一种改良型奥贝尔氧化沟制造技术

本发明专利技术实施例公开了一种改良型奥贝尔氧化沟，所述氧化沟包括从外向内依次布设的厌氧池、缺氧池和好氧池；厌氧池外壁上设有污水进口和回流污泥口；所述氧化沟还包括曝气机和可调节导流装置，曝气机装配在各池中，所述可调节导流装置位于曝气机的下游，且可调节导流装置装配在各池中。该氧化沟可适当增加水深、调节流速、溶氧效率高、无沉淀死角、结构可靠。

An improved Obel oxidation ditch

The embodiment of the present invention discloses an improved Obel oxidation ditch, which comprises an anaerobic tank, an anoxic tank and an aerobic tank arranged sequentially from outside to inside; an inlet of sewage and a return sludge outlet are arranged on the outer wall of the anaerobic tank; the oxidation ditch also includes an aerator and an adjustable diversion device, and the aerator is assembled in each tank. The adjustable diversion device is located downstream of the aerator, and the diversion device can be adjusted to assemble in each pool. The oxidation ditch can increase water depth appropriately, adjust flow rate, improve dissolved oxygen efficiency, have no dead angle of precipitation and have reliable structure.

【技术实现步骤摘要】
一种改良型奥贝尔氧化沟
本专利技术属于环境保护
，具体来说，涉及一种改良型奥贝尔氧化沟。
技术介绍
奥贝尔氧化沟是由多个同心的椭圆形或圆形沟渠组成，污水与回流污泥均进入到最外一条沟渠，在不断循环的同时，依次进入下一个沟渠。它相当于一系列完全混合反应池串联而成，最后混合液从内沟渠排出至二沉池。各沟渠内装配有碟片数量和功率不等的曝气机，以进行污水充氧和推流之用。水平式的曝气机设备旋转方向与沟渠中水流方向同向，并且安装在氧化沟的直道上。由于转碟曝气机为表面曝气，主要存在以下不足之处：对表面水体进行充氧和推流，一般水深不大于3.6m，限制了氧化沟的深度；如果水深比较大，会产生池底污泥沉淀现象；水流速度恒定，调节余地小；在池壁底部的局部区域会产生污泥沉淀现象。
技术实现思路
本专利技术提供一种改良型奥贝尔氧化沟，以解决上述奥贝尔氧化沟污水处理工艺存在的不足，可适当增加水深、调节流速、溶氧效率高、无沉淀死角、结构可靠。为解决上述技术问题，本专利技术实施例采用以下技术方案：一种改良型奥贝尔氧化沟，所述氧化沟包括从外向内依次布设的厌氧池、缺氧池和好氧池；厌氧池外壁上设有污水进口和回流污泥口；所述氧化沟还包括曝气机和可调节导流装置，曝气机装配在各池中，所述可调节导流装置位于曝气机的下游，且可调节导流装置装配在各池中。作为优选例，所述可调节导流装置包括两个固定环、两个调节环、第一导流板和两个第二导流板，固定环固定连接在池道的两侧壁面上，调节环与固定环连接，第一导流板的两端分别与一调节环固定连接；两个第二导流板位于第一导流板下方，且分别与第一导流板的底面固定连接。作为优选例，所述固定环包括固定体和定位轴，定位轴与固定体固定连接，固定体设有第一固定孔、逆时针定位孔和顺时针定位孔。作为优选例，所述顺时针定位孔的数量等于逆时针定位孔的数量，均为n个；两个相邻顺时针定位孔之间的角度为360°/n；两个相邻逆时针定位孔之间的角度为360°/n；顺时针定位孔和逆时针定位孔在不同方向上一一对应设置，且所有顺时针定位孔的中心位于同一圆上，所有逆时针定位孔的中心位于同一圆上；顺时针定位孔的中心所在的圆的圆心、逆时针定位孔的中心所在的圆的圆心和第一固定孔所在的圆的圆心重合。作为优选例，所述调节环包括调节体，以及设置在调节体上的第二固定孔、逆时针调节孔、转动孔和顺时针调节孔；调节体通过转动孔套装在定位轴上，调节环可拆卸连接在固定环上。作为优选例，所述顺时针定位孔中心圆的直径等于顺时针调节孔中心圆的直径；所述顺时针定位孔的数量等于顺时针调节孔的数量；逆时针定位孔中心圆的直径等于逆时针调节孔中心圆的直径；逆时针定位孔的数量等于逆时针调节孔的数量；所有顺时针调节孔的中心位于同一圆上，所有逆时针调节孔的中心位于同一圆上；顺时针调节孔的中心所在的圆的圆心、逆时针调节孔的中心所在的圆的圆心和调节体的第二固定孔所在的圆的圆心重合；第一固定孔所在的圆的圆心和第二固定孔所在的圆的圆心重合。