基板液处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种对于防止用于向处理液供给气体的喷嘴的堵塞有效的基板液处理装置。基板液处理装置(A1)具备：处理槽(41)，其容纳处理液(43)和基板(8)；气体喷嘴(70)，其在处理槽(41)内的下部喷出气体；以及气体供给部(89)，其向气体喷嘴(70)供给气体，其中，气体喷嘴(70)具有：管状的主体(71)，其以沿着处理槽(41)的底面的方式进行配置；以及喷出孔(77)，其形成为贯通主体(71)的内表面(73)与外表面(74)之间，并且开口面积随着从内表面(73)侧朝向外表面(74)侧而变小。

【技术实现步骤摘要】
基板液处理装置
本公开涉及一种基板液处理装置。
技术介绍
在专利文献1中公开了如下一种湿蚀刻处理装置：具备：溢流槽；泵，其使槽内的蚀刻液循环；加热器，其将槽内的蚀刻液加热到固定温度；温度控制器，其控制该温度；框，其将晶圆盒固定于在槽内的底部内设置的分散板；以及鼓泡器，其利用氮对槽内的蚀刻液进行鼓泡。专利文献1：日本特开平07-58078号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题期望使多个基板间以及单一基板的面内的基板处理的均匀性进一步提高。上述的鼓泡用的气体的供给状态对处理槽内各部中的处理液的上升速度产生影响，因此对基板处理的均匀性产生影响。作为使气体的供给状态不稳定的原因之一，能够列举出气体供给用的喷嘴的堵塞。因此，本公开的目的在于提供一种对于防止用于向处理液供给气体的喷嘴的堵塞有效的基板液处理装置。用于解决问题的方案本公开的一个方面所涉及的基板液处理装置具备：处理槽，其容纳处理液和基板；气体喷嘴，其在处理槽内的下部喷出气体；以及气体供给部，其向气体喷嘴供给气体，其中，气体喷嘴具有：管状的主体，其以沿着处理槽的底面的方式进行配置；以及喷出孔，其形成为贯通主体的内表面与外表面之间，并且开口面积随着从内表面侧朝向外表面侧而变小。专利技术的效果根据本公开，能够提供一种对于防止用于向处理液供给气体的喷嘴的堵塞有效的基板液处理装置。附图说明图1是示意性地表示基板液处理系统的俯视图。图2是蚀刻处理装置的示意图。图3是处理槽的俯视图。图4是气体喷嘴的放大图。图5是气体喷嘴的分解。图6是表示控制部的功能性的结构的框图。图7是基板处理过程的流程图。图8是处理液的填充过程的流程图。图9是喷嘴清洗过程的流程图。图10是表示浸渍处理过程的流程图。图11是表示气体供给量的控制过程的流程图。图12是处理液的排出过程的流程图。附图标记说明A1：基板液处理装置；7：控制部；8：基板；36：基板升降机构(输送部)；37：基板升降机构；70、70A、70B、70C：气体喷嘴；89：气体供给部；94：气体加热部；95：排气部；41：处理槽；43：处理液；71：主体；73：内表面；74：外表面；77：喷出孔；72：管中心。具体实施方式下面参照附图来详细地说明实施方式。在说明中，对相同要素或具有相同功能的要素标注相同的标记，省略重复的说明。如图1所示，基板液处理系统1A具有承载件搬入搬出部2、基板组形成部3、基板组载置部4、基板组输送部5、基板组处理部6以及控制部7。其中，承载件搬入搬出部2进行承载件9的搬入和搬出，该承载件9用于将多张(例如25张)基板(硅晶圆)8以水平姿势上下排列地容纳。在该承载件搬入搬出部2设置有用于载置多个承载件9的承载件台10、用于进行承载件9的输送的承载件输送机构11、用于暂时保管承载件9的承载件存储部12及13、以及用于载置承载件9的承载件载置台14。在此，承载件存储部12用于在利用基板组处理部6对要成为产品的基板8进行处理之前暂时保管该基板8。另外，承载件存储部13用于在利用基板组处理部6对要成为产品的基板8进行处理后暂时保管该基板8。而且，承载件搬入搬出部2使用承载件输送机构11将从外部搬入到承载件台10的承载件9输送到承载件存储部12、承载件载置台14。另外，承载件搬入搬出部2使用承载件输送机构11将被载置于承载件载置台14的承载件9输送到承载件存储部13、承载件台10。被输送到承载件台10的承载件9被搬出到外部。基板组形成部3将容纳于一个或多个承载件9的基板8组合来形成包括同时被处理的多张(例如50张)基板8的基板组。此外，在形成基板组时，既可以使基板8的表面上形成有图案的面彼此相向地形成基板组，也可以使基板8的表面上形成有图案的面全部朝向一个方向地形成基板组。在该基板组形成部3设置有用于输送多张基板8的基板输送机构15。此外，基板输送机构15能够在基板8的输送中途使基板8的姿势从水平姿势变更成垂直姿势或者从垂直姿势变更成水平姿势。而且，基板组形成部3使用基板输送机构15将基板8从载置于承载件载置台14的承载件9输送到基板组载置部4，将形成基板组的基板8载置到基板组载置部4。另外，基板组形成部3利用基板输送机构15将载置于基板组载置部4的基板组向载置于承载件载置台14的承载件9输送。此外，基板输送机构15具有用于支承处理前(利用基板组输送部5输送之前)的基板8的处理前基板支承部和用于支承处理后(利用基板组输送部5输送之后)的基板8的处理后基板支承部这两种基板支承部来作为用于支承多张基板8的基板支承部。由此，防止附着于处理前的基板8等的微粒等转附到处理后的基板8等。基板组载置部4将要利用基板组输送部5在基板组形成部3与基板组处理部6之间输送的基板组暂时载置(待机)于基板组载置台16。在该基板组载置部4设置有用于载置处理前(利用基板组输送部5输送之前)的基板组的搬入侧基板组载置台17和用于载置处理后(利用基板组输送部5输送之后)的基板组的搬出侧基板组载置台18。1个基板组的多张基板8以垂直姿势前后排列地载置于搬入侧基板组载置台17以及搬出侧基板组载置台18。而且，在基板组载置部4中，利用基板组形成部3形成的基板组被载置于搬入侧基板组载置台17，经由基板组输送部5向基板组处理部6搬入该基板组。另外，在基板组载置部4中，从基板组处理部6经由基板组输送部5搬出的基板组被载置于搬出侧基板组载置台18，向基板组形成部3输送该基板组。基板组输送部5在基板组载置部4与基板组处理部6之间、基板组处理部6的内部之间进行基板组的输送。在该基板组输送部5设置有进行基板组的输送的基板组输送机构19。基板组输送机构19包括沿着基板组载置部4和基板组处理部6配置的轨道20以及一边保持多张基板8一边沿着轨道20移动的移动体21。用于保持以垂直姿势前后排列的多张基板8的基板保持体22以进退自如的方式设置于移动体21。而且，基板组输送部5利用基板组输送机构19的基板保持体22接收被载置于搬入侧基板组载置台17的基板组，将该基板组向基板组处理部6交接。另外，基板组输送部5利用基板组输送机构19的基板保持体22接收利用基板组处理部6处理后的基板组，将该基板组向搬出侧基板组载置台18交接。并且，基板组输送部5使用基板组输送机构19在基板组处理部6的内部进行基板组的输送。基板组处理部6将以垂直姿势前后排列的多张基板8作为1个基板组进行蚀刻、清洗、干燥等处理。在该基板组处理部6中排列设置有进行基板8的干燥处理的干燥处理装置23、进行基板保持体22的清洗处理的基板保持体清洗处理装置24、进行基板8的清洗处理的清洗处理装置25以及进行基板8的蚀刻处理的两台基于本专利技术的蚀刻处理装置(基板液处理装置)1。干燥处理装置23具有处理槽27以及升降自如地设置于处理槽27的基板升降机构28。干燥用的处理气体(IPA(异丙醇)等)被供给到处理槽27。1个基板组的多张基板8以垂直姿势前后排列地保持于基板升降机构28。干燥处理装置23利用基板升降机构28从基板组输送机构19的基板保持体22接收基板组，利用基板升降机构28使该基板组升降，由此利用供给到处理槽27的干燥用的处理气体进行基板8的干燥处理。另外，干燥处理装置23将基板组从基板升降机构28向基板组输送机构19的基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板液处理装置，具备：处理槽，其容纳处理液和基板；气体喷嘴，其在所述处理槽内的下部喷出气体；以及气体供给部，其向所述气体喷嘴供给所述气体，其中，所述气体喷嘴具有：管状的主体，其以沿着所述处理槽的底面的方式配置；以及喷出孔，其形成为贯通所述主体的内表面与外表面之间，并且开口面积随着从所述内表面侧朝向所述外表面侧而变小。

