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一种等离子光解废气净化设备制造技术

技术编号:19406508 阅读:21 留言:0更新日期:2018-11-13 22:17
本实用新型专利技术公开了一种等离子光解废气净化设备,包括等离子反应器本体,所述等离子反应器本体内为空腔结构,所述等离子反应器本体左侧设有水箱,所述水箱上表面设有预处理箱,所述等离子反应器本体右表面设有UV光解箱,所述水箱左表面加工有进水口,所述水箱上表面加工有若干一号通孔,所述预处理箱下表面加工有与若干一号通孔相对应的二号通孔,若干所述二号通孔内均设有喷淋头,所述水箱上表面中心处加工有一号渗水孔。本实用新型专利技术的有益效果是可以对废气进行预处理祛除粉尘,对废气降温、可以增加等离子反应器本体、UV光解箱内的含氧量使净化更彻底,可以控制等离子反应器本体、UV光解箱内的温度达到最适宜温度。

Plasma photolysis of waste gas purification equipment

The utility model discloses a plasma photolysis exhaust gas purification device, which comprises a plasma reactor body with a cavity structure, a water tank on the left side of the plasma reactor body, a pretreatment tank on the upper surface of the water tank, and a UV photolysis tank on the right surface of the plasma reactor body. The left surface of the water tank is machined with a water inlet, the upper surface of the water tank is machined with a number of No. 1 through holes, the lower surface of the pretreatment tank is machined with No. 2 through holes corresponding to a number of No. 1 through holes, and a sprinkler head is arranged in several No. 2 through holes, and a No. 1 seepage hole is machined at the center of the upper surface of the water tank. The beneficial effect of the utility model is that the exhaust gas can be pretreated to remove dust, the exhaust gas can be cooled, the oxygen content in the plasma reactor body and the UV photolysis box can be increased to make the purification more thorough, and the temperature in the plasma reactor body and the UV photolysis box can be controlled to reach the optimum temperature.

【技术实现步骤摘要】
一种等离子光解废气净化设备
本专利技术涉及等离子光解废气净化设备领域,特别是一种等离子光解废气净化设备。
技术介绍
恶臭气体是指挥发性物质分子在空气中扩散,被吸入人体的嗅觉器官而引起不愉快的气体。恶臭物质存在于水体、固体废物和大气中,在这些恶臭物质中对人体危害比较大的主要有硫化氢、氨、硫醇类、甲基硫、三甲胺、甲醛、铬硫、苯乙烯、酚类等。具体的说,恶臭的来源有以下几个方面:工业恶臭、农牧业恶臭、城市公共设施恶臭、燃料燃烧恶臭、餐饮油烟恶臭、机动车废气恶臭、恶臭化学物质。目前,在申请号为201620051195.7,名称为一种等离子光解净化废气系统的专利中,经过处理后的废气排放,能够符合国家的环保标准,净化效率高,并且本废气处理系统技术先进,工艺可靠。为了解决上述问题,本专利技术设计设有预处理箱可以对废气进行初步处理,祛除粉尘可以使后续处理更彻底;设有等离子反应器本体对废气初步净化,设有UV光解箱对废气二次净化;设有一号鼓风机、二号鼓风机,增强等离子反应器本体、UV光解箱内的含氧量使净化更彻底;等离子反应器本体、UV光解箱内分别设有若干温度传感器可实时监控温度,若温度过高可以从进风口通入冷风经过环形风环对等离子反应器本体、UV光解箱内进行降温。因此,设计一种等离子光解废气净化设备很有必要。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决上述问题,设计了一种等离子光解废气净化设备。实现上述目的本专利技术的技术方案为,一种等离子光解废气净化设备,包括等离子反应器本体,所述等离子反应器本体内为空腔结构,所述等离子反应器本体左侧设有水箱,所述水箱上表面设有预处理箱,所述等离子反应器本体右表面设有UV光解箱,所述水箱左表面加工有进水口,所述水箱上表面加工有若干一号通孔,所述预处理箱下表面加工有与若干一号通孔相对应的二号通孔,若干所述二号通孔内均设有喷淋头,所述水箱上表面中心处加工有一号渗水孔,所述预处理箱下表面中心处加工有与一号渗水孔相对应的二号渗水孔,所述等离子反应器本体、UV光解箱内表面与外表面之间均加工有环形风环,所述等离子反应器本体、UV光解箱内表面均加工有若干圆形凹槽,若干所述圆形凹槽内均设有温度传感器,所述等离子反应器本体左表面上方加工有一号开口,所述一号开口内设有风机,所述等离子反应器本体右表面下方加工有二号开口,所述二号开口上表面加工有一号滑槽,所述一号滑槽内设有一号电动滑板,所述UV光解箱左表面下方加工有三号开口,所述三号开口上表面加工有二号滑槽,所述二号滑槽内设有二号电动滑板。所述预处理箱上表面左侧加工有进气口,预处理箱右表面下方加工有三号通孔,所述三号通孔与风机通过一号管道相连接,所述进水口内设有堵头。所述等离子反应器本体、UV光解箱前表面中心处均加工有进风口,所述等离子反应器本体、UV光解箱后表面中心处均加工有出风口。所述等离子反应器本体左表面下方加工有四号通孔,所述等离子反应器本体左侧且位于预处理箱前方设有一号鼓风机,所述一号鼓风机与四号通孔通过二号管道相连接。所述UV光解箱右表面上方加工有出气口,所述UV光解箱右表面下方加工有五号通孔,所述UV光解箱右侧设有二号鼓风机,所述二号鼓风机与五号通孔通过三号管道相连接。利用本专利技术的技术方案制作的一种等离子光解废气净化设备,可以对废气进行预处理祛除粉尘,对废气降温、可以增加等离子反应器本体、UV光解箱内的含氧量使净化更彻底,可以控制等离子反应器本体、UV光解箱内的温度达到最适宜温度。附图说明图1是本专利技术所述一种等离子光解废气净化设备的结构示意图;图2是本专利技术所述一种等离子光解废气净化设备的主视图;图3是本专利技术所述一种等离子光解废气净化设备的后视图;图中,1、等离子反应器本体;2、水箱;3、预处理箱;4、UV光解箱;5、进水口;6、喷淋头;7、一号渗水孔;8、二号渗水孔;9、环形风环;10、温度传感器;11、风机;12、一号滑槽;13、一号电动滑板;14、二号滑槽;15、二号电动滑板;16、进气口;17、一号管道;18、堵头;19、进风口;20、出风口;21、一号鼓风机;22、二号管道;23、出气口;24、二号鼓风机;25、三号管道。具体实施方式下面结合附图对本专利技术进行具体描述,如图1-3所示,一种等离子光解废气净化设备,包括等离子反应器本体1,所述等离子反应器本体1内为空腔结构,所述等离子反应器本体1左侧设有水箱2,所述水箱2上表面设有预处理箱3,所述等离子反应器本体1右表面设有UV光解箱4,所述水箱2左表面加工有进水口5,所述水箱2上表面加工有若干一号通孔,所述预处理箱3下表面加工有与若干一号通孔相对应的二号通孔,若干所述二号通孔内均设有喷淋头6,所述水箱2上表面中心处加工有一号渗水孔7,所述预处理箱3下表面中心处加工有与一号渗水孔7相对应的二号渗水孔8,所述等离子反应器本体1、UV光解箱4内表面与外表面之间均加工有环形风环9,所述等离子反应器本体1、UV光解箱4内表面均加工有若干圆形凹槽,若干所述圆形凹槽内均设有温度传感器10,所述等离子反应器本体1左表面上方加工有一号开口,所述一号开口内设有风机11,所述等离子反应器本体1右表面下方加工有二号开口,所述二号开口上表面加工有一号滑槽12,所述一号滑槽12内设有一号电动滑板13,所述UV光解箱4左表面下方加工有三号开口,所述三号开口上表面加工有二号滑槽14,所述二号滑槽14内设有二号电动滑板15;所述预处理箱3上表面左侧加工有进气口16,预处理箱3右表面下方加工有三号通孔,所述三号通孔与风机11通过一号管道17相连接,所述进水口5内设有堵头18;所述等离子反应器本体1、UV光解箱4前表面中心处均加工有进风口19,所述等离子反应器本体1、UV光解箱4后表面中心处均加工有出风口20;所述等离子反应器本体1左表面下方加工有四号通孔,所述等离子反应器本体1左侧且位于预处理箱3前方设有一号鼓风机21,所述一号鼓风机21与四号通孔通过二号管道22相连接;所述UV光解箱4右表面上方加工有出气口23,所述UV光解箱4右表面下方加工有五号通孔,所述UV光解箱4右侧设有二号鼓风机24,所述二号鼓风机24与五号通孔通过三号管道25相连接。本实施方案的特点为,设有预处理箱3可以对废气进行初步处理,祛除粉尘可以使后续处理更彻底;设有等离子反应器本体1对废气初步净化,设有UV光解箱4对废气二次净化;设有一号鼓风机21、二号鼓风机24,增强等离子反应器本体1、UV光解箱4内的含氧量使净化更彻底;等离子反应器本体1、UV光解箱4内分别设有若干温度传感器10可实时监控温度,若温度过高可以从进风口19通入冷风经过环形风环9对等离子反应器本体1、UV光解箱4内进行降温;可以对废气进行预处理祛除粉尘,对废气降温、可以增加等离子反应器本体、UV光解箱内的含氧量使净化更彻底,可以控制等离子反应器本体、UV光解箱内的温度达到最适宜温度。在本实施方案中,在设备空闲处设有HB104控制器,控制器与喷淋头6、DS18B2TO-92温度传感器10、一号鼓风机21、二号鼓风机24、风机11均通过导线相连接,废气通过进气口16通入预处理箱3、水箱2内通过进水口5注入冷水,若干喷淋头6将水喷出,粉尘与液滴之间的碰撞、拦截和凝聚作用,粉尘随液滴降落下来,达到除尘的效果本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子光解废气净化设备,包括等离子反应器本体(1),其特征在于,所述等离子反应器本体(1)内为空腔结构,所述等离子反应器本体(1)左侧设有水箱(2),所述水箱(2)上表面设有预处理箱(3),所述等离子反应器本体(1)右表面设有UV光解箱(4),所述水箱(2)左表面加工有进水口(5),所述水箱(2)上表面加工有若干一号通孔,所述预处理箱(3)下表面加工有与若干一号通孔相对应的二号通孔,若干所述二号通孔内均设有喷淋头(6),所述水箱(2)上表面中心处加工有一号渗水孔(7),所述预处理箱(3)下表面中心处加工有与一号渗水孔(7)相对应的二号渗水孔(8),所述等离子反应器本体(1)、UV光解箱(4)内表面与外表面之间均加工有环形风环(9),所述等离子反应器本体(1)、UV光解箱(4)内表面均加工有若干圆形凹槽,若干所述圆形凹槽内均设有温度传感器(10),所述等离子反应器本体(1)左表面上方加工有一号开口,所述一号开口内设有风机(11),所述等离子反应器本体(1)右表面下方加工有二号开口,所述二号开口上表面加工有一号滑槽(12),所述一号滑槽(12)内设有一号电动滑板(13),所述UV光解箱(4)左表面下方加工有三号开口,所述三号开口上表面加工有二号滑槽(14),所述二号滑槽(14)内设有二号电动滑板(15)。...

【技术特征摘要】
1.一种等离子光解废气净化设备,包括等离子反应器本体(1),其特征在于,所述等离子反应器本体(1)内为空腔结构,所述等离子反应器本体(1)左侧设有水箱(2),所述水箱(2)上表面设有预处理箱(3),所述等离子反应器本体(1)右表面设有UV光解箱(4),所述水箱(2)左表面加工有进水口(5),所述水箱(2)上表面加工有若干一号通孔,所述预处理箱(3)下表面加工有与若干一号通孔相对应的二号通孔,若干所述二号通孔内均设有喷淋头(6),所述水箱(2)上表面中心处加工有一号渗水孔(7),所述预处理箱(3)下表面中心处加工有与一号渗水孔(7)相对应的二号渗水孔(8),所述等离子反应器本体(1)、UV光解箱(4)内表面与外表面之间均加工有环形风环(9),所述等离子反应器本体(1)、UV光解箱(4)内表面均加工有若干圆形凹槽,若干所述圆形凹槽内均设有温度传感器(10),所述等离子反应器本体(1)左表面上方加工有一号开口,所述一号开口内设有风机(11),所述等离子反应器本体(1)右表面下方加工有二号开口,所述二号开口上表面加工有一号滑槽(12),所述一号滑槽(12)内设有一号电动滑板(13),所述UV光解箱(4)左表面下方加工有三号开口,所述三号开口上表面加工...

【专利技术属性】
技术研发人员:马新刚马永岗姚鑫陈越浦
申请(专利权)人:马永岗
类型:新型
国别省市:河北,13

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