镀膜方法、金属外壳及终端设备技术

本公开是关于一种镀膜方法、金属外壳及终端设备。该方法包括：在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，所述装饰膜层的材料包括：预设靶材和/或目标气体；在沉积所述装饰膜层的过程中，将所述预设物质沉积在所述金属外壳表面，所述预设物质的透过率大于或者等于预设透过率。本公开提高了装饰膜层的透过率。

【技术实现步骤摘要】
镀膜方法、金属外壳及终端设备
本公开涉及金属加工
，尤其涉及一种镀膜方法、金属外壳及终端设备。
技术介绍
随着金属加工技术的提高和材料成本的降低，越来越多的终端采用金属作为外壳材料。相关技术中，通常需要在金属外壳上沉积装饰膜层。例如，可以采用物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition，PVD)法沉积金属外壳的装饰膜层。并且，为了解决装饰膜层视觉上不清晰、不通透的问题。通常，采用在装饰膜层上覆盖光学干涉膜的方式获得清晰通透的装饰膜层。
技术实现思路
为克服相关技术中存在的问题，本公开提供一种镀膜方法、金属外壳及终端设备。根据本公开实施例的第一方面，提供一种镀膜方法，包括：在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层；其中，该装饰膜层的材料包括：预设靶材和/或目标气体；在沉积该装饰膜层的过程中，将预设物质沉积在该金属外壳表面；其中，该预设物质的透过率大于或者等于预设透过率。可选的，该在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，包括：在第一时刻启动在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，在第二时刻结束沉积该装饰膜层；该在沉积该装饰膜层的过程中，将预设物质沉积在该金属外壳表面，包括：在该本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜方法，其特征在于，包括：在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，所述装饰膜层的材料包括：预设靶材和/或目标气体；在沉积所述装饰膜层的过程中，将所述预设物质沉积在所述金属外壳表面，所述预设物质的透过率大于或者等于预设透过率。

【技术特征摘要】
1.一种镀膜方法，其特征在于，包括：在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，所述装饰膜层的材料包括：预设靶材和/或目标气体；在沉积所述装饰膜层的过程中，将所述预设物质沉积在所述金属外壳表面，所述预设物质的透过率大于或者等于预设透过率。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，包括：在第一时刻启动在终端设备的金属外壳表面沉积装饰膜层，在第二时刻结束沉积所述装饰膜层；所述在沉积所述装饰膜层的过程中，将所述预设物质沉积在所述金属外壳表面，包括：在所述第一时刻启动将所述预设物质沉积在所述金属外壳表面，在所述第二时刻结束沉积预设物质；其中，所述第一时刻早于所述第二时刻。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述预设物质为类金刚石DLC。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述DLC中碳原子与其他原子形成共价键时，杂化类型SP3的体积含量大于或者等于第一阈值，并且小于或者等于第二阈值。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第一阈值为20％，所述第二阈值为80...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘兵，
申请(专利权)人：北京小米移动软件有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11