滤波器装置和等离子体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种具有能够配置在小的空间中的多个线圈的滤波器装置和等离子体处理装置。滤波器装置具备多个线圈和多个电容器。多个线圈构成多个线圈组。多个线圈组各自包括两个以上的线圈。在多个线圈组的各个线圈组中，两个以上的线圈设置为：各个线圈的卷绕部绕中心轴线螺旋状地延伸，且各个线圈的单匝线圈沿着中心轴线所延伸的轴线方向依次重复地排列。多个线圈组相对于中心轴线同轴地设置。多个线圈组中的任意一个线圈组的两个以上的线圈各自的单匝线圈间的间距比多个线圈组中的设置于该一个线圈组的内侧的线圈组的两个以上的线圈各自的单匝线圈间的间距大。

Filter device and plasma treatment device

The invention provides a filter device and a plasma processing device with multiple coils that can be arranged in a small space. The filter device has a plurality of coils and a plurality of capacitors. Multiple coils form multiple coil sets. A plurality of coil sets each comprise more than two coils. In each coil group of multiple coils, more than two coils are arranged as follows: the winding part of each coil spirally extends around the central axis, and the single-turn coils of each coil are arranged repeatedly along the axis direction extended by the central axis. A plurality of coil sets are coaxially arranged with respect to the central axis. The spacing between two or more coils of any coil group in a multiple coil group is larger than that between two or more coils of the inner coil group in a multiple coil group.

【技术实现步骤摘要】
滤波器装置和等离子体处理装置
本公开的实施方式涉及一种滤波器装置和等离子体处理装置。
技术介绍
在半导体器件这样的电子元件的制造中使用等离子体处理装置。等离子体处理装置具备腔室主体、工作台以及高频电源。腔室主体提供其内部空间来作为腔室。工作台设置在腔室内，构成为对载置在该工作台上的被加工物进行保持。工作台包括下部电极和静电卡盘。下部电极与高频电源连接。在等离子体处理装置中执行的等离子体处理中，需要调整被加工物的面内的温度分布。为了调整被加工物的面内的温度分布，有时工作台具有多个加热器。多个加热器各自经由多个供电线而与加热器控制器连接。从高频电源向工作台的下部电极供给高频。被供给到下部电极的高频会流入多个供电线。因而，在多个供电线的各个供电线设置用于切断高频或使高频衰减的滤波器。在专利文献1所记载的等离子体处理装置中，使用多个滤波器。多个滤波器各自具有线圈和电容器。线圈构成供电线的一部分，且被收纳在壳体内。壳体由导体形成。壳体的电位被设定为接地电位。电容器连接在线圈与地之间。在多个滤波器的各个滤波器中，线圈和壳体形成分布常数线路。多个滤波器各自具有多个谐振频率。这些多个滤波器的线圈设置于等离子体处理装置的腔室主体的正下方。专利文献1：日本特开2014-99585号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题在等离子体处理装置的腔室主体的正下方设置有各种部件，因此在腔室主体的正下方能够利用的空间的大小有限。因而，当设置于等离子体处理装置的工作台的多个加热器的个数增多时，难以将多个滤波器的线圈配置在腔室主体的正下方的空间中。因而，需要将多个滤波器的线圈配置于从腔室主体离开的位置，在多个滤波器的线圈与加热器控制器之间需要长的供电线。长的供电线由于寄生电容而使多个滤波器的阻抗下降。因而，需要能够将多个滤波器的线圈配置在小的空间中。用于解决问题的方案在一个方式中，提供一种滤波器装置。滤波器装置具备多个线圈、多个电容器以及框架。多个电容器分别连接在多个线圈与地之间。框架电接地，在该框架中收纳有多个线圈。即，滤波器装置具备多个滤波器，各滤波器分别包括线圈和电容器。多个线圈构成多个线圈组。多个线圈组各自包括两个以上的线圈。在多个线圈组的各个线圈组中，两个以上的线圈设置为：各个线圈的卷绕部绕中心轴线螺旋状地延伸，且各个线圈的单匝线圈沿着中心轴线所延伸的轴线方向依次重复地进行排列。换言之，多个线圈组各自所包括的两个以上的线圈的卷绕部沿着轴线方向多层状地排列，并且绕中心轴线螺旋状地设置。多个线圈组相对于中心轴线同轴地设置。多个线圈组中的任意一个线圈组的两个以上的线圈的各个线圈的单匝线圈之间的间距比多个线圈组中的、设置于该一个线圈组的内侧的线圈组的两个以上的线圈的各个线圈的单匝线圈间的间距大。在一个方式所涉及的滤波器装置中，分别包括两个以上的线圈的多个线圈组以共享中心轴线的方式设置成同轴状。因而，构成多个线圈组的多个线圈所占据的空间小。因而，多个滤波器的线圈能够配置在小的空间中。另外，在单纯地排列多个线圈的情况下，多个滤波器的阻抗下降，但在一个方式的滤波器装置中，通过多个线圈间的耦合，能够抑制阻抗的下降。并且，外侧的线圈组的两个以上的线圈的各个单匝线圈间的间距比配置在该线圈组的内侧的线圈组的两个以上的线圈的各个线圈的单匝线圈间的间距大，因此多个线圈的电感的差异减少。因而，多个滤波器的阻抗的频率特性的差异减少。在一个实施方式中，多个线圈的单匝线圈间的间距被设置为使多个线圈的电感大致相同。在一个实施方式中，多个线圈具有大致相同的线圈长度。在一个实施方式中，多个线圈中的具有最大线圈长度的线圈与具有最小线圈长度的线圈之间的线圈长度之差为最小线圈长度的3％以下。根据这些实施方式，多个滤波器的阻抗的频率特性的差异进一步减少。在一个实施方式中，多个线圈的卷绕部分别具有一端和多个电容器侧的另一端，该多个线圈的卷绕部的该一端沿着与中心轴线正交的面设置。即，在该实施方式中，多个线圈的卷绕部的一端的在轴线方向上的位置对齐。根据该实施方式，多个滤波器的阻抗的频率特性的差异进一步减少。在一个实施方式中，多个线圈具有从该多个线圈的卷绕部的一端沿着轴线方向延伸的引出线。在多个线圈组的各个线圈组中，两个以上的线圈的引出线相对于中心轴线沿周向等间隔地设置。根据该实施方式，多个滤波器的阻抗的频率特性的差异进一步减少。在一个实施方式中，多个线圈的引出线相对于中心轴线设置在具有90°以上270°以下的角度的角度范围内。根据这些实施方式，多个滤波器的阻抗的频率特性的差异进一步减少。在一个实施方式中，多个线圈组中的在径向上相邻的任意两个线圈组之间的间隙的、在该径向上的距离为1.5mm以下。在该实施方式中，多个滤波器的阻抗的频率特性的差异进一步减少。在一个实施方式中，多个线圈组中的设置于最外侧的线圈组的两个以上的线圈的内径为多个线圈组中的设置于最内侧的线圈组的两个以上的线圈的内径的1.83倍以下。根据该实施方式，多个滤波器的阻抗的频率特性的差异进一步减少。在另一个方式中，提供一种等离子体处理装置。等离子体处理装置具备腔室主体、工作台、高频电源、加热器控制器以及上述的任意的滤波器装置。工作台具有下部电极和多个加热器，且设置在腔室主体内。高频电源与下部电极电连接。加热器控制器构成为向多个加热器提供电力。滤波器装置的多个线圈的各个线圈电连接在多个加热器中的对应的加热器与加热器控制器之间。在该等离子体处理装置中，通过由滤波器装置提供的多个滤波器，能够抑制供给到工作台的高频流入加热器控制器。另外，多个滤波器的线圈所占据的空间小，因此能够将该多个滤波器的线圈配置在小的空间中。专利技术的效果如以上所说明的那样，能够将多个滤波器的线圈配置在小的空间中。附图说明图1是概要性地表示一个实施方式所涉及的等离子体处理装置的图。图2是图1所示的等离子体处理装置的工作台的放大截面图。图3是将一个实施方式所涉及的滤波器的电路结构与多个加热器及加热器控制器一同示出的图。图4是一个实施方式所涉及的滤波器装置的多个线圈的立体图。图5是图4所示的多个线圈的截面图。图6是将图4所示的多个线圈的一部分放大表示的截面图。图7是在第一仿真处理中使用的线圈组的局部放大截面图。图8是表示在第一仿真处理和第二仿真处理中计算出的合成阻抗的频率特性的图。图9是用于说明在第三仿真处理～第六仿真处理中使用的多个线圈的截面图。图10的(a)是表示在第三仿真处理中计算出的合成阻抗的频率特性的图，图10的(b)是表示在第四仿真处理中计算出的合成阻抗的频率特性的图。图11的(a)是表示在第五仿真处理中计算出的合成阻抗的频率特性的图，图11的(b)是表示在第六仿真处理中计算出的合成阻抗的频率特性的图。图12是用于说明在第七仿真处理～第九仿真处理中使用的多个线圈的截面图。图13的(a)、图13的(b)、图13的(c)是分别表示在第七仿真处理～第九仿真处理中计算出的合成阻抗的频率特性的图。图14是用于说明在第十仿真处理～第十三仿真处理中使用的线圈组的图。图15的(a)是表示在第十仿真处理和第十一仿真处理中计算出的合成阻抗的频率特性的图，图15的(b)是表示在第十仿真处理和第十二仿真处理中计算出的合成阻抗的频率特性的图，图15的(c)是表示在第十仿本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种滤波器装置，具备：多个线圈；多个电容器，所述多个电容器分别连接在所述多个线圈与地之间；以及框架，其电接地，在该框架中收纳有所述多个线圈，其中，所述多个线圈构成多个线圈组，各个线圈组包括两个以上的线圈，在所述多个线圈组的各个所述线圈组中，所述两个以上的线圈设置为：各个线圈的卷绕部绕中心轴线螺旋状地延伸，且各个线圈的单匝线圈沿着该中心轴线所延伸的轴线方向依次重复地进行排列，所述多个线圈组相对于所述中心轴线同轴地设置，所述多个线圈组中的任意一个线圈组的所述两个以上的线圈各自的单匝线圈间的间距比所述多个线圈组中的设置于所述一个线圈组的内侧的线圈组的所述两个以上的线圈各自的单匝线圈间的间距大。

