该装置具有操作简单、无需频繁破坏真空且靶膜制备成功率高的有益效果。

【技术实现步骤摘要】
一种大面积碳夹心同位素靶的制备装置
本技术属于同位素
，公开了一种大面积碳夹心同位素靶的制备装置。
技术介绍
随着核物理基础研究的深入开展和高稳定高能量加速器以及高分辨率探测系统的发展，对浓缩同位素核靶的需求越来越大。同位素靶膜的制备需要解决两方面的问题：1)所需同位素靶膜的面积较大，而浓缩同位素的价格比天然材料昂贵得多，有些可相差到几千万倍。例如，48Ca的单价是376美元/mg，而天然Ca为0.01美元/g，两者差3760万倍。因而需要一种能够尽量提高材料利用率和制靶成功率的同位素靶膜制备装置。2)很多物理实验常用的同位素靶膜如208Pb等由于熔点较低，很容易被实验过程中释放的热量熔化，因此常需要在208Pb靶内外两面各蒸镀一层碳膜来延长靶的寿命。基于以上两个问题，张宏斌等在《同位素208Pb靶的制备》中公开了一种夹心同位素靶的制备装置，该装置包括碳膜的制备装置和208Pb靶制备装置两种，两种制备过程均在真空室内进行。利用该装置进行制备夹心同位素靶时，需要镀一层碳膜后从真空室取出将碳膜剥离至208Pb靶靶框上，待蒸镀208Pb之后打开真空再在碳膜制备装置中蒸镀第二层碳膜，操本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种大面积碳夹心同位素靶的制备装置，该制备装置主要包括真空室及位于真空室内的膜厚监测器、靶框支架、同位素靶源、碳弧源、旋转驱动装置；该制备装置还包括传动装置和集成电源，该传动装置包括传动齿轮和传动手柄，其中传动齿轮位于真空室内；该集成电源包括第一电源和第二电源，该集成电源位于真空室外；所述靶框支架设置于真空室内的上部位置，为圆盘形结构，该支架四周设置有一个或多个与靶框数量、大小和形状对应的靶位，靶框放置于该靶位处；靶框支架与旋转驱动装置连接，该旋转驱动装置带动靶框旋转；所述同位素靶源位于蒸发舟内，该蒸发舟位于其中一个靶位正下方2.5～3cm处，且与两个金属电极固定连接；该两个金属电极与第一...

【技术特征摘要】
1.一种大面积碳夹心同位素靶的制备装置，该制备装置主要包括真空室及位于真空室内的膜厚监测器、靶框支架、同位素靶源、碳弧源、旋转驱动装置；该制备装置还包括传动装置和集成电源，该传动装置包括传动齿轮和传动手柄，其中传动齿轮位于真空室内；该集成电源包括第一电源和第二电源，该集成电源位于真空室外；所述靶框支架设置于真空室内的上部位置，为圆盘形结构，该支架四周设置有一个或多个与靶框数量、大小和形状对应的靶位，靶框放置于该靶位处；靶框支架与旋转驱动装置连接，该旋转驱动装置带动靶框旋转；所述同位素靶源位于蒸发舟内，该蒸发舟位于其中一个靶位正下方2.5～3cm处，且与两个金属电极固定连接；该两个金属电极与第一电源连接；该碳夹心同位素靶制备过程中，旋转装置带动靶框支架旋转，使同位素靶源均匀地蒸镀在靶框上；所...

【专利技术属性】
技术研发人员：樊启文，王华，胡跃明，张榕，孟波，
申请(专利权)人：中国原子能科学研究院，
类型：新型
国别省市：北京,11