【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】瑞利测定系统及瑞利测定方法
本专利技术涉及将激光射入光纤并利用该背向散射光即瑞利散射光高精度地测定数百米以上距离的形变、温度等的分布的技术。
技术介绍
以往,已知有如下方法:将激光的光脉冲射入光纤中,基于在该光纤的长边方向的各位置到达光纤的背向散射光即瑞利背向散射光(以下,简称为瑞利散射光),利用该瑞利散射光的光纤在各位置中的光接收量的变化求出形变、温度等的分布的情况下,在改变光频率的同时射入光脉冲,使用所接收的瑞利散射光的相关峰频率与光纤的形变变化量·温度变化量·光频率变化量间的关系,测定光纤的长边方向的形变变化、或温度变化(例如,参照专利文献1)。另外,存在如下的其他方法:在频率区域中,对参照的数据和作为测定对象的对象数据两者进行测定,通过进行求出它们的相关性的相关分析,从而获得瑞利光谱位移(例如,参照专利文献2)。并且,为了使利用瑞利散射光的测量高精度化,还存在如下的混合测量技术:除了瑞利散射光以外还一并使用利用布里渊散射光的测量数据,对利用瑞利散射光的测量数据的位置或长度进行补正(例如,参照非专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1日本专利第4441624号公报专利文献2美国专利第7440087号说明书非专利文献非专利文献1KinzoKISHIDA,YoshiakiYAMAUCHI,andArturGUZIK,“StudyofOpticalFibersStrain-TemperatureSensitivitiesUsingHybridBrillouin-RayleighSystem”,PhotonicSensors,DOI:10.1007/s1 ...
【技术保护点】
1.一种瑞利测定系统,将光脉冲射入光纤中,基于产生的瑞利背向散射光,求出所述光纤的物理量的分布,该瑞利测定系统的特征在于,包括:初始数据测定部,该初始数据测定部根据所述光纤的所述瑞利背向散射光对作为校正基准的初始数据进行测定;对象数据测定部,该对象数据测定部根据所述光纤的所述瑞利背向散射光对作为被校正对象的对象数据进行测定;初始瑞利散射光谱分析部,该初始瑞利散射光谱分析部对所述初始数据测定部中所测定的初始数据进行分析,并将所述瑞利背向散射光的频率特性作为光谱进行求出;对象瑞利散射光谱分析部,该对象瑞利散射光谱分析部对所述对象数据测定部中所测定的对象数据进行分析,并将所述瑞利背向散射光的频率特性作为光谱进行求出;比较方式距离补正部,该比较方式距离补正部对所述初始瑞利散射光谱分析部中所求出的光谱和所述对象瑞利散射光谱分析部所求出的光谱进行比较,从而对所述对象瑞利散射光谱分析部中所求出的光谱在测定对象位置的距离误差进行补正;相关分析部,该相关分析部对所述初始瑞利散射光谱分析部中所求出的光谱的数据和所述比较方式距离补正部中将距离误差补正后的对象瑞利散射光谱的数据进行相关分析;以及瑞利光谱位移运 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种瑞利测定系统,将光脉冲射入光纤中,基于产生的瑞利背向散射光,求出所述光纤的物理量的分布,该瑞利测定系统的特征在于,包括:初始数据测定部,该初始数据测定部根据所述光纤的所述瑞利背向散射光对作为校正基准的初始数据进行测定;对象数据测定部,该对象数据测定部根据所述光纤的所述瑞利背向散射光对作为被校正对象的对象数据进行测定;初始瑞利散射光谱分析部,该初始瑞利散射光谱分析部对所述初始数据测定部中所测定的初始数据进行分析,并将所述瑞利背向散射光的频率特性作为光谱进行求出;对象瑞利散射光谱分析部,该对象瑞利散射光谱分析部对所述对象数据测定部中所测定的对象数据进行分析,并将所述瑞利背向散射光的频率特性作为光谱进行求出;比较方式距离补正部,该比较方式距离补正部对所述初始瑞利散射光谱分析部中所求出的光谱和所述对象瑞利散射光谱分析部所求出的光谱进行比较,从而对所述对象瑞利散射光谱分析部中所求出的光谱在测定对象位置的距离误差进行补正;相关分析部,该相关分析部对所述初始瑞利散射光谱分析部中所求出的光谱的数据和所述比较方式距离补正部中将距离误差补正后的对象瑞利散射光谱的数据进行相关分析;以及瑞利光谱位移运算部,该瑞利光谱位移运算部基于该相关分析部中所获得的数据,求出瑞利光谱位移,求出所述光纤在测定对象位置的瑞利光谱位移量。2.如权利要求1所述的瑞利测定系统,其特征在于,所述比较方式距离补正部包括:光谱提取部,该光谱提取部对预先所设定的初始位置中的初始数据及对象数据的瑞利散射光谱进行提取;第1距离补正分析部,该第1距离补正分析部对所述初始数据的瑞利散射光谱和所述对象数据的瑞利散射光谱进行分析,并求出所述初始位置中的最大互相关系数和频率位移量;位置变更部,该位置变更部按照所述初始位置,预先确定规定的上限值和下限值,并且在所述上限值和下限值之间对所述初始位置进行变更;第2距离补正分析部,该第2距离补正分析部将提取所述对象数据的位置作为所述位置变更部中所确定的位置,使得该位置在所述上限值和下限值之间变更,且对提取该对象数据的位置中的初始数据的瑞利散射光谱和对象数据的瑞利散射光谱进行分析,求出提取该对象数据位置中的最大互相关系数和频率位移量,并且在使得提取所述对象数据的位置变化时,求出提取所述对象数据的位置中的最大互相关系数成为最大时的位置;以及位置补正运算部,该位置补正运算部根据所述第2距离补正分析部中求出的最大互相关系数成为最大时的位置与所述初始位置之差,决定所述初始位置中的位置补正量。3.如权利要求2所述的瑞利测定系统,其特征在于,所述第1距离补正分析部包括:第1互相关分析部,该第1互相关...
【专利技术属性】
技术研发人员:岸田欣增,山内良昭,
申请(专利权)人:光纳株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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