偏振片制造技术

本发明专利技术提供一种能够以偏振膜层叠于树脂基材的状态直接使用的、提高了耐久性的偏振片。本发明专利技术的偏振片具有聚酯类树脂基材及偏振膜，所述偏振膜层叠在该聚酯类树脂基材的一侧且厚度为10μm以下，其中，通过衰减全反射分光测定而计算出的该聚酯类树脂基材的结晶度为0.55～0.80，该偏振膜中的硼酸浓度为10重量％～20重量％。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】偏振片
本专利技术涉及偏振片。
技术介绍
提出了一种在树脂基材上形成聚乙烯醇类树脂层，对该层叠体进行拉伸、染色，从而得到偏振膜的方法(例如，专利文献1)。根据这样的方法，可以得到厚度薄的偏振膜，因此例如可有助于图像显示装置的薄型化而备受瞩目。上述偏振膜可以以层叠于上述树脂基材的状态直接使用(专利文献2)。然而，在这样的实施方式中，有时会在偏振片上产生裂纹，因此要求提高耐久性。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2000-338329号公报专利文献2：日本专利第4979833号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术是为了解决上述问题而完成的，其主要目的在于提供一种能够以偏振膜层叠于树脂基材的状态直接使用的、提高了耐久性的偏振片。用于解决课题的方法根据本专利技术可以提供一种偏振片，其具有聚酯类树脂基材及偏振膜，该偏振膜层叠在该聚酯类树脂基材的一侧且厚度为10μm以下。在本专利技术的偏振片中，通过衰减全反射分光(ATR)测定而计算出的该聚酯类树脂基材的结晶度为0.55～0.80，该偏振膜中的硼酸浓度为10重量％～20重量％。在一个实施方式中，上述聚酯类树脂为聚对苯二甲酸乙二醇酯或其共聚物。在一个实施方式中，上述偏振膜层叠在上述聚酯类树脂基材的一侧而未夹隔粘接层。在一个实施方式中，上述偏振片在上述偏振膜的与层叠上述聚酯类树脂基材侧相反的一侧不具有保护膜。在一个实施方式中，上述偏振片在上述聚酯类树脂基材与上述偏振膜之间具有易粘接层。根据本专利技术的另一方面，可以提供一种上述偏振片的制造方法。该制造方法包括：在聚酯类树脂基材上形成聚乙烯醇类树脂膜而制作层叠体；对该层叠体进行拉伸；对该聚乙烯醇类树脂膜进行染色；以及使该聚酯类树脂基材结晶化。专利技术的效果根据本专利技术，对于对在树脂基材上形成有聚乙烯醇类树脂膜的层叠体进行拉伸及染色而得到的偏振片而言，通过将该树脂基材的结晶度和偏振膜中的硼酸浓度调整为特定范围内，可以得到能够以偏振膜层叠于树脂基材的状态直接使用的耐久性优异的偏振片。附图说明图1(a)及(b)分别是本专利技术的一个实施方式的偏振片的示意剖面图。具体实施方式以下，对本专利技术的实施方式进行说明，但本专利技术并不受这些实施方式的限定。A.偏振片本专利技术的偏振片具有聚酯类树脂基材及偏振膜，所述偏振膜层叠在该聚酯类树脂基材的一侧且厚度为10μm以下。图1(a)是本专利技术的一个实施方式的偏振片的示意剖面图。偏振片10a具有聚酯类树脂基材11和偏振膜12，所述偏振膜12密合于该聚酯类树脂基材11的一面(换言之，未夹隔粘接层)而层叠。图1(b)是本专利技术的另一个实施方式的偏振片的示意剖面图。偏振片10b进一步具有保护膜13。保护膜13配置在偏振膜12的与配置有聚酯类树脂基材11侧相反的一侧。保护膜13可以隔着粘接层而层叠于偏振膜12，也可以使其密合(未夹隔粘接层)而层叠。在偏振片10a、10b中，聚酯类树脂基材11可作为保护膜而发挥功能。在本专利技术中，偏振膜制作过程中的拉伸及染色时使用的树脂基材可以作为保护膜发挥作用而不被剥离，即使是仅在偏振膜单侧具有该树脂基材(保护膜)的结构(图1(a)的结构)，也能够抑制裂纹的产生。需要说明的是，偏振片10a、10b可以在聚酯类树脂基材11与偏振膜12之间具有易粘接层(未图示)。一般来说，对于将在树脂基材上形成有聚乙烯醇(以下有时称作“PVA”)类树脂膜的层叠体进行拉伸及染色而得到的偏振片而言，由于取向应力的松弛、产生收缩应力等而在树脂基材及PVA类树脂膜上发生尺寸变化。此时，由于两者的尺寸变化量不同，因此会在其界面产生应变，可以推测会导致裂纹的产生。对于这一点，在本专利技术中，使用具有特定范围的结晶度的聚酯类树脂基材作为树脂基材，且将偏振膜中的硼酸浓度调整为特定范围内。由此，在偏振膜的吸收轴方向及与该方向正交的方向这两个方向上，树脂基材的尺寸变化量与偏振膜的尺寸变化量达到均衡，因此不容易在树脂基材/偏振膜界面产生应变，而且产生的应变可向两个方向分散。