含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质制造技术

本发明专利技术提供下述式(1)所示的含氟醚化合物。R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质
本专利技术涉及磁记录介质、含氟醚化合物以及磁记录介质用润滑剂。本申请基于2016年2月22日在日本申请的特愿2016-031473来主张优先权，将其内容援用到本文中。
技术介绍
为了提高磁记录再生装置的记录密度，进行了适于高记录密度的磁记录介质的开发。以往，作为磁记录介质，有在基板上形成记录层，在记录层上形成碳等的保护层的磁记录介质。保护层保护记录于记录层的信息，并且提高磁头的滑动性。然而，仅仅在记录层上设置保护层，不能充分获得磁记录介质的耐久性。因此，一般而言，在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑层。作为在形成磁记录介质的润滑层时所使用的润滑剂，提出了例如，含有在具有包含CF2的重复结构的氟系聚合物的末端具有羟基等极性基的化合物的润滑剂(例如，参照专利文献1～6)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2010-248463号公报专利文献2：日本特开2012-184339号公报专利文献3：日本特开2012-7008号公报专利文献4：日本专利第4632144号公报专利文献5：国际公开第2013/054393号专利文献6：美国专利申请公开第2015/0235664号说明书
技术实现思路
专利技术所要解决的课题在磁记录再生装置中，要求更进一步减小磁头的上浮量。因此，要求使磁记录介质中的润滑层的厚度更薄。然而，如果减薄润滑层的厚度，则在润滑层易于形成间隙。其结果，被覆保护层表面的润滑层的被覆率降低。如果使污染物质生成的环境物质从被覆率低的润滑层的间隙侵入到润滑层的下层，则环境物质生成离子性杂质等污染磁记录介质的污染物质。该污染物质(凝集成分)在磁记录再生时，作为异物(污渍)而附着(转印)于磁头，有时使磁头破损、或使磁记录再生装置的磁记录再生特性降低。此外，不与保护层密合(吸附)而存在的润滑剂层中的含氟醚化合物有时凝集而作为异物(污渍)附着于磁头。此外，关于润滑层，为了使磁记录介质的耐久性提高，需要与保护层的密合性优异。本专利技术是鉴于上述情况而提出的，其课题是提供可以适合用作磁记录介质用润滑剂的材料的含氟醚化合物，上述磁记录介质用润滑剂可以形成即使厚度小，也可以以高被覆率被覆保护层表面，与保护层的密合性优异，不易使异物(污渍)产生的润滑层。此外，本专利技术的课题是提供包含本专利技术的含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂以及设置有包含本专利技术的含氟醚化合物的润滑层的磁记录介质。用于解决课题的手段本专利技术人为了解决上述课题而反复进行了深入研究。其结果发现，只要制成下述含氟醚化合物即可，该含氟醚化合物是将第1全氟聚醚(以下有时记载为“PFPE”。)链配置在中央，在其两端分别经由包含极性基的连接基而配置第2PFPE链，在各第2PFPE链的外侧(与第1PFPE相反侧)分别配置不同的末端基，一个或两个末端基包含2个以上极性基，从而想到了本专利技术。即，本专利技术涉及以下事项。[1]一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示。R4-CH2-R3-CH2-R2-CH2-R1-CH2-R2-CH2-R3-CH2-R5(1)(在式(1)中，R1和R3为相同或不同的全氟聚醚链，R2为包含至少1个极性基的连接基，R4与R5中的任一者或两者为包含2个以上极性基的末端基并且R4与R5不同。)[2]根据[1]所述的含氟醚化合物，上述式(1)中的R4和R5为选自羟基、下述式(2-1)～(2-5)中的任一末端基。(在式(2-1)中，r表示0～4的整数。)(在式(2-2)中，p表示1～5的整数。)(在式(2-3)中，s表示2～5的整数。)(在式(2-4)中，t表示1～5的整数。)(在式(2-5)中，q表示2～5的整数。)[3]根据[1]或[2]所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)中的R1与R3中的任一者或两者由下述式(3)表示。(在式(3)中，m表示1～20的整数，n表示0～10的整数。)[4]根据[1]或[2]所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)中的R3由下述式(4)或下述式(5)表示。(在式(4)中，u表示1～30的整数。)(在式(5)中，v表示1～30的整数。)[5]根据[1]～[4]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)中的R2的碳原子数为1～20。[6]根据[1]～[5]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)中的R2由下述式(6)表示。(在式(6)中，w表示1～4的整数。)[7]根据[1]～[6]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)中的R4与R5中的一者为羟基。[8]根据[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)所示的化合物由下述式(D)表示，下述式(D)中的Rf1由下述式(RF-1)表示。(在式(RF-1)中，x表示1～7的整数，y表示1～7的整数。)[9]根据[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)所示的化合物由下述式(G)表示，下述式(G)中的Rf1由式(RF-1)表示。[10]根据[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)所示的化合物由下述式(H)表示，下述式(H)中的Rf1由式(RF-1)表示。[11]根据[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)所示的化合物由下述式(J)表示，下述式(J)中的Rf1由式(RF-1)表示。[12]根据[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)所示的化合物由下述式(K)表示，下述式(K)中的Rf1由式(RF-1)表示。[13]根据[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)所示的化合物由下述式(L)表示，下述式(L)中的Rf1由式(RF-1)表示。[14]根据[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)所示的化合物由下述式(O)表示，下述式(O)中的Rf2由下述式(RF-2)表示。(在式(RF-2)中，z表示1～9的整数。)[15]根据[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)所示的化合物由下述式(Q)表示，下述式(Q)中的Rf2由式(RF-2)表示。[16]根据[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)所示的化合物由下述式(R)表示，下述式(R)中的Rf2由式(RF-2)表示。[17]根据[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)所示的化合物由下述式(U)表示，下述式(U)中的Rf1由式(RF-1)表示。[18]根据[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)所示的化合物由下述式(X)表示，下述式(X)中的Rf1由式(RF-1)表示。[19]根据[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)所示的化合物由下述式(Z)表示，下述式(Z)中的Rf1由式(RF-1)表示。[20]根据[1]～[19]中任一项所述的含氟醚化合物，其数均分子量在1000～10000的范围内。[21]一种磁记录介质用润滑剂，其特征在于，包含[1]～[20]中任一项所述的含氟醚化合物。[22]一种磁记录介质，其特征在于，在基板上至少依次设置有磁性层、保护层、和润本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示，R4‑CH2‑R3‑CH2‑R2‑CH2‑R1‑CH2‑R2‑CH2‑R3‑CH2‑R5          (1)式(1)中，R1和R3为相同或不同的全氟聚醚链，R2为包含至少1个极性基的连接基，R4与R5中的任一者或两者为包含2个以上极性基的末端基并且R4与R5不同。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.22 JP 2016-0314731.一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示，R4-CH2-R3-CH2-R2-CH2-R1-CH2-R2-CH2-R3-CH2-R5(1)式(1)中，R1和R3为相同或不同的全氟聚醚链，R2为包含至少1个极性基的连接基，R4与R5中的任一者或两者为包含2个以上极性基的末端基并且R4与R5不同。2.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R4和R5为选自羟基、下述式(2-1)～(2-5)中的任一末端基，式(2-1)中，r表示0～4的整数；式(2-2)中，p表示1～5的整数；式(2-3)中，s表示2～5的整数；式(2-4)中，t表示1～5的整数；式(2-5)中，q表示2～5的整数。3.根据权利要求1或2所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述式(1)中的R1与R3中的任一者或两者由下述式(3)表示，式(3)中，m表示1～20的整数，n表示0～10的整数。4.根据权利要求1或2所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述式(1)中的R3由下述式(4)或下述式(5)表示，式(4)中，u表示1～30的整数；式(5)中，v表示1～30的整数。5.根据权利要求1～4中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述式(1)中的R2的碳原子数为1～20。6.根据权利要求1～5中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述式(1)中的R2由下述式(6)表示，式(6)中，w表示1～4的整数。7.根据权利要求1～6中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述式(1)中的R4与R5中的一者为羟基。8.根据权利要求1～7中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述式(1)所示的化合物由下述式(D)表示，下述式(D)中的Rf1由下述式(RF-1)表示，式(RF-1)中，x表示1～7的整数，y表示1～7的整数。9.根据权利要求1～7中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述式(1)所示的化合物由下述式(G)表示，下述式(G)中的Rf1由式(RF-1)表示，式(RF-1)中，x表示1～7的整数，y表示1～7的整数。10.根据权利要求1～7中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述式(1)所示的化合物由下述式(H)表示，下述式(H)中的Rf1由式(RF-1)表示，式(RF-1)中，x表示1～7的整数，y表示1～7的整数。11.根据权利要求1～7中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述式(1)所示的化合物由下述式(J)表示，下...

【专利技术属性】
技术研发人员：山口裕太，福本直也，伊藤直子，富田浩幸，太田一朗，室伏克己，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP