光学模组像素缺陷检测方法、装置及设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种光学模组像素缺陷检测方法、装置及设备，其中，方法包括：对测试二值图在暗室环境下经光学模组所成的像进行灰度化，以得到第一灰度图；从所述第一灰度图中，确定与所述测试二值图中的两个灰度等级对应的第一灰度区域以及第二灰度区域；从所述第一灰度区域以及所述第二灰度区域中，分别确定与各自灰度区域的灰度特征不匹配的像素点，作为像素缺陷点；根据所述像素缺陷点，确定所述光学模组的像素缺陷。本发明专利技术提供的技术方案，能够准确地检测出光学模组的像素缺陷，有利于优化光学模组的加工工艺。

【技术实现步骤摘要】
光学模组像素缺陷检测方法、装置及设备
本专利技术涉及装配
，尤其涉及一种光学模组像素缺陷检测方法、装置及设备。
技术介绍
现如今，市场上存在越来越多的具备独立功能的光学模组，以满足多样化的市场需求。这些光学模组可以嵌入到其他设备中发挥其功能，例如摄像头模组、投影模组、LED(LightEmittingDiode，发光二极管)光学模组以及VR(VirtualReality，虚拟现实)/AR(AugmentedReality，增强现实)光学模组等。但是，由于生产工艺的限制，一些光学模组中可能存在不能正常工作的像素点，这些不能正常工作的像素点被称为像素缺陷。为了进一步优化光学模组的性能，需要对光学模组中的像素缺陷的面积大小进行控制。在这种需求下，一种检测像素缺陷的方法亟待提出。
技术实现思路
本专利技术的多个方面提供一种光学模组像素缺陷检测方法、装置及设备，用以对光学模组的像素缺陷点进行检测。本专利技术提供一种光学模组像素缺陷检测方法，包括：对测试二值图在暗室环境下经光学模组所成的像进行灰度化，以得到第一灰度图；从所述第一灰度图中，确定与所述测试二值图中的两个灰度等级对应的第一灰度区域以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学模组像素缺陷检测方法，其特征在于，包括：对测试二值图在暗室环境下经光学模组所成的像进行灰度化，以得到第一灰度图；从所述第一灰度图中，确定与所述测试二值图中的两个灰度等级对应的第一灰度区域以及第二灰度区域；从所述第一灰度区域以及所述第二灰度区域中，分别确定与各自灰度区域的灰度特征不匹配的像素点，作为像素缺陷点；根据所述像素缺陷点，确定所述光学模组的像素缺陷。

【技术特征摘要】
1.一种光学模组像素缺陷检测方法，其特征在于，包括：对测试二值图在暗室环境下经光学模组所成的像进行灰度化，以得到第一灰度图；从所述第一灰度图中，确定与所述测试二值图中的两个灰度等级对应的第一灰度区域以及第二灰度区域；从所述第一灰度区域以及所述第二灰度区域中，分别确定与各自灰度区域的灰度特征不匹配的像素点，作为像素缺陷点；根据所述像素缺陷点，确定所述光学模组的像素缺陷。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述像素缺陷点，确定所述光学模组的像素缺陷，包括：定位所述像素缺陷点组成的像素缺陷区域的轮廓；根据所述像素缺陷区域的轮廓，计算所述像素缺陷区域的面积以及质心坐标；根据所述像素缺陷区域的面积以及质心坐标，在所述光学模组的显示屏幕上确定所述光学模组的像素缺陷。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，从所述第一灰度图中，确定与所述测试二值图中的两个灰度等级对应的第一灰度区域以及第二灰度区域，包括：逐行分析所述第一灰度图的灰度分布；基于所述灰度分布，确定灰度变化大于设定的灰度对比度的像素点，作为边界像素点；根据所述边界像素点，将所述第一灰度图划分为所述第一灰度区域和所述第二灰度区域。4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其特征在于，所述测试二值图包含：灰度等级为1的白色图样以及灰度等级为0的黑色图样；所述第一灰度区域以及所述第二灰度区域分别为所述测试二值图中的白色图样以及黑色图样在所述第一灰度图上对应的图像区域。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，从所述第一灰度区域以及所述第二灰度区域中，分别确定与各自灰度区域的灰度特征不匹配的像素点，包括：从所述第一灰度区域中，确定灰度值小于第一设定阈值的像素点，作为与所述第一灰度区域的灰度特征不匹配的像素点；以及，从所...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩欣欣，赵志勇，董南京，孙德波，
申请(专利权)人：歌尔股份有限公司，
类型：发明
国别省市：山东,37