The invention provides a color filter substrate and a manufacturing method thereof and a WOLED display. The color filter substrate of the invention comprises a substrate, a pixel definition layer and a plurality of filter patterns. A plurality of openings corresponding to a plurality of sub-pixel areas are arranged on the pixel definition layer, and a plurality of filter patterns are arranged on the substrate in a plurality of openings of the pixel definition layer. Each filter pattern includes a quantum dot layer and a filter arranged sequentially on the substrate. Layer. The color filter substrate of the invention needs only one lithography process to make an opening when it is fabricated, and the quantum dot layer and the filter layer of the filter pattern can be fabricated in the opening by solution film forming, thus effectively simplifying the process and improving the production efficiency, and the color filter substrate is applied to the WOLED display. It can effectively improve the luminous efficiency and color gamut of WOLED display and improve the quality of products.
【技术实现步骤摘要】
彩色滤光基板及其制作方法与WOLED显示器
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种彩色滤光基板及其制作方法与WOLED显示器。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)显示器,也称为有机电致发光显示器,是一种新兴的平板显示器,由于其具有制备工艺简单、成本低、功耗低、发光亮度高、工作温度适应范围广、体积轻薄、响应速度快,而且易于实现彩色显示和大屏幕显示、易于实现和集成电路驱动器相匹配、易于实现柔性显示等优点,因而具有广阔的应用前景。OLED按照驱动方式可以分为无源矩阵型OLED(PassiveMatrixOLED,PMOLED)和有源矩阵型OLED(ActiveMatrixOLED,AMOLED)两大类,即直接寻址和薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT)矩阵寻址两类。其中,AMOLED具有呈阵列式排布的像素,属于主动显示类型,发光效能高,通常用作高清晰度的大尺寸显示器。OLED通常包括:基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的空穴注入层(HoleInjectLayer,HIL)、设于空穴注入层上的空穴传输层(HoleTransportLayer,HTL)、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层(ElectronTransportLayer,ETL)、设于电子传输层上的电子注入层(ElectronInjectLayer,EIL)、及设于电子注入层上的阴极。OLED显示器件的发光原理为半导体材料和有机发光材料在电场驱动下,通过载流子注入和复合导致发光。具体的,OLED显示器件通常采用 ...
【技术保护点】
1.一种彩色滤光基板,其特征在于,包括:衬底(10);所述衬底(10)上设有多个子像素区(11);设于所述衬底(10)上的像素定义层(20);所述像素定义层(20)上对应多个子像素区(11)设有多个开口(21);以及于所述像素定义层(20)的多个开口(21)内设置在衬底(10)上的多个滤光图案(30);每一滤光图案(30)均包括于衬底(10)上依次设置的量子点层(31)及滤光层(32);所述量子点层(31)包括量子点材料。
【技术特征摘要】
1.一种彩色滤光基板,其特征在于,包括:衬底(10);所述衬底(10)上设有多个子像素区(11);设于所述衬底(10)上的像素定义层(20);所述像素定义层(20)上对应多个子像素区(11)设有多个开口(21);以及于所述像素定义层(20)的多个开口(21)内设置在衬底(10)上的多个滤光图案(30);每一滤光图案(30)均包括于衬底(10)上依次设置的量子点层(31)及滤光层(32);所述量子点层(31)包括量子点材料。2.如权利要求1所述的彩色滤光基板,其特征在于,还包括设于所述衬底(10)上且覆盖像素定义层(20)及滤光图案(30)的封装薄膜(40)。3.如权利要求1所述的彩色滤光基板,其特征在于,每一滤光图案(30)还包括设于量子点层(31)与衬底(10)之间的第一锚定层(33)以及设于滤光层(32)与量子点层(31)之间的第二锚定层(34)。4.如权利要求2所述的彩色滤光基板,其特征在于,所述第一锚定层(33)及第二锚定层(34)的材料均包括稀酸;所述像素定义层(20)的材料为光刻胶。5.如权利要求1所述的彩色滤光基板,其特征在于,所述量子点层(31)及滤光层(32)均通过溶液成膜的方式制作在像素定义层(20)的开口(21)内。6.一种彩色滤光基板的制作方法,其特征在于,包括:提供衬底(10);所述衬底(10)上设有多个子像素区(11);在所述衬底(10)上涂布光刻胶并进行曝光显影制程,在所述衬底...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄辉,
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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