【技术特征摘要】
2017.04.25 JP 2017-0864921.一种滤波器装置，具备：多个线圈；多个电容器，所述多个电容器分别连接在所述多个线圈与地之间；以及框架，其电接地，在该框架中收纳有所述多个线圈，其中，所述多个线圈构成多个线圈组，各个线圈组包括两个以上的线圈，在所述多个线圈组的各个所述线圈组中，所述两个以上的线圈设置为：各个线圈的卷绕部绕中心轴线螺旋状地延伸，且各个线圈的单匝线圈沿着该中心轴线所延伸的轴线方向依次重复地进行排列，所述多个线圈组相对于所述中心轴线同轴地设置，所述多个线圈组中的任意一个线圈组的所述两个以上的线圈各自的单匝线圈间的间距比所述多个线圈组中的设置于所述一个线圈组的内侧的线圈组的所述两个以上的线圈各自的单匝线圈间的间距大。2.根据权利要求1所述的滤波器装置，其特征在于，所述多个线圈的单匝线圈间的间距被设定为使所述多个线圈的电感大致相同。3.根据权利要求1或2所述的滤波器装置，其特征在于，所述多个线圈具有大致相同的线圈长度。4.根据权利要求3所述的滤波器装置，其特征在于，所述多个线圈中的具有最大线圈长度的线圈与具有最小线圈长度的线圈之间的线圈长度之差为该最小线圈长度的3％以下。5.根据权利要求3或4所述的滤波器装置，其特征在于，所述多个线圈的卷绕部分别具有一端和所述多个电容器侧...

【专利技术属性】
技术研发人员：奥西直彦，永岛望，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP