Preparation of a transparent conductive oxide material. The present invention belongs to nonmetallic elements and their compounds. The invention discloses a new Nb AZO material preparation technology. By mixing (0.005 1 at%) Nb2O5, (0.5 5 at%) Al2O3 and ZnO powders fully, forming and sintering, the density, strength and resistivity of the powders can be more than 99.4%, 140 MPa and 9 10 respectively.
【技术实现步骤摘要】
Nb2O5掺杂AZO的制备
本专利技术属于无机非金属元素及其化合物。
技术介绍
AZO薄膜作为透明导电氧化物薄膜是一种被广泛研究的功能材料。AZO透明导电膜性能稳定、制备简单、成本低廉,是新一代透明导电膜,有可能替代昂贵的ITO,在薄膜,在平板显示、太阳能电池、节能玻璃、智能玻璃等领域有广泛的应用前景。透明导电AZO薄膜的制备方法主要有:物理气相沉积、化学气相沉积、溶胶-凝胶等各种方法。由于物理气相沉积制备的薄膜与基体的结合强度高、沉积效率高、工艺成熟稳定而被广泛应用。而用物理气相沉积制备薄膜需要使用高密度靶材,通过能量束轰击靶材将其气化,再沉积到基体表面形成透明导电膜。Nb2O5掺杂AZO能大幅度降低AZO靶材的烧结温度,促进其烧结的致密化,提高靶材的密度、强度及导电性,从而提高镀膜质量。
技术实现思路
本专利技术公开了一种Nb2O5掺杂AZO靶材的制备。把(0.005-1at%)的Nb2O5、(0.5-5at%)的Al2O3与ZnO粉末,按水:料比为3:1制成混合料浆,湿磨72h,干燥过筛,粉末预烧后加入5wt%的PEG-2000溶液,继续湿磨2h后,干燥过筛,然后造粒、成型、烧结。在1100℃-1250℃温度下烧结,可制备出致密度超过99.4%,强度超过140MPa,电阻率小于9×10-4Ω·cm的Nb-AZO靶材,这种掺杂Nb-AZO靶材,可经济、高效的制成各种复杂形状。Nb-AZO透明导电薄膜有性能稳定、制备简单、成本低廉等优势,在光电学性能平板显示领域得到了极其广泛的应用,是新一代透明导电膜,最有可能替代昂贵的ITO,在薄膜太阳能电池和low-E玻 ...
【技术保护点】
1.Nb‑AZO靶材的制备,实验采用球磨(加成型剂)—卸料—干燥—过筛—干压成型—烧结制备工艺流程,可制备出密度达5.57 g/cm3, 抗弯强度达140MPa, 电阻率小于9×10‑4Ω ·cm的高性能靶材。
【技术特征摘要】
1.Nb-AZO靶材的制备,实验采用球磨(加成型剂)—卸料—干燥—过筛—干压成型—烧结制备工艺流程,可制备出密度达5.57g/cm3,抗弯强度达140MPa,电阻率小于9×10-4Ω·cm的高性能靶材。2.对权利要求1所述的Nb-AZO粉体的烧结,既可采用常压烧结工艺...
【专利技术属性】
技术研发人员:尚福亮,王晨,肖超,董磊,朱佐祥,彭伟,高玲,杨海涛,
申请(专利权)人:杨海涛,
类型:发明
国别省市:广东,44
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。