研磨装置及研磨系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及显示技术领域，提供一种研磨装置及研磨系统，其中研磨装置，包括：研磨组件；配液组件，包括配液主管以及与配液主管连接的若干配液支管，其中若干配液支管与研磨组件固定连接并在研磨组件上均匀分布。通过固定连接的研磨组件与配液组件，即研磨组件与配液组件之间的位置相对固定，并通过配液组件中的若干配液支管在研磨组件上的均匀分布，使得配液组件向研磨组件提供的研磨液能够均匀分布在研磨组件上，达到研磨组件能够较好地研磨待研磨件的目的，从而使得待研磨件具有较好的抛光效果。

Grinding device and grinding system

The utility model relates to the display technology field, and provides a grinding device and a grinding system, in which the grinding device comprises a grinding component, a liquid distribution component, including a liquid distribution main pipe and several liquid distribution branch pipes connected with the liquid distribution main pipe, in which several liquid distribution branch pipes are fixed connected with the grinding component and evenly distributed on the grinding component. . By fixedly connecting the grinding component and the liquid distribution component, that is, the position between the grinding component and the liquid distribution component is relatively fixed, and through the uniform distribution of several liquid distribution branch pipes in the liquid distribution component on the grinding component, the grinding fluid provided by the liquid distribution component to the grinding component can be evenly distributed on the grinding component to reach the grinding group. The polishing effect of the parts to be polished is better because the parts to be polished can be better polished.

