层叠薄膜制造技术

提供具有优异的透湿性及阻气性、并且具有优异的耐化学药品性、透明性、弯曲性及耐热性的层叠薄膜。本发明专利技术的层叠薄膜依次具有：基材；包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层；以及由SiO2构成的第2氧化物层。1个实施方式中，第1氧化物层的厚度为10nm～100nm，第2氧化物层的厚度为10nm～100nm。1个实施方式中，层叠薄膜的透湿度为3.0×10‑2g/m2/24hr以下、可见光的总透光率为84％以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】层叠薄膜
本专利技术涉及层叠薄膜。更详细而言，本专利技术涉及基材上具有2个氧化物层的层叠薄膜。
技术介绍
以往，在图像显示装置(例如液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置)、太阳能电池(例如薄膜型太阳能电池、薄膜太阳能电池)中使用阻隔薄膜。在这种阻隔薄膜的开发中，作为制膜速度快、折射率低、具有良好的阻气性的阻隔薄膜，提出了在Al-Zn-O(添加铝的氧化锌)膜中添加有SiO2的透明氧化物膜(薄膜)(专利文献1)。但是，该透明氧化物膜的耐化学药品性(例如耐酸性、耐碱性)非常不充分，进而，透明性也要求改善。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2013-189657号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术是为解决上述以往的问题而作出的，其目的在于，提供具有优异的透湿性及阻气性、并且具有优异的耐化学药品性、透明性、弯曲性及耐热性的层叠薄膜。用于解决问题的方案本专利技术的层叠薄膜依次具有：基材；包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层；以及由SiO2构成的第2氧化物层。1个实施方式中，上述第1氧化物层的厚度为10nm～100nm。1个实施方式中，上述第2氧化物层的厚度为10nm～本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种层叠薄膜，其依次具有：基材；包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层；以及由SiO2构成的第2氧化物层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.01.29 JP 2016-0165251.一种层叠薄膜，其依次具有：基材；包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层；以及由SiO2构成的第2氧化物层。2.根据权利要求1所述的层叠薄膜，其中，所述第1氧化物层的厚度为10nm～100nm。3.根据权利要求1或2所述的层叠薄膜，其中，所述第2氧化物层的厚度为10nm～10...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫本幸大，梨木智刚，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP