基于两个单脊光栅的5×5点阵衍射光栅制造技术

一种基于两个单脊光栅的5×5点阵衍射光栅，该光栅是由两个一维单脊光栅上下排列一体构成，且上层光栅的光栅周期方向与下层光栅的光栅周期方向互相垂直，所述的光栅周期均为1.309微米，上层光栅占空比为0.576～0.611，刻蚀深度为1.008～1.072微米，下层光栅占空比为0.5，刻蚀深度为0.873～0.897微米。当TM偏振光垂直入射时，将产生5×5的点阵，总的衍射角度为80°×80°，总的衍射效率大于93％，并且其均匀性优于8％。本发明专利技术由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，取材方便，造价小，能批量生产，具有重要的实用前景。

【技术实现步骤摘要】
基于两个单脊光栅的5×5点阵衍射光栅
本专利技术涉及点阵衍射元件，尤其是一种用于633纳米波长的TM偏振的基于两个单脊光栅的5×5点阵衍射光栅。
技术介绍
衍射光栅是光学系统的基本元件，在光学系统中有着重要的应用，可以用作光谱仪分光元件、分束器、波长选择器等，在光通信、光信息处理、光计算、全息等系统中有着不可替代的作用。衍射光栅作为点阵衍射元件最常用的是达曼光栅，达曼光栅是基于标量衍射理论设计的，其衍射角小，其余衍射级次多，总衍射效率不高。达曼光栅分束器可作为1×3分束器，最高理论衍射效率仅有68.74％【在先技术1：C,Zhou,andL.Liu,Appl.Opt.34,5961-5969(1995)】。而高密度深刻蚀光栅用于设计制作大衍射角，高效率，均匀性好的点阵衍射元件是非常合适的。通常情况下，根据传统的标量衍射理论，一维单脊光栅不能产生1×5的点阵，当光栅周期稍大于入射波长的两倍的时候，我们可以根据矢量衍射理论设计出合适的光栅结构。在同一个维度上刻蚀的二维光栅在制作上和设计上难度较大，同时分束均匀性和衍射效率不能保证，因此我们提出了基于两个单脊光栅的点阵衍射光栅，制作简单并且本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于633纳米波长的基于两个单脊光栅的5×5点阵衍射光栅，其特征在于该光栅是由两个一维单脊光栅上下排列一体构成，且上层光栅的光栅周期方向与下层光栅的光栅周期方向互相垂直，所述的光栅周期均为1.309微米，上层光栅占空比为0.576～0.611，刻蚀深度为1.008～1.072微米，下层光栅占空比为0.5，刻蚀深度为0.873～0.897微米。

【技术特征摘要】
1.一种用于633纳米波长的基于两个单脊光栅的5×5点阵衍射光栅，其特征在于该光栅是由两个一维单脊光栅上下排列一体构成，且上层光栅的光栅周期方向与下层光栅的光栅周期方向互相垂直，所述的光栅周期均为1.309微米，上层光栅占空比为0.576～0.611，刻蚀深度为1....

【专利技术属性】
技术研发人员：周常河，鲁云开，项长铖，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：上海,31