电子设备壳体及其制备方法以及电子设备技术

本发明专利技术提供了电子设备壳体及其制备方法以及电子设备。其中，电子设备壳体包括：基材，所述基材包括铝和铝合金中的至少一种，且所述基材的上表面上具有凹槽，所述凹槽构成第一图案；阳极氧化膜层，所述阳极氧化膜层覆盖所述基材的外表面；镀膜图案，所述镀膜图案设置在所述阳极氧化膜层的上表面上；光学膜层，所述光学膜层设置在所述阳极氧化膜层的上表面上，且覆盖所述镀膜图案。发明专利技术人发现，该电子设备壳体所呈现出的图案比较立体，图案比较多样化，具有金属质感，且可以实现幻彩效果，外观效果丰富，美观好看，可以满足消费者的消费体验。

【技术实现步骤摘要】
电子设备壳体及其制备方法以及电子设备
本专利技术涉及电子设备
，具体的，涉及电子设备壳体及其制备方法以及电子设备。
技术介绍
目前，针对电子设备外壳的表面处理工艺比较单一，使得其外观效果相对有限且同质化严重，多数为单一的雾面或者亮面效果，容易引起消费者的审美疲劳。随着用户对电子设备外壳的表面效果多样化的追求，目前的电子设备外壳已无法满足消费者的需求。因而，目前的电子设备外壳仍有待改进。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种电子设备壳体，其具有立体效果的多层图案、图案叠加之后视觉冲击较强、图案丰富、色彩多变或者可以实现幻彩效果。在本专利技术的一个方面，本专利技术提供了一种电子设备壳体。根据本专利技术的实施例，该电子设备壳体包括：基材，所述基材包括铝和铝合金中的至少一种，且所述基材的上表面上具有凹槽，所述凹槽构成第一图案；阳极氧化膜层，所述阳极氧化膜层覆盖所述基材的外表面；镀膜图案，所述镀膜图案设置在所述阳极氧化膜层的上表面上；光学膜层，所述光学膜层设置在所述阳极氧化膜层的上表面上，且覆盖所述镀膜图案。专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电子设备壳体，其特征在于，包括：基材，所述基材包括铝和铝合金中的至少一种，且所述基材的上表面上具有凹槽，所述凹槽构成第一图案；阳极氧化膜层，所述阳极氧化膜层覆盖所述基材的外表面；镀膜图案，所述镀膜图案设置在所述阳极氧化膜层的上表面上；光学膜层，所述光学膜层设置在所述阳极氧化膜层的上表面上，且覆盖所述镀膜图案。

【技术特征摘要】
1.一种电子设备壳体，其特征在于，包括：基材，所述基材包括铝和铝合金中的至少一种，且所述基材的上表面上具有凹槽，所述凹槽构成第一图案；阳极氧化膜层，所述阳极氧化膜层覆盖所述基材的外表面；镀膜图案，所述镀膜图案设置在所述阳极氧化膜层的上表面上；光学膜层，所述光学膜层设置在所述阳极氧化膜层的上表面上，且覆盖所述镀膜图案。2.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，还包括第一透明层和第二透明层中的至少一种，其中，所述第一透明层设置在所述镀膜图案和所述光学膜层之间，所述第二透明层设置在所述光学膜层的上表面上。3.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，所述第一图案和所述镀膜图案各自独立的包括渐变图案。4.根据权利要求1或3所述的电子设备壳体，其特征在于，所述凹槽的深度不均匀设置。5.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，所述阳极氧化膜层满足以下条件的至少一种：厚度为5-8微米；至少一部分具有渐变颜色。6.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，所述镀膜图案满足以下条件的至少一种：厚度为1-3微米；形成材料包括铟、铝和铟锡合金中的至少之一。7.根据权利要求1所述的电子设备壳体，其特征在于，所述光学膜层满足以下条件的至少一种：厚度在200-400纳米之间；厚度不均匀设置；包括多个自子膜层，且所述多个子膜层的折射率不完全相同。8.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求1-7中任一项所述的电子设备壳体。...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈颖，杨光明，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44