处理气体中污染物的等离子体设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种处理气体中污染物的等离子体设备，包括：处理腔以及若干电极，若干电极分布式地固定于处理腔的内壁上，用于产生等离子体以对流经所述处理腔的待处理的气体进行等离子体处理以降解气体中的污染物；其中，每个电极均包括基底、柱状结构阵列以及针状结构阵列，柱状结构阵列形成在基底上，柱状结构阵列包括若干柱状结构；针状结构阵列形成在若干柱状结构外的基底上以及若干柱状结构的底部，针状结构阵列包括若干针状结构。通过在处理腔内设置分布式的电极，利用分布式的电极来取代现有的一体式电极，提高了电极周围的电场中产生等离子体的效率，进而提高了等离子体处理气体中污染物的效率。

Plasma equipment for treating pollutants in gases

The utility model discloses a plasma device for treating pollutants in gases, which comprises a treatment chamber and a number of electrodes, which are distributed and fixed on the inner wall of the treatment chamber for producing plasma for plasma treatment of the treated gases flowing through the treatment chamber to degrade pollution in gases. Each electrode consists of a substrate, a columnar structure array and a needle structure array. The columnar structure array is formed on the substrate, and the columnar structure array comprises a number of columnar structures; the needle structure array is formed on a substrate outside a number of columnar structures and on the bottom of a number of columnar structures; and the needle structure array includes if. Dry needle structure. By installing distributed electrodes in the treatment chamber and using distributed electrodes to replace the existing integrated electrodes, the efficiency of plasma generation in the electric field around the electrodes is improved, and the efficiency of plasma treatment of pollutants in gases is improved.

【技术实现步骤摘要】
处理气体中污染物的等离子体设备
本技术涉及等离子
，尤其涉及一种处理气体中污染物的等离子体设备。
技术介绍
随着我国工业化程度的日益提高，所产生的气体污染也日益严重，尤其是在挥发性有机物(VOCs，volatileorganiccompounds)方面。与之前以火力发电厂集中、大量的含硫含硝的污染物气体不同，挥发性有机物污染气体有排放分散无序、污染物成分复杂、整体浓度较低等技术特点，造成了企业治理和政府管理上很大的困难。现有的处理气体中VOCs的方法主要集中在蓄热式热力焚化法和蓄热式催化燃烧法两种方式上。蓄热式热力焚化法(RegenerativeThermalOxidization，RTO)，其原理是加热有机废气到760摄氏度以上，使废气中的VOCs氧化分解，所产生的高温气体流经并加热陶瓷蓄热体而蓄热，可用于预热后续进入的有机废气以节省燃料消耗，常见于中低浓度VOCs的分解。蓄热式催化燃烧法(RegenerativeCatalyticOxidation，RCO)，具有RTO高效回收热能的特点和催化反应的低温工作的优点，将催化剂置于蓄热材料上方，在200多摄氏度的低温下即可氧化废本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，包括：处理腔，具有气流入口端及气流出口端，待处理的气体从气流入口端进入，从气流出口端流出；若干电极，分布式地固定于所述处理腔的内壁，所述若干电极用于产生等离子体以对流经所述处理腔的待处理的气体进行等离子体处理以降解气体中的污染物；其中，每个电极均包括基底、柱状结构阵列以及针状结构阵列，所述柱状结构阵列形成在所述基底上，所述柱状结构阵列包括若干柱状结构；所述针状结构阵列形成在所述若干柱状结构外的所述基底上以及所述若干柱状结构的底部，所述针状结构阵列包括若干针状结构。

【技术特征摘要】
1.一种处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，包括：处理腔，具有气流入口端及气流出口端，待处理的气体从气流入口端进入，从气流出口端流出；若干电极，分布式地固定于所述处理腔的内壁，所述若干电极用于产生等离子体以对流经所述处理腔的待处理的气体进行等离子体处理以降解气体中的污染物；其中，每个电极均包括基底、柱状结构阵列以及针状结构阵列，所述柱状结构阵列形成在所述基底上，所述柱状结构阵列包括若干柱状结构；所述针状结构阵列形成在所述若干柱状结构外的所述基底上以及所述若干柱状结构的底部，所述针状结构阵列包括若干针状结构。2.如权利要求1所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，每个电极独立地接入外部驱动电路，以独立地由外部电路控制产生等离子体。3.如权利要求2所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，该设备还包括气体传感器，设置在所述处理腔内，用于实时采集所述处理腔内的气体的浓度信息，并将采集到的气体的浓度信息反馈给外部控制电路；所述外部控制电路根据接收到的气体的浓度信息调整所述外部驱动电路的驱动参数。4.如权利要求3所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，所述处理腔的气流入口端以及气流出口端均设置有所述气体传感器。5.如权利要求3或4所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，所述若干电极中的部分电极还接入外部传感驱动信号，用作所述气体传感器。6.如权利要求1所述的处理气体中污...

【专利技术属性】
技术研发人员：王雨化，
申请(专利权)人：上海睿筑环境科技有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31