作为优选例，所述顺时针调节孔从调节环中心线开始，沿顺时针方向，与调节环中心线的间隔角度依次为360°/n-a°、2*360°/n-2a°、3*360°/n-3a°、……、360°-na°；0＜a≤3°；所述逆时针调节定位孔从调节环中心线开始，沿逆时针方向，与调节环中心线的间隔角度依次为360°/n-a°、2*360°/n-2a°、3*360°/n-3a°、……、360°-na°。作为优选例，所述第一导流板沿着水流方向向下倾斜，且第一导流板顶部距离水面150～250mm，第一导流板的垂直投影高度为1.5～2.0m。作为优选例，所述第一导流板与水平面的基准夹角为60°。作为优选例，所述第二导流板轴向镜像分布在第一导流板下表面的两侧，所述每侧第二导流板与该侧第一导流板边缘的距离为500～1000mm；第二导流板与其所在池道的轴向中心线的夹角为1～5°，且第二导流板的下部向池道外侧倾斜。与现有技术相比，本专利技术实施例可实现奥贝尔氧化沟污水处理工艺的改良，提供一种具有可适当增加水深、调节流速、无沉淀、结构可靠的奥贝尔氧化沟。该实施例中的氧化沟包含导流装置。导流装置包括两个固定环、两个调节环、第一导流板和两个第二导流板。汽水混合液由于受到第一导流板的导流作用，流体顺着第一导流板的方向流动，即向池底流动，增加池底流动速度，不会产生池底沉淀现象，因此，氧化沟的水深可适当增加。同时，水流由于受到第一导流板的导流，其运动方向也随之改变，因此其流速随之改变。第二导流板对混合液也起到导流作用。第二导流板轴向镜像分布在第一导流板下表面的两侧。第二导流板可对部分污水导流后对池壁进行冲刷，避免在池壁产生沉淀。附图说明图1是本专利技术实施例的结构示意图；图2是本专利技术实施例中的氧化沟断面示意图；图3为本专利技术实施例中的导流装置结构示意图；图4为本专利技术实施例中的固定环结构示意图；图5为本专利技术实施例中的调节环结构示意图。图中有：厌氧池1、污泥回流口2、曝气机3、缺氧池4、污水进口5、好氧池6、可调节导流装置7、固定环71、第一固定孔711、固定体712、定位轴713、逆时针定位孔714、顺时针定位孔715、调节环72、第二固定孔721、逆时针调节孔722、调节体723、转动孔724、顺时针调节孔725、第一导流板73、第二导流板74、定位销75、紧固件76。具体实施方式以下的说明本质上仅仅是示例性的而并不是为了限制本公开、应用或用途。应当理解的是，在全部附图中，对应的附图标记表示相同或对应的部件和特征。如图1和图2所示，本专利技术实施例的一种改良型奥贝尔氧化沟，包括从外向内依次布设的厌氧池1、缺氧池4和好氧池6。厌氧池1外壁上设有污水进口5和回流污泥口2。氧化沟还包括曝气机3和可调节导流装置7。曝气机3装配在各池的直道上。可调节导流装置7位于曝气机3的下游，且可调节导流装置7装配在各池的直道上。上述实施例的奥贝尔氧化沟中，厌氧池1的容积为总容积的60%～70%，缺氧池4的容积为总容积的20%～30%，好氧池6的容积为总容积的10%。曝气机3安装在氧化沟各池的直道上，导流装置7安装在曝气机3下游2～3m距离内的水面下。该实施例设置了可调节导流装置7，通过该可调节导流装置7实现氧化沟的功能提升。该可调节导流装置7设置在曝气机3的下游，对经过曝气机3处理的污水进行导流，可以增加奥贝尔氧化沟中的污水深度，调节流速，在奥贝尔氧化沟中没有沉淀现象。具体来说，如图3所示，所述导流装置7包括两个固定环71、两个调节环72、第一导流板73和两个第二导流板74，固定环71固定连接在池道的两侧壁面上，调节环72与固定环71连接，第一导流板73的两端分别与一调节环72固定连接；两个第二导流板74位于第一导流板73下方，且分别与第一导流板73的底面固定连接。导流装置7设置在厌氧池1、缺氧池4和好氧池6中，对各池道中的污水都进行导流作用。该实施例中的导流装置7包括两个固定环71、两个调节环72、第一导流板73和两个第二导流板74。通过改变调节环72的位置，实现对第一导流板73和第二导流板74的倾斜角度的设置。不同倾斜角度的第一导流板73和第二导流板74，对污水的导流作用不同。作为优选例，如图4所示，所述固定环71包括固定体712和定位轴713，定位轴本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种改良型奥贝尔氧化沟，其特征在于，所述氧化沟包括从外向内依次布设的厌氧池（1）、缺氧池（4）和好氧池（6）；厌氧池（1）外壁上设有污水进口（5）和回流污泥口（2）；所述氧化沟还包括曝气机（3）和可调节导流装置（7），曝气机（3）装配在各池中，所述可调节导流装置（7）位于曝气机（3）的下游，且可调节导流装置（7）装配在各池中。

【技术特征摘要】
1.一种改良型奥贝尔氧化沟，其特征在于，所述氧化沟包括从外向内依次布设的厌氧池（1）、缺氧池（4）和好氧池（6）；厌氧池（1）外壁上设有污水进口（5）和回流污泥口（2）；所述氧化沟还包括曝气机（3）和可调节导流装置（7），曝气机（3）装配在各池中，所述可调节导流装置（7）位于曝气机（3）的下游，且可调节导流装置（7）装配在各池中。2.按照权利要求1所述的改良型奥贝尔氧化沟，其特征在于，所述可调节导流装置（7）包括两个固定环（71）、两个调节环（72）、第一导流板（73）和两个第二导流板（74），固定环（71）固定连接在池道的两侧壁面上，调节环（72）与固定环（71）连接，第一导流板（73）的两端分别与一调节环（72）固定连接；两个第二导流板（74）位于第一导流板（73）下方，且分别与第一导流板（73）的底面固定连接。3.按照权利要求1所述的改良型奥贝尔氧化沟，其特征在于，所述固定环（71）包括固定体（712）和定位轴（713），定位轴（713）与固定体（712）固定连接，固定体（712）设有第一固定孔（711）、逆时针定位孔（714）和顺时针定位孔（715）。4.按照权利要求3所述的改良型奥贝尔氧化沟，其特征在于，所述顺时针定位孔（715）的数量等于逆时针定位孔（714）的数量，均为n个；两个相邻顺时针定位孔（715）之间的角度为360°/n；两个相邻逆时针定位孔（714）之间的角度为360°/n；顺时针定位孔（715）和逆时针定位孔（714）在不同方向上一一对应设置，且所有顺时针定位孔（715）的中心位于同一圆上，所有逆时针定位孔（714）的中心位于同一圆上；顺时针定位孔（715）的中心所在的圆的圆心、逆时针定位孔（714）的中心所在的圆的圆心和第一固定孔（711）所在的圆的圆心重合。5.按照权利要求3所述的改良型奥贝尔氧化沟，其特征在于，所述调节环（72）包括调节体（723），以及设置在调节体（723）上的第二固定孔（721）、逆时针调节孔（722）、转动孔（724）和顺时针调节孔（725）；调节体（723）通过转动孔（724）套装在定位轴（713...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈斌，李善庭，黄学军，王震，张华，张允敬，叶昕，
申请(专利权)人：蓝深集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32