剥离膜、显示设备的制造方法及显示设备的制造装置制造方法及图纸

技术编号:19324793 阅读:32 留言:0更新日期:2018-11-03 13:02
本发明专利技术涉及剥离膜、显示设备的制造方法及显示设备的制造装置。本发明专利技术提供一种剥离膜,其在基材的表面与物体的表面之间并与基材的表面和物体的表面接触。剥离膜包括结晶层以及与结晶层接触的脱粘层。脱粘层具有孔并且包括能够溶解于溶剂中的非晶质物质。

Stripping film, manufacturing method of display device and manufacturing device of display device

The invention relates to a stripping film, a manufacturing method for a display device, and a manufacturing device for a display device. The invention provides a peeling film, which contacts the surface of the substrate and the surface of the object between the surface of the substrate and the surface of the substrate. The stripping film includes a crystalline layer and a debonding layer in contact with the crystalline layer. The debonding layer has pores and contains amorphous materials that can be dissolved in solvents.

【技术实现步骤摘要】
剥离膜、显示设备的制造方法及显示设备的制造装置
本专利技术涉及剥离膜、显示设备的制造方法及显示设备的制造装置。
技术介绍
诸如柔性显示设备和柔性太阳能电池的柔性设备已被广泛地研究和开发。在柔性显示设备中,适于具有柔性结构的有机发光二极管(OLED)显示设备已被大力研究和开发。柔性OLED显示设备的制造在玻璃基板上形成聚酰亚胺层作为树脂基板,在聚酰亚胺层上形成薄膜晶体管电路和OLED元件,并从聚酰亚胺层脱粘玻璃基板(例如,参照JP2006-216891A)。
技术实现思路
从装置制造的产量的观点出发,需要能够在更短的时间内完成脱粘工序的剥离膜。本专利技术的一个方面是一种剥离膜,其在基材的表面与物体的表面之间并与基材的表面和物体的表面接触,所述剥离膜包括:结晶层;以及与结晶层接触的脱粘层,其中,所述脱粘层具有孔并且包括能够溶解于溶剂中的非晶质物质。本专利技术的一个方面实现脱粘的处理时间的缩短。应该理解的是,上面的概述和下面的详述是示例性和说明性的,而并不是对本专利技术的限制。附图说明图1示意性地示出了柔性OLED显示设备的结构示例;图2示意性地示出了柔性OLED显示设备的剖面结构的一部分;图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种剥离膜,所述剥离膜在基材的表面与物体的表面之间并与所述基材的所述表面和所述物体的所述表面接触,所述剥离膜包括:结晶层;以及脱粘层,所述脱粘层与所述结晶层接触,其中,所述脱粘层具有孔并且包括能够溶解于溶剂中的非晶质物质。

【技术特征摘要】
2017.04.17 JP 2017-081287;2018.01.09 JP 2018-001151.一种剥离膜,所述剥离膜在基材的表面与物体的表面之间并与所述基材的所述表面和所述物体的所述表面接触,所述剥离膜包括:结晶层;以及脱粘层,所述脱粘层与所述结晶层接触,其中,所述脱粘层具有孔并且包括能够溶解于溶剂中的非晶质物质。2.根据权利要求1所述的剥离膜,其中,所述脱粘层形成在所述基材的所述表面上。3.根据权利要求1所述的剥离膜,其中,所述剥离膜的材料是金属氧化物,以及其中,所述脱粘层中的所述非晶质物质具有所述孔。4.根据权利要求3所述的剥离膜,其中,所述剥离膜包括在所述脱粘层与所述物体的所述表面之间的所述结晶层,以及其中,所述脱粘层的孔隙率高于所述结晶层的孔隙率。5.根据权利要求4所述的剥离膜,其中,所述剥离膜的材料是氧化钼,以及其中,所述溶剂是水。6.根据权利要求1所述的剥离膜,其中,所述脱粘层在平行于所述基材的所述表面的面内的溶解速率高于在所述脱粘层的外侧且与所述基材的所述表面平行的任一面内的溶解速率。7.根据权利要求1所述的剥离膜,其中,所述基材为玻璃基板,并且所述物体为显示面板。8.一种显示设备的制造方法,包括:在基板的表面上形成剥离膜,以使所述剥离膜接触所述剥离膜与所述基板的表面...

【专利技术属性】
技术研发人员:臼仓拓弥冈本守
申请(专利权)人:天马日本株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1