【技术实现步骤摘要】
研磨装置及研磨系统
本技术涉及显示
，具体涉及在显示领域制造过程中的一种研磨装置及研磨系统。
技术介绍
在显示
，平板显示装置具有完全平面化、轻、薄、省电等特点，符合未来图像显示装置发展的必然趋势。现有技术中，平板显示装置主要包括:PDP(Plasmadisplaypanel)、LCD(Liquidcrystaldisplays)、FED(Fieldemissiondisplays)、OLED(Organiclight-emittingdiodedisplays)等，特别是LCD、OLED具有体积小、功耗低、制造成本低和无辐射等特点，在当前的平板显示装置市场已经占据了主导地位。基板的表面精度决定了平板显示装置的光学性能以及加载在基板上的元件的性能与质量。然而，在平板显示装置生产过程中，例如在搬运基板时，基板的表面容易被划伤，从而影响装置性能。为了改善显示装置的画面显示质量，现有技术中，一般采用平面旋转研磨装置，对基板表面进行研磨、抛光。该研磨装置工作时，通过喷嘴将研磨液喷洒到旋转抛光棉的一侧，研磨液渗入抛光棉内，再利用抛光棉对基板进行旋转研磨。然而，上述技术方案中，由于喷嘴是固定不动的，在抛光棉的不断旋转过程中就会导致研磨液的分布不均匀，从而影响基板的抛光效果。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题在于克服现有技术中的基板研磨时研磨液分布不均导致的研磨效果不佳的缺陷。鉴于此，本技术提供一种研磨装置，包括：研磨组件；配液组件，包括配液主管以及与所述配液主管连接的若干配液支管，其中所述若干配液支管与所述研磨组件固定连接并在研磨组件上均匀分布。可选地，所述研磨组件包括研磨件、以及设置在所述研磨件外壁，用于支承所述研磨件的连接件。可选地，所述连接件上开设有若干通孔，所述配液支管嵌入所述通孔与所述研磨组件固定连接。可选地，所述配液支管靠近所述研磨组件一端端部的喷嘴。本技术还提供一种研磨系统，包括上述任一项所述的研磨装置。可选地，还包括：槽体，以及设置在所述槽体上方的固定装置，所述固定装置用于固定待研磨件；第一支路，与所述槽体连接；所述第一支路包括第一容器，输送装置以及第一阀门，所述第一容器通过所述输送装置与所述配液组件远离所述研磨组件的一端连接；所述槽体通过所述第一阀门与所述第一容器连接。可选地，还包括：与所述槽体连接的第二支路；所述第二支路包括第二容器和第二阀门；所述第二容器通过第二阀门与所述槽体连接。可选地，还包括三通阀；所述槽体通过所述三通阀分别与所述第一支路和第二支路连接。可选地，还包括：驱动装置，用于驱动所述研磨装置往返运动。本技术技术方案，具有如下优点：1.本技术提供的研磨装置，通过固定连接的研磨组件与配液组件，即研磨组件与配液组件之间的位置相对固定，并通过配液组件中的若干配液支管在研磨组件上的均匀分布，使得配液组件向研磨组件提供的研磨液能够均匀分布在研磨组件上，达到研磨组件能够较好地研磨待研磨件的目的，从而使得待研磨件具有较好的抛光效果。2.本技术提供的研磨装置，通过在配液支管靠近研磨组件一端端部设置的喷嘴，能够增大研磨液的输送半径，提高研磨效率。3.本技术提供的研磨系统，通过设置与槽体连接的第一支路，用于实现研磨液的循环使用，达到节约资源的目的。4.本技术提供的研磨系统，通过设置于槽体连接的第二支路，用于实现废弃研磨液的回收，防止废弃研磨液污染环境。5.本技术提供的研磨系统，通过设置驱动研磨装置往返运动的驱动装置，提高研磨系统的研磨效率。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例1中研磨装置的一个具体示意的结构示意图；图2为本技术实施例1中研磨组件的一个具体示意的结构示意图；图3为本技术实施例2中研磨系统的一个具体示意的结构示意图；附图标记：10-配液组件；11-配液主管；12-配液支管；13-喷嘴；20-研磨组件；21-连接件；22-研磨件；23-通孔；30-待研磨件；40-固定装置；50-槽体；60-第一支路；61-第一容器；62-输送装置；63-第一阀门；70-第二支路；71-第二容器；72-第二阀门；80-三通阀。具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，下面所描述的本技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。实施例1本技术实施例提供一种研磨装置，如图1所示，包括固定连接的研磨组件20和配液组件10。研磨组件20用于待研磨件的研磨；配液组件10包括配液主管11以及与配液主管连接的若干配液支管12，用于向研磨组件20提供研磨液，其中，若干配液支管与研磨组件20固定连接，并在研磨组件上均匀分布。通过固定连接的研磨组件20与配液组件10，即研磨组件20与配液组件10之间的位置相对固定，并通过配液组件中的若干配液支管在研磨组件上的均匀分布，使得配液组件10向研磨组件20提供的研磨液能够均匀分布在研磨组件20上，达到研磨组件20能够较好地研磨待研磨件的目的，从而使得待研磨件具有较好的抛光效果。如图1所示，配液支管12与配液主管11的轴向垂直连接。配液主管11从外界获取研磨液，经配液主管12输送至研磨组件20中。通过将配液支管12与配液主管11垂直设置，能够有利于研磨液直接进入研磨组件20，防止研磨液流量过猛所带来的研磨组件对待研磨件研磨造成的阻碍，影响研磨效果。如图2所示，配液组件10还包括设置在配液支管12靠近研磨组件20一端端部的喷嘴13。通过喷嘴12的设置能够增大研磨液的输送半径，提高研磨效率。如图1所示，研磨组件20包括研磨件22、以及设置在研磨件22外壁，用于支承研磨件22的连接件21。其中，研磨件22为抛光棉，连接件21为设置在抛光棉上表面的铝层。连接件21上开设有若干通孔23，配液支管12嵌入通孔23中，与研磨组件20固定连接。通过设置通孔23实现配液组件10与研磨组件20的连接，在实现输送研磨液的同时，能够保证配液组件10与研磨组件20的固定连接。作为配液支管12与配液主管11位置关系的可替换实施方式，配液支管12与配液主管11的轴向(研磨液流动方向)的夹角小于90°；即研磨液以一定的角度输送至研磨组件20，能够增大研磨液与研磨组件20的接触面积，提高研磨液的输送速度，从而提高研磨装置的研磨效率。优选地，配液支管12与配液主管11的轴向(研磨液流动方向)的夹角为75°至85°。作为连接件21的可替换实施方式，连接件21可以为其他任意形状的支承件，也可以为任意其他刚性材料，只需保证配本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种研磨装置，其特征在于，包括：研磨组件(20)；配液组件(10)，包括配液主管(11)以及与所述配液主管(11)连接的若干配液支管(12)，其中所述若干配液支管(12)与所述研磨组件(20)固定连接并在所述研磨组件(20)上均匀分布。

【技术特征摘要】
1.一种研磨装置，其特征在于，包括：研磨组件(20)；配液组件(10)，包括配液主管(11)以及与所述配液主管(11)连接的若干配液支管(12)，其中所述若干配液支管(12)与所述研磨组件(20)固定连接并在所述研磨组件(20)上均匀分布。2.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨组件(20)包括研磨件(22)、以及设置在所述研磨件(22)外壁，用于支承所述研磨件(22)的连接件(21)。3.根据权利要求2所述的研磨装置，其特征在于，所述连接件(21)上开设有若干通孔(23)，所述配液支管(12)嵌入所述通孔(23)与所述研磨组件(20)固定连接。4.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述配液组件(10)包括设置在所述配液支管(12)靠近所述研磨组件(20)一端端部的喷嘴(13)。5.一种研磨系统，其特征在于，包括权利要求1至4中任一项所述的研磨装置。6.根据权利要求5所述的研磨系统，其特征在于，还包括：槽体(5...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱松山，高裕弟，孙剑，洪耀，李晓波，
申请(专利权)人：枣庄维信诺电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：山东,37