【技术特征摘要】
2017.03.31 JP 2017-0721341.一种基板液处理装置，具备：处理槽，其容纳处理液和基板；气体喷嘴，其在所述处理槽内的下部喷出气体；以及气体供给部，其向所述气体喷嘴供给所述气体，其中，所述气体喷嘴具有：管状的主体，其以沿着所述处理槽的底面的方式配置；以及喷出孔，其形成为贯通所述主体的内表面与外表面之间，并且开口面积随着从所述内表面侧朝向所述外表面侧而变小。2.根据权利要求1所述的基板液处理装置，其特征在于，还具备气体加热部，所述气体加热部对向所述气体喷嘴供给的所述气体进行加热。3.根据权利要求1或2所述的基板液处理装置，其特征在于，所述主体由不含有硅的材料形成。4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板液处理装置，其特征在于，所述喷出孔设置于所述主体的下部。5.根据权利要求4所述的基板液处理装置，其特征在于，所述主体为圆管状，所述喷出孔设置于从所述主体的管中心的铅垂下方偏离的位置。6.根据权利要求5所述的基板液处理装置，其特征在于，所述喷出孔的位置被设定成包括所述主...

【专利技术属性】
技术研发人员：益富裕之，山下浩司，荒竹英将，田中幸二，土屋孝文，佐藤秀明，石井佑树，稻田尊士，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP