【技术实现步骤摘要】
柔性显示屏的制备方法及制备柔性显示屏用复合基板
本专利技术涉及一种柔性显示
,特别是涉及一种柔性显示屏的制备方法及制备柔性显示屏用复合基板。
技术介绍
主动矩阵有机发光二极管(Active-matrixorganiclightemittingdiode,AMOLED)显示技术近年来较受关注,目前大多数柔性显示屏所采用的就是这种显示技术。在柔性显示屏的研发中,所需克服的技术难题之一就是对带有玻璃的柔性基板进行激光剥离(LaserLiftOff,LLO)的问题。在对带有玻璃的柔性基板进行激光剥离(LaserLiftOff,LLO)的制程中,可能会造成柔性基板损伤,随后水汽入侵将导致有机发光材料失效,进而导致有机发光二极管发光时会产生黑斑或黑点,造成较大的良率损失及材料浪费。经过申请人的长期观察与研究发现,AMOLED的柔性基板在通过激光剥离(LLO)后会产生黑斑或黑点的主要原因是,聚酰亚胺(PI)衬底和玻璃之间较强的粘附力,使聚酰亚胺(PI)在激光剥离(LLO)时难以剥离从而产生损伤,水汽入侵后导致有机发光材料失效,进而使得有机发光二极管发光时,由于失效的部分材 ...
【技术保护点】
1.一种制备柔性显示屏用复合基板,其特征在于,所述复合基板包括:基底;牺牲层,所述牺牲层设置在基底上,所述牺牲层为含有氢元素且半透明的无机层;以及柔性层,所述柔性层设置在牺牲层上。
【技术特征摘要】
1.一种制备柔性显示屏用复合基板,其特征在于,所述复合基板包括:基底;牺牲层,所述牺牲层设置在基底上,所述牺牲层为含有氢元素且半透明的无机层;以及柔性层,所述柔性层设置在牺牲层上。2.根据权利要求1所述的复合基板,其特征在于,所述牺牲层为通过化学气相沉积法沉积且未经脱氢处理制备的无机层。3.根据权利要求1所述的复合基板,其特征在于,所述牺牲层中的氢原子的原子数百分含量大于2%,优选为5-10%。4.根据权利要求1所述的复合基板,其特征在于,所述牺牲层为单一层结构。5.根据权利要求1至4中任意一项所述的复合基板,其特征在于,所述牺牲层的主体材质为非晶硅、碳化硅或氮化镓。6.根据权利要求5所述的复合基板,其特征在于,所述牺牲层的主体材质为非晶硅,厚度小于20nm,优选为5-10nm;所述牺牲层的主体材质为碳化硅,厚度小于30nm,优选为10-20nm;所述牺牲层的主体...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘林佳,朱阳杰,陆海峰,
申请(专利权)人:昆山国显光电有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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