【技术实现步骤摘要】
高粘性低剥离硅胶保护膜
本技术涉及保护膜
,特别涉及一种高粘性低剥离硅胶保护膜。
技术介绍
表面保护膜也被称为掩蔽(masking)膜,通常用于提供物理屏障,以防粘附该表面保护膜的基片发生破坏、污染、刻划、刮擦或其它损坏。表面保护膜可用于在基片使用前的制造、运输或贮藏中提供这些保护。然而现有市场上的高粘硅胶保护膜,其都是高粘性,且剥离力也高,通常粘性500g以上的剥离力都在25~35g之间,剥离力太重的情况下很难实现自动化生产线应用,给生产带来不便。并且普遍的高粘硅胶保护膜均是采用一层PET膜结构,保护效果差,很容易导致产品损坏。
技术实现思路
针对上述不足,本技术目的在于提供一种结构设计巧妙、合理,粘性高,易剥离,保护效果好的高粘性低剥离硅胶保护膜。本技术为实现上述目的,所提供的技术方案是:一种高粘性低剥离硅胶保护膜,其包括紫外固化硬涂层、电晕处理层、PET基材膜层、高粘硅胶层和氟素膜剥离层,所述紫外固化硬涂层、电晕处理层、PET基材膜层、高粘硅胶层和氟素膜剥离层按照从上至下的顺序依次贴合;所述PET基材膜层的厚度为40~60微米,所述高粘硅胶层的厚度为10~20微米,氟素膜剥离层的厚度为45~55微米。作为本技术的一种改进,所述紫外固化硬涂层的厚度为10~15微米。作为本技术的一种改进,所述电晕处理层的厚度为3~5微米。作为本技术的一种改进,其还包括防刮PET膜层,该防刮PET膜层通过压克力胶层贴合在紫外固化硬涂层上。作为本技术的一种改进,所述防刮PET膜层的厚度为115~135微米,压克力胶层的厚度为22~28微米。本技术的有益效果为:本技术结构设计合 ...
【技术保护点】
1.一种高粘性低剥离硅胶保护膜,其特征在于,其包括紫外固化硬涂层、电晕处理层、PET基材膜层、高粘硅胶层和氟素膜剥离层,所述紫外固化硬涂层、电晕处理层、PET基材膜层、高粘硅胶层和氟素膜剥离层按照从上至下的顺序依次贴合;所述PET基材膜层的厚度为40~60微米,所述高粘硅胶层的厚度为10~20微米,氟素膜剥离层的厚度为45~55微米。
【技术特征摘要】
1.一种高粘性低剥离硅胶保护膜,其特征在于,其包括紫外固化硬涂层、电晕处理层、PET基材膜层、高粘硅胶层和氟素膜剥离层,所述紫外固化硬涂层、电晕处理层、PET基材膜层、高粘硅胶层和氟素膜剥离层按照从上至下的顺序依次贴合;所述PET基材膜层的厚度为40~60微米,所述高粘硅胶层的厚度为10~20微米,氟素膜剥离层的厚度为45~55微米。2.根据权利要求1所述的高粘性低剥离硅胶保护膜,其特征在于,所述紫外固...
【专利技术属性】
技术研发人员:罗炜,兰怀坤,赵万里,
申请(专利权)人:东莞市亮雅塑料制品有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
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