其结果是能够抑制裂纹的产生。需要说明的是，在本说明书中，“正交的方向”包括90°±5.0°的情况，优选为90°±3.0°，更优选为90°±1.0°。另外，“平行的方向”包括0°±5.0°的情况，优选为0°±3.0°，更优选为0°±1.0°。A-1.偏振膜上述偏振膜实质上是碘发生了吸附取向的PVA类树脂膜。偏振膜的厚度为10μm以下，优选为7.5μm以下，更优选为5μm以下。另一方面，偏振膜的厚度优选为0.5μm以上，更优选为1.5μm以上。在厚度过薄时，存在得到的偏振膜的光学特性降低的隐患。偏振膜优选在波长380nm～780nm的任一波长显示出吸收二色性。偏振膜的单体透射率优选为40.0％以上，更优选为41.0％以上，进一步优选为42.0％以上。偏振膜的偏振度优选为99.8％以上，更优选为99.9％以上，进一步优选为99.95％以上。作为形成上述PVA类树脂膜的PVA类树脂，可以采用任意且适当的树脂。可以列举例如：聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可将聚乙酸乙烯酯进行皂化而得到。乙烯-乙烯醇共聚物可将乙烯-乙酸乙烯酯共聚物进行皂化而得到。PVA类树脂的皂化度通常为85摩尔％～100摩尔％，优选为95.0摩尔％～99.95摩尔％，更优选为99.0摩尔％～99.93摩尔％。皂化度可按照JISK6726-1994求出。通过使用这样的皂化度的PVA类树脂，可得到耐久性优异的偏振膜。皂化度过高时，存在凝胶化的隐患。PVA类树脂的平均聚合度可根据目的而适当选择。平均聚合度通常为1000～10000，优选为1200～4500，更优选为1500～4300。需要说明的是，平均聚合度可按照JISK6726-1994求出。上述偏振膜含有硼酸。偏振膜中的硼酸浓度为10重量％～20重量％，优选为12重量％～19重量％。硼酸浓度在该范围内时，可以使吸收轴方向及与该方向正交的方向上的偏振膜尺寸变化率为与聚酯类树脂基材尺寸变化率近似的值，且可以防止吸收轴方向上的偏振膜尺寸变化率与聚酯类树脂基材尺寸变化率之差比与吸收轴正交的方向上的偏振膜尺寸变化率与聚酯类树脂基材尺寸变化率之差大得过多的情况。偏振膜中的硼酸浓度可通过以下方式调整：例如，在后述的偏振片的制造方法中改变拉伸浴、不溶解浴、交联浴等中的硼酸浓度、改变这些浴中的浸渍时间等。需要说明的是，偏振膜中的硼酸浓度(重量％)例如可以使用根据衰减全反射(ATR)分光测定而计算出的硼酸量指数来确定。(硼酸量指数)＝(硼酸峰665cm-1的强度)/(对照峰2941cm-1的强度)(硼酸浓度)＝(硼酸量指数)×5.54+4.1这里，“5.54”及“4.1”均是对硼酸浓度已知的试样的荧光X射线强度进行测定并制成校准曲线而获得的常数。A-2.聚酯类树脂基材作为上述聚酯类树脂的形成材料，可使用例如：聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、包含含有间苯二甲酸、环己烷环等的脂环族二羧酸或脂环族二醇等的共聚PET(PET-G)、其它聚酯、以及它们的共聚物、共混合物等。其中，优选使用PET或共聚PET。根据这些树脂，在未拉伸状态下为非晶性且具有适合高倍率拉伸的优异拉伸性，通过拉伸、加热而结晶化，从而可赋予耐热性本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种偏振片，其具有聚酯类树脂基材和偏振膜，所述偏振膜层叠在该聚酯类树脂基材的一侧且厚度为10μm以下，其中，通过衰减全反射分光测定而计算出的该聚酯类树脂基材的结晶度为0.55～0.80，该偏振膜中的硼酸浓度为10重量％～20重量％。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.04 JP 2016-0420981.一种偏振片，其具有聚酯类树脂基材和偏振膜，所述偏振膜层叠在该聚酯类树脂基材的一侧且厚度为10μm以下，其中，通过衰减全反射分光测定而计算出的该聚酯类树脂基材的结晶度为0.55～0.80，该偏振膜中的硼酸浓度为10重量％～20重量％。2.根据权利要求1所述的偏振片，其中，所述聚酯类树脂为聚对苯二甲酸乙二醇酯或其共聚物。3.根据权利要求1或2所述的偏振片，其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：滨本大介，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP