射击靶固定支架及射击靶场制造技术

本发明专利技术公开了一种射击靶固定支架，包括支撑底座、第一调节横杆、第二调节横杆以及挡板，其中，第一调节横杆和第二调节横杆分别安装于支撑底座的两端，第一调节横杆和第二调节横杆相对于支撑底座可上下移动且相对于其可转动，挡板的两端架设于第一调节横杆和第二调节横杆上，挡板相对于第一调节横杆和第二调节横杆可前后移动以调整其与支撑底座的相对距离，挡板可倾斜或垂直插入地面以挡弹或支撑缓冲袋。本发明专利技术提出的射击靶固定支架，实现了快速固定射击靶的同时，减少了用于缓冲和挡弹的沙袋用量，提高了场地的配置效率。

【技术实现步骤摘要】
射击靶固定支架及射击靶场
本专利技术涉及射击靶
，尤其涉及一种射击靶固定支架及射击靶场。
技术介绍
射击靶通常是在木板上贴上人像，在实弹射击中，只能采用人工报靶、机械式回移靶后读靶或用高倍望远镜观察报靶，由于这种靶的结构导致报靶存在速度慢、准确性差、安全性能差等缺陷。现有射击电子靶克服了传统射击靶存在的上述缺陷，其采用电容力传感器并辅以模数转换等电路器件对中靶进行读取，以及报数、统计等功能。但是，不论是电子靶还是传统的射击靶，在布置时，都会在标靶的前下方堆叠一定量的沙袋，这些沙袋的作用一方面是为了防止支撑射击靶的支架被射击子弹击中造成损毁，另一方面是可以是对沙袋后方布置的电子靶的电子器件进行保护，防止击毁。现有的射击靶在布置沙袋时，沙袋要根据射击靶的高度进行阶梯式的堆叠，浪费资源；同时，搬运以及布置沙袋消耗人力，浪费时间，降低工作效率。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种射击靶固定支架及射击靶场，旨在用以快速固定射击靶的同时，减少用于缓冲和挡弹的沙袋用量，提高场地的配置效率。为实现上述目的，本专利技术提供一种射击靶固定支架，包括支撑底座、第一调节横杆、第二调节横杆以及挡本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种射击靶固定支架，其特征在于，包括支撑底座、第一调节横杆、第二调节横杆以及挡板，其中，所述第一调节横杆和第二调节横杆分别安装于支撑底座的两端，第一调节横杆和第二调节横杆相对于支撑底座可上下移动且相对于其可转动，挡板的两端架设于第一调节横杆和第二调节横杆上，挡板相对于第一调节横杆和第二调节横杆可前后移动以调整其与支撑底座的相对距离，挡板可倾斜或垂直插入地面以挡弹或支撑缓冲袋。

【技术特征摘要】
1.一种射击靶固定支架，其特征在于，包括支撑底座、第一调节横杆、第二调节横杆以及挡板，其中，所述第一调节横杆和第二调节横杆分别安装于支撑底座的两端，第一调节横杆和第二调节横杆相对于支撑底座可上下移动且相对于其可转动，挡板的两端架设于第一调节横杆和第二调节横杆上，挡板相对于第一调节横杆和第二调节横杆可前后移动以调整其与支撑底座的相对距离，挡板可倾斜或垂直插入地面以挡弹或支撑缓冲袋。2.如权利要求1所述的射击靶固定支架，其特征在于，所述挡板相对于第一调节横杆和第二调节横杆可转动。3.如权利要求1所述的射击靶固定支架，其特征在于，所述第一调节横杆和第二调节横杆沿其长度方向上分别开设有第一滑槽和第二滑槽，第一滑槽和第二滑槽中分别安装有相对于其滑移及转动的第一挡块和第二挡块，第一挡块和第二挡块分别固定于挡板的两端以将其架设于第一调节横杆和第二调节横杆之间。4.如权利要求3所述的射击靶固定支架，其特征在于，所述第一挡块和第二挡块均为圆柱形挡块且第一挡块和第二挡块共轴线。5.如权利要求3所述的射击靶固定支架，其特征在于，所述第一挡块和第二挡块上分别开设有第一定位孔和第二定位孔，挡板上开设有中间孔，中间孔、第一定位孔以及第二定位孔之间贯通，定位螺杆穿过第一定位孔、中间孔和第一定位孔，定位螺杆的两端通过两定位螺母将第一调节横杆、挡板...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊争气，任若微，
申请(专利权)人：中国一冶集团有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42