一种真空吸附治具制造技术

本发明专利技术涉及一种真空吸附治具，包括：孔板和基板；所述孔板阵列设置有通孔，所述基板上设置有凹槽，所述孔板与所述基板相互连接，且所述通孔与所述凹槽相互连通；所述基板上还设置有用于对所述凹槽抽气的吸气孔，以及用于对所述凹槽送气的输气孔。将吸气孔与外部的抽气装置相互连接，可通过抽气装置将凹槽的气体抽出，从而使凹槽能构成一真空环境，从而使与凹槽相连通的通孔将位于孔板上表面的物料被吸附。保证了物料的各位置均能够承靠在孔板上表面上，保证了物料的平整度。将输气孔与气源装置相互连接，可通过气源装置向凹槽中送入气体，从而使处于吸附状态的物料能够与孔板快速脱离，从而便于物料被取下。

【技术实现步骤摘要】
一种真空吸附治具
本专利技术涉及一种治具，尤其涉及一种真空吸附治具。
技术介绍
在镜头检测生产过程中，镜头的性能对检测托盘之间配合的精度要求很高，两者之间的间隙非常小，因此治具的精度要求很重要。按光学设计测试要求，需要在测试托盘上平整的贴附一块玻璃来承靠被测试镜头，在测试托盘贴附玻璃的过程中其工艺与玻璃平面度要求非常高，在保证托盘平行度的同时既要保证玻璃的平行度还要保证玻璃贴附在托盘上之后的平行度。因此，在测试托盘上贴附玻璃之前，需要保证运输过程中的玻璃在治具上的平整度，以及贴附完成后，玻璃能够快速脱离。传统技术中，可通过阵列设置的吸嘴运输玻璃，但由于吸嘴相互独立，容易导致玻璃被吸附时产生形变，影响平整度，或者也可通过真空吸附治具进行运输，但通常玻璃从治具上脱离时，由于需要治具中的真空环境消失玻璃才能从治具上脱离，影响工作效率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种真空吸附治具，使治具上的物料能够快速脱离。为实现上述专利技术目的，本专利技术提供一种真空吸附治具，包括：孔板和基板；所述孔板阵列设置有通孔，所述基板上设置有凹槽，所述孔板与所述基板相互连接，且所述通孔与所述凹槽相互连通；所述基板上还设置有用于对所述凹槽抽气的吸气孔，以及用于对所述凹槽送气的输气孔。根据本专利技术的一个方面，所述吸气孔和所述输气孔分别由所述基板的外侧面起始并延伸至所述凹槽的内侧面终止，且所述吸气孔和所述输气孔相对设置。根据本专利技术的一个方面，所述孔板的孔板上表面设置有垫片凹槽以及可拆卸的安装在所述垫片凹槽中的垫片；所述垫片的厚度大于所述垫片凹槽的深度和所述孔板上表面承载的物料的厚度之和。根据本专利技术的一个方面，所述垫片凹槽至少为三个，且所述垫片凹槽呈环形排列。根据本专利技术的一个方面，所述孔板的孔板上表面还设置有定位柱；所述定位柱至少为两个，且相互间隔设置。根据本专利技术的一个方面，所述凹槽为迂回型的线性凹槽，且所述吸气孔和所述输气孔分别位于所述凹槽的首尾两端。根据本专利技术的一个方面，所述吸气孔和所述输气孔分别由所述基板的外侧面起始并延伸至所述凹槽的内侧面终止；所述输气孔至少为两个，且所述输气孔相互等间隔的设置。根据本专利技术的一个方面，所述基板上至少设置有一条环绕在所述凹槽周围的第一环状密封结构，所述孔板上设置有与所述第一环状密封结构相匹配的第二环状密封结构。根据本专利技术的一个方面，所述第一环状密封结构环状凸台或环状凹槽，所述第二环状密封结构为环状凹槽或环状凸台。根据本专利技术的一个方面，所述孔板或所述基板上还设置有用于安装手柄的连接结构。根据本专利技术的一个方面，所述通孔为矩形阵列设置或环形阵列设置；若所述通孔为矩形阵列设置，所述通孔沿横向和纵向分别均匀间隔分布。且沿纵向和横向的间隔是相等的；若所述通孔为环形阵列设置，所述通孔沿圆周方向等角度均匀间隔排列。根据本专利技术的一个方面，所述通孔的孔径小于2mm。根据本专利技术的一个方面，所述孔板上表面的平面度公差小于2μm。根据本专利技术的一种方案，将吸气孔与外部的抽气装置(例如真空泵)相互连接，可通过抽气装置将凹槽的气体抽出，从而使凹槽能构成一真空环境，从而使与凹槽相连通的通孔将位于孔板上表面的物料被吸附。在本实施方式中，矩形阵列设置的通孔，沿纵向和横向的间隔是相等的，从而使吸附的物料(例如玻璃基板)与孔板相接触的表面的受力均匀，保证了物料的各位置均能够承靠在孔板上表面上，保证了物料的平整度，进而保证了物料在组装产品过程中的精度，提高了产品的组装精度。将输气孔与气源装置相互连接，可通过气源装置向凹槽中送入气体，从而使处于吸附状态的物料能够与孔板快速脱离，从而便于物料被取下。通过控制送入气体的通入量，还可使物料被托起，从而使物料能够更加容易的取下。根据本专利技术的一种方案，通过将通孔的孔径设置在2mm以下，从而避免了孔板上承载的物料(例如玻璃基板)在被真空吸附时，通孔的孔径过大导致物料在通孔的位置发生凹陷等变形。因此，通过将通孔的孔径设置在上述范围内，保证了物料在被吸附时的平整度，保证了后续生产工序中产品的质量。通过将孔板上表面的平面度公差设置在2μm，从而进一步保证了孔板上承载的物料(例如玻璃基板)在被真空吸附时的平整度，避免了孔板的表面凹凸不平导致物料发生变形的情况，进一步对保证后续生产工序中产品的质量有益。根据本专利技术的一种方案，通过相对设置的吸气孔和输气孔，在通过输气孔向凹槽中通入气体的过程中，有利于气体在凹槽中的流动速度，使气体能在短时间内均匀分布在凹槽中，提高了物料脱离效率。同时，使孔板上的物料脱离时各位置通孔中溢出的气体量均匀，使物料各位置的受力均匀，避免了物料脱离孔板时产生弯曲等情况。根据本专利技术的一种方案，通过设置多个输气孔并且相互等间隔的设置，从而有利于从不同方向同时向凹槽中通入气体，提高了通入气体的效率，并且通过等间隔分布的输气孔，使通入的气体在凹槽中均匀分布，不仅提高了物料脱离效率。同时，使孔板上的物料脱离时各位置的通孔中溢出的气体量均匀，使物料各位置的受力均匀，避免了物料脱离孔板时产生弯曲等情况。根据本专利技术的一种方案，孔板上吸附的物料在组装过程中，通过设置垫片从而使其它治具或部件直接与垫片相接触，避免了直接承靠于吸附在孔板上的物料，进而避免了物料的变形或划伤等，保证了物料平整度和表面质量，进而对组装的产品的质量有益。根据本专利技术的一种方案，孔板上吸附的物料在组装过程中，通过设置定位柱从而使其它治具或部件通过与定位柱配合连接，即可保证孔板上的物料与其它物料的相对位置准确，保证了物料组装位置的准确，进而对组装的产品的质量有益。根据本专利技术的一种方案，通过将凹槽设置为线性凹槽，在通过吸气孔抽气或输气孔送气时，凹槽中的气体流动沿同一方向流动，避免了对凹槽进行抽气或输气时，凹槽中气流的紊乱，对保证孔板上物料的稳定吸附或脱离有利。附图说明图1示意性表示根据本专利技术的一种实施方式的孔板的结构图；图2示意性表示根据本专利技术的一种实施方式的基板的结构图；图3示意性表示根据本专利技术的一种实施方式的垫片的结构图。具体实施方式为了更清楚地说明本专利技术实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在针对本专利技术的实施方式进行描述时，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”所表达的方位或位置关系是基于相关附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能理解为对本专利技术的限制。下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作详细地描述，实施方式不能在此一一赘述，但本专利技术的实施方式并不因此限定于以下实施方式。结合图1和图2所示，根据本专利技术的一种实施方式，本专利技术的一种真空吸附治具，包括孔板1和基板2。在本实施方式中，孔板1上阵列设置有通孔11，孔板1为板状体，通孔11贯穿孔板1的孔板上表面12和孔板下表面。通过设置通孔11还可对孔板1上承载的物料(例如玻璃基板)进行通光，从而具有曝光功能，对于后续生产工序本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空吸附治具，其特征在于，包括：孔板(1)和基板(2)；所述孔板(1)阵列设置有通孔(11)，所述基板(2)上设置有凹槽(21)，所述孔板(1)与所述基板(2)相互连接，且所述通孔(11)与所述凹槽(21)相互连通；所述基板(2)上还设置有用于对所述凹槽(21)抽气的吸气孔(22)，以及用于对所述凹槽(21)送气的输气孔(23)。

【技术特征摘要】
1.一种真空吸附治具，其特征在于，包括：孔板(1)和基板(2)；所述孔板(1)阵列设置有通孔(11)，所述基板(2)上设置有凹槽(21)，所述孔板(1)与所述基板(2)相互连接，且所述通孔(11)与所述凹槽(21)相互连通；所述基板(2)上还设置有用于对所述凹槽(21)抽气的吸气孔(22)，以及用于对所述凹槽(21)送气的输气孔(23)。2.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述吸气孔(22)和所述输气孔(23)分别由所述基板(2)的外侧面起始并延伸至所述凹槽(21)的内侧面终止，且所述吸气孔(22)和所述输气孔(23)相对设置。3.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述孔板(1)的孔板上表面(12)设置有垫片凹槽(13)以及可拆卸的安装在所述垫片凹槽(13)中的垫片(14)；所述垫片(14)的厚度大于所述垫片凹槽(13)的深度和所述孔板上表面(12)承载的物料的厚度之和。4.根据权利要求3所述的真空吸附治具，其特征在于，所述垫片凹槽(13)至少为三个，且所述垫片凹槽(13)呈环形排列。5.根据权利要求1至4之一所述的真空吸附治具，其特征在于，所述孔板(1)的孔板上表面(12)还设置有定位柱(15)；所述定位柱(15)至少为两个，且相互间隔设置。6.根据权利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述凹槽(21)为迂回型的线性凹槽，且所述吸气孔(22)和所述输气孔...

【专利技术属性】
技术研发人员：张炯飞，
申请(专利权)人：浙江舜宇